Carl Zeiss SMT Logo

Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

1.949 gesamt
Patent
22.01.2009
Projektionsobjektiv
Optik & Fototechnik
15.01.2009
Method of measuring a deviation of an actual shape from a target shape of an optical surface
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
15.01.2009
Method of measuring a deviation an optical surface from a target shape
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
15.01.2009
Method of measuring a deviation of an optical surface from a target shape
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
15.01.2009
Optical element and method of calibrating a measuring apparatus comprising a wave shaping structure
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
14.01.2009
Verwendung eines Beleuchtungssystems für die Euv-Lithografie
Optik & Fototechnik
14.01.2009
Optisches Projektionssystem
Optik & Fototechnik
07.01.2009
Projektionsbelichtungssystem und Verwendung Desselben
Optik & Fototechnik
24.12.2008
Optisches Mikrolithographie-Projektionssystem und Verfahren zur Herstellung einer Entsprechenden Vorrichtung
Optik & Fototechnik
18.12.2008
Projection exposure system for microlithography
Optik & Fototechnik
17.12.2008
Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung und Überwachung einer Position eines Halteelements
Steuerungs- & Regelungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.12.2008
Reflektierendes Optisches Element mit Exzentrischem Optischem Durchgang
Optik & Fototechnik
11.12.2008
Methods for producing an antireflection surface on an optical element, optical element and associated optical arrangement
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
11.12.2008
Reflective optical element and method for operating an euv lithography device
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
04.12.2008
Beleuchtungssystem mit wenigstens einem Akustoptischen Spiegel
Optik & Fototechnik
04.12.2008
Projection objective for microlithography, microlithography projection exposure apparatus with said projection objective, microlithographic manufacturing method for components, as well as a component manufactured with said method
Optik & Fototechnik
03.12.2008
Projektionsobjektiv für die Lithographie
Optik & Fototechnik
20.11.2008
Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
06.11.2008
Mirror matrix for a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
06.11.2008
Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic exposure apparatus
Optik & Fototechnik
05.11.2008
Verfahren zum Ausrichten eines Optischen Systems
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.10.2008
Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Abbildungsfehlern
Optik & Fototechnik
16.10.2008
Optical element module with imaging error and position correction
Optik & Fototechnik
16.10.2008
Optical element module with imaging error and position correction
Optik & Fototechnik
16.10.2008
Optical correction element and method for the correction of temperature-induced imaging aberrations in optical systems, projection objective and projection exposure apparatus for semiconductor lithography
Optik & Fototechnik
09.10.2008
Support for a component of an optical device
Optik & Fototechnik
09.10.2008
Optical system, in particular illumination device or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
02.10.2008
Microlithographic method
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2008
Korrektur Optischer Elemente mittels Flach Eingestrahltem Korrekturlicht
Optik & Fototechnik
25.09.2008
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Elements mit mindestens einer Freiformfläche mit Hoher Formgenauigkeit und Geringer Oberflächenrauhigkeit
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
25.09.2008
Verfahren zum Verbessern von Abbildungseigenschaften eines Optischen Systems sowie Derartiges Optisches System
Optik & Fototechnik
18.09.2008
Optical Imaging Arrangement
Optik & Fototechnik
18.09.2008
Diffractive component, interferometer arrangement, method for qualifying a dual diffraction grating, method of manufacturing an optical element, and interferometric method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.09.2008
Projektionsobjektiv einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
17.09.2008
Projektionsobjektiv mit Dezentralisierter Steuerung
Optik & Fototechnik
12.09.2008
Verfahren zur Messung der Ausgasung sowie Euv-Lithographievorrichtung und Messaufbau
Optik & Fototechnik
12.09.2008
Verfahren zum Reinigen einer Euv-Lithographievorrichtung, Verfahren zur Messung der Restgasatmosphäre Bzw. der Kontamination sowie Euv-Lithographievorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.09.2008
Optical Imaging Arrangement
Optik & Fototechnik
04.09.2008
Catadioptric projection objective with pupil correction
Optik & Fototechnik
04.09.2008
Abbildungsvorrichtung mit Auswechselbaren Blenden sowie Verfahren Hierzu
Optik & Fototechnik

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen