Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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22.01.2009
Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 09.07.2008
Anhängig
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15.01.2009
Method of measuring a deviation of an actual shape from a target shape of an optical surface
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Angemeldet am 06.07.2007
Anhängig
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15.01.2009
Method of measuring a deviation an optical surface from a target shape
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 09.07.2007
Anhängig
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15.01.2009
Method of measuring a deviation of an optical surface from a target shape
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 08.07.2008
Anhängig
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15.01.2009
Optical element and method of calibrating a measuring apparatus comprising a wave shaping structure
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 08.07.2008
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14.01.2009
Verwendung eines Beleuchtungssystems für die Euv-Lithografie
Optik & Fototechnik
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14.01.2009
Optisches Projektionssystem
Optik & Fototechnik
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07.01.2009
Projektionsbelichtungssystem und Verwendung Desselben
Optik & Fototechnik
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24.12.2008
Optisches Mikrolithographie-Projektionssystem und Verfahren zur Herstellung einer Entsprechenden Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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18.12.2008
Projection exposure system for microlithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.06.2008
Anhängig
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17.12.2008
Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung und Überwachung einer Position eines Halteelements
Steuerungs- & Regelungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.12.2008
Reflektierendes Optisches Element mit Exzentrischem Optischem Durchgang
Optik & Fototechnik
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11.12.2008
Methods for producing an antireflection surface on an optical element, optical element and associated optical arrangement
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.05.2008
Anhängig
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11.12.2008
Reflective optical element and method for operating an euv lithography device
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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04.12.2008
Beleuchtungssystem mit wenigstens einem Akustoptischen Spiegel
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 20.05.2008
Anhängig
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04.12.2008
Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.05.2008
Anhängig
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03.12.2008
Projektionsobjektiv für die Lithographie
Optik & Fototechnik
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20.11.2008
Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.05.2008
Anhängig
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06.11.2008
Mirror matrix for a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 25.04.2008
Anhängig
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06.11.2008
Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 25.04.2008
Anhängig
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05.11.2008
Verfahren zum Ausrichten eines Optischen Systems
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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22.10.2008
Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Abbildungsfehlern
Optik & Fototechnik
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16.10.2008
Optical element module with imaging error and position correction
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.04.2007
Anhängig
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16.10.2008
Optical element module with imaging error and position correction
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.04.2008
Anhängig
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16.10.2008
Optical correction element and method for the correction of temperature-induced imaging aberrations in optical systems, projection objective and projection exposure apparatus for semiconductor lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.04.2008
Anhängig
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09.10.2008
Support for a component of an optical device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2007
Anhängig
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09.10.2008
Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.03.2008
Anhängig
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02.10.2008
Microlithographic method
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.03.2007
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02.10.2008
Korrektur Optischer Elemente mittels Flach Eingestrahltem Korrekturlicht
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.03.2008
Anhängig
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25.09.2008
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Elements mit mindestens einer Freiformfläche mit Hoher Formgenauigkeit und Geringer Oberflächenrauhigkeit
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 20.03.2008
Anhängig
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25.09.2008
Verfahren zum Verbessern von Abbildungseigenschaften eines Optischen Systems sowie Derartiges Optisches System
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 20.03.2008
Anhängig
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18.09.2008
Optical Imaging Arrangement
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 15.03.2007
Anhängig
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18.09.2008
Diffractive component, interferometer arrangement, method for qualifying a dual diffraction grating, method of manufacturing an optical element, and interferometric method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2008
Anhängig
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18.09.2008
Projektionsobjektiv einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.03.2008
Anhängig
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17.09.2008
Projektionsobjektiv mit Dezentralisierter Steuerung
Optik & Fototechnik
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12.09.2008
Verfahren zur Messung der Ausgasung sowie Euv-Lithographievorrichtung und Messaufbau
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 03.03.2008
Anhängig
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12.09.2008
Verfahren zum Reinigen einer Euv-Lithographievorrichtung, Verfahren zur Messung der Restgasatmosphäre Bzw. der Kontamination sowie Euv-Lithographievorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2008
Anhängig
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04.09.2008
Optical Imaging Arrangement
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.02.2007
Anhängig
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04.09.2008
Catadioptric projection objective with pupil correction
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2007
Anhängig
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04.09.2008
Abbildungsvorrichtung mit Auswechselbaren Blenden sowie Verfahren Hierzu
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 22.02.2008
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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