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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
03.09.2008
Projektionsobjektiv eines Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgeräts
EP1963921
Optik & Fototechnik
28.08.2008
Optical element with multiple primary light sources
WO2008101664
Optik & Fototechnik
28.08.2008
Catadioptric Projection Objective
WO2008101676
Optik & Fototechnik
20.08.2008
Lithografieobjektiv mit Auswechselvorrichtung für ein Optisches Element und Herstellungsverfahren mittels Dieses Lithografieobjektives
EP1700167
Optik & Fototechnik
20.08.2008
Projektionsobjektiv zur Vergrösserung von Einheiten
EP1959289
Optik & Fototechnik
06.08.2008
Catadioptrisches Projektionsobjektiv
EP1709472
Optik & Fototechnik
31.07.2008
Irradiation strength distribution measuring apparatus and method of measuring
WO2008089898
Optik & Fototechnik
31.07.2008
Method for operating an immersion lithography apparatus
WO2008089990
Optik & Fototechnik
30.07.2008
Abbildende Optik, Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, durch das Herstellungsverfahren gefertigtes mikrostrukturiertes Bauelement sowie Verwendung einer derartigen abbildenden Optik
EP1950594
Optik & Fototechnik
30.07.2008
Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographische Projektionsbelichtungsvorrichtung
EP1754110
Optik & Fototechnik
24.07.2008
Projection exposure method and projection exposure system therefor
WO2008086827
Optik & Fototechnik
16.07.2008
Verfahren für den Betrieb eines EUV-Lithografiegeräts und EUV-Lithografiegerät
EP1944652
Optik & Fototechnik
16.07.2008
Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Belichtungsanlage
EP1944653
Optik & Fototechnik
10.07.2008
Catadioptric projection objective with tilted deflecting mirrors, projection exposure apparatus, projection exposure method, and mirror
WO2008080534
Optik & Fototechnik
10.07.2008
Projektionsobjektiv für die Lithographie
WO2008080537
Optik & Fototechnik
03.07.2008
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
WO2008078993
Optik & Fototechnik
02.07.2008
Optische Abbildungsvorrichtung
EP1857882
Optik & Fototechnik
02.07.2008
Optisches Element für Strahlung im EUV- und/oder weichen Röntgenwellenlängenbereich und ein optisches System mit mindestens einem optischen Element
EP1727158
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
26.06.2008
Optical system, in particular an illumination system or projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2008074673
Optik & Fototechnik
26.06.2008
Transmitting Optical Element
WO2008074503
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
25.06.2008
Katadioptrisches optisches System und katadioptrisches optisches Element
EP1936421
Optik & Fototechnik
18.06.2008
Vorrichtung und Verfahren zur Beeinflussung der Polarisationsverteilung in einem Optischen System, insbesondere in einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP1932061
Optik & Fototechnik
18.06.2008
Lithographische Vorrichtung
EP1932062
Optik & Fototechnik
11.06.2008
Projektionsobjektive mit Spiegelelementen mit Reflexbeschichtungen
EP1930771
Optik & Fototechnik
05.06.2008
Method of manufacturing a projection objective and projection objective manufactured by that method
WO2008064845
Optik & Fototechnik
04.06.2008
Projektionsobjektiv mit konjugierten Pupillen
EP1927891
Optik & Fototechnik
04.06.2008
Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs und mit diesem Verfahren hergestelltes Projektionsobjektiv
EP1927890
Optik & Fototechnik
29.05.2008
Beleuchtungsoptik für die Projektions-Mikrolithografie sowie Mess- und Überwachungsverfahren für eine Derartige Beleuchtungsoptik
WO2008061681
Optik & Fototechnik
29.05.2008
Verfahren zum Entfernen von Kontaminationen auf Optischen Oberflächen und Optische Anordnung
WO2008061690
Optik & Fototechnik
28.05.2008
Optisches System eines Mikrolithographischen Belichtungssystems
EP1924890
Optik & Fototechnik
21.05.2008
Belichtungsverfahren sowie Projektions-Belichtungssystem zur Ausführung des Verfahrens
EP1668420
Optik & Fototechnik
14.05.2008
Optische Vorrichtung mit kinematischen Komponenten zur Manipulation beziehungsweise Positionsbestimmung
EP1921480
Optik & Fototechnik
07.05.2008
Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften mehrerer optischer Elemente
EP1296191
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.05.2008
Verfahren und Vorrichtung zum Verbinden eines Optischen Elementes mit einer Fassung
WO2008049574
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
02.05.2008
Verfahren und Vorrichtung zum Austausch von Objektivteilen
WO2008049926
Optik & Fototechnik
17.04.2008
Lithographic apparatus, and device manufacturing method
WO2008044925
Optik & Fototechnik
17.04.2008
Kompaktes 3-Spiegel-Objektiv
WO2008043433
Optik & Fototechnik
17.04.2008
Cleaning method, apparatus and cleaning system
WO2008044924
Optik & Fototechnik
10.04.2008
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2008040410
Optik & Fototechnik
10.04.2008
Method for improving the imaging properties of an optical system, and such an optical system
WO2008040494
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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