Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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2.391 gesamt| Patent | |||
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19.08.2026
Wartung von Mehrschichtigen Optischen Komponenten
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Zusammenfassung
A method of maintenance for a multilayer optical component. The multilayer optical component is configured for use with a lithographic process and comprises at least a first layer and a second layer adjacent to the first layer. The method comprises irradiating, with first ions, a region of the first layer such that particles are ejected from the first layer. The first ions have an energy at or above a sputter threshold of the first layer and the energy is below a sputter threshold of the second layer. |
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17.06.2026
Verfahren und Vorrichtung zum Spülen einer Abtragsfront
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Zusammenfassung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Spülen einer Abtragsfront (4) an einer durch materialabtragende Bearbeitung gebildeten Hohlstruktur (2) in einem Werkstück, bevorzugt in einem Substrat für einen EUV-Spiegel, umfassend: Zuführen eines Fluids (6) zu der Abtragsfront (4) mittels einer bevorzugt flexiblen Fluidzuführung (7). Bei dem Verfahren weist die Fluidzuführung (7) zum Zuführen des Fluids (6) zu der Abtragsfront (4) und/oder zum Abführen des Fluids (6) von der Abtragsfront (4) mindestens eine in mindestens einer Raumrichtung periodische Außenstruktur, bevorzugt eine helixförmige Außenstruktur (9a,b) auf. Die Erfindung betrifft auch eine zugehörige Vorrichtung zum Spülen einer Abtragsfront (4). |
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10.06.2026
Spiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem Gitterstruktur und Verfahren zur Herstellung eines Spektralfilters
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.11.2019
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
A mirror for an illumination optical unit (4) of a projection exposure apparatus (1) comprises a spectral filter in the form of a grating structure (30), wherein the grating structure (30) has a maximum edge steepness (b) in the range of 15° to 60°. |
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11.03.2026
Verfahren zum Auswerten von Messwerten einer Aberration eines Projektionsobjektivs
Optik & Fototechnik
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11.03.2026
Vorrichtung und Verfahren für ein Rastersondenmikroskop
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2018
Anhängig
Vertretung
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11.03.2026
Pupillenfacettenspiegel, Beleuchtungsoptik und Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2018
Erteilt am 11.03.2026
Vertretung
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04.03.2026
Verfahren zur Nachbearbeitung und zur Handhabung von Mems-Chips
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04.03.2026
Vorrichtung und Verfahren zur Überprüfung eines Bauteils und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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04.03.2026
Einzelspiegel für einen Facettenspiegel einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.04.2024
Anhängig
Vertretung
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11.02.2026
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2024
Anhängig
Vertretung
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11.02.2026
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2024
Anhängig
Vertretung
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11.02.2026
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2024
Anhängig
Vertretung
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11.02.2026
Verfahren zur Herstellung einer Mems-Spiegelanordnung und Mems-Spiegelanordnung
Optik & Fototechnik
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05.02.2026
Verfahren zur Herstellung eines Optischen Prüfelements zur Ermittlung eines Passformfehlers einer Optischen Oberfläche
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.07.2025
Anhängig
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05.02.2026
Optische Baugruppe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.07.2025
Anhängig
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05.02.2026
Optische Baugruppe mit Poröser Partikelfangstruktur und Anlage der Halbleitertechnologie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2025
Anhängig
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04.02.2026
Vorrichtung zum Positionieren und Halten Zumindest eines Optischen Elements, Messsystem
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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29.01.2026
Vorrichtung zum Einschwenken einer Optischen Komponente in einen Strahlengang einer Anlage für die Halbleitertechnologie und Anlage für die Halbleitertechnologie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.07.2025
Anhängig
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29.01.2026
Tdi camera synchronization for mask inspection system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.07.2024
Anhängig
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29.01.2026
Verfahren zum Verringern einer Langzeit-Veränderung einer Passe, Optisches Element und Anlage der Halbleitertechnologie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.06.2025
Anhängig
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29.01.2026
Werkstück für eine Anlage der Halbleitertechnologie, Anlage für die Halbleitertechnologie, Verfahren zur Herstellung eines Werkstückes
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.07.2025
Anhängig
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29.01.2026
Apparatus for inspecting an object pertaining to euv semiconductor technology
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.07.2025
Anhängig
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29.01.2026
Optical measuring arrangement for recording distances
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 15.07.2025
Anhängig
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28.01.2026
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen von Lageparametern Und/oder Bewegungsparametern einer Flexiblen Fluidleitung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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22.01.2026
Method of operating a dual beam device and corresponding apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.07.2025
Anhängig
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21.01.2026
Vorrichtung zum Verändern einer Form einer Oberfläche eines Objekts
Steuerungs- & Regelungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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15.01.2026
Ansteuervorrichtung, Optisches System und Lithographieanlage
Elektrische Energietechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.07.2025
Anhängig
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14.01.2026
Spiegel und Euv-Lithographiesystem
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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08.01.2026
Optical element including at least one smoothing layer and optical arrangement
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.06.2025
Anhängig
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08.01.2026
Element zur Verwendung in einem Mikro-Elektro-Mechanischen System und Mikro-Elektro-Mechanisches System
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.07.2025
Anhängig
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07.01.2026
Verfahren zum Erzeugen mindestens einer Hohlstruktur, Spiegel und Euv-Lithographiesystem
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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02.01.2026
Optisches System, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.05.2025
Anhängig
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02.01.2026
Simulation-based defect and repair shape determination for an object for lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.06.2025
Anhängig
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02.01.2026
Method and system for evaluating the quality of a photolithography mask
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.06.2025
Anhängig
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26.12.2025
Optical system and projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2025
Anhängig
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26.12.2025
3d inspection of buried regions of interest with reduced milling artefacts
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.06.2025
Anhängig
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26.12.2025
Temperiervorrichtung zum Temperieren einer Positionssensitiven Komponente einer Lithographieanlage, Lithographieanlage und Verfahren zum Herstellen einer Temperiervorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.06.2025
Anhängig
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24.12.2025
Messverfahren zur Interferometrischen Bestimmung einer Oberflächenform
Kunststoff- & Polymertechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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24.12.2025
Optisches Element zur Reflexion von Strahlung im Vuv-Wellenlängenbereich
Optik & Fototechnik
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18.12.2025
Messvorrichtung, Lithographieanlage und Verfahren zum Kalibrieren einer Messvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 04.06.2025
Anhängig
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Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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