Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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17.06.2026
Verfahren und Vorrichtung zum Spülen einer Abtragsfront
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Zusammenfassung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Spülen einer Abtragsfront (4) an einer durch materialabtragende Bearbeitung gebildeten Hohlstruktur (2) in einem Werkstück, bevorzugt in einem Substrat für einen EUV-Spiegel, umfassend: Zuführen eines Fluids (6) zu der Abtragsfront (4) mittels einer bevorzugt flexiblen Fluidzuführung (7). Bei dem Verfahren weist die Fluidzuführung (7) zum Zuführen des Fluids (6) zu der Abtragsfront (4) und/oder zum Abführen des Fluids (6) von der Abtragsfront (4) mindestens eine in mindestens einer Raumrichtung periodische Außenstruktur, bevorzugt eine helixförmige Außenstruktur (9a,b) auf. Die Erfindung betrifft auch eine zugehörige Vorrichtung zum Spülen einer Abtragsfront (4). |
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10.06.2026
Spiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem Gitterstruktur und Verfahren zur Herstellung eines Spektralfilters
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Status
Angemeldet am 25.11.2019
Anhängig
Vertretung
Zusammenfassung
A mirror for an illumination optical unit (4) of a projection exposure apparatus (1) comprises a spectral filter in the form of a grating structure (30), wherein the grating structure (30) has a maximum edge steepness (b) in the range of 15° to 60°. |
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11.03.2026
Verfahren zum Auswerten von Messwerten einer Aberration eines Projektionsobjektivs
Optik & Fototechnik
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11.03.2026
Vorrichtung und Verfahren für ein Rastersondenmikroskop
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2018
Anhängig
Vertretung
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11.03.2026
Pupillenfacettenspiegel, Beleuchtungsoptik und Optisches System für eine Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2018
Erteilt am 11.03.2026
Vertretung
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04.03.2026
Verfahren zur Nachbearbeitung und zur Handhabung von Mems-Chips
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04.03.2026
Vorrichtung und Verfahren zur Überprüfung eines Bauteils und Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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04.03.2026
Einzelspiegel für einen Facettenspiegel einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.04.2024
Anhängig
Vertretung
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11.02.2026
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2024
Anhängig
Vertretung
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11.02.2026
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2024
Anhängig
Vertretung
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11.02.2026
Bildgebende Euv-Optik zum Abbilden eines Objektfeldes in ein Bildfeld
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2024
Anhängig
Vertretung
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11.02.2026
Verfahren zur Herstellung einer Mems-Spiegelanordnung und Mems-Spiegelanordnung
Optik & Fototechnik
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04.02.2026
Vorrichtung zum Positionieren und Halten Zumindest eines Optischen Elements, Messsystem
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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28.01.2026
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen von Lageparametern Und/oder Bewegungsparametern einer Flexiblen Fluidleitung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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21.01.2026
Vorrichtung zum Verändern einer Form einer Oberfläche eines Objekts
Steuerungs- & Regelungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.01.2026
Spiegel und Euv-Lithographiesystem
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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07.01.2026
Verfahren zum Erzeugen mindestens einer Hohlstruktur, Spiegel und Euv-Lithographiesystem
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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24.12.2025
Messverfahren zur Interferometrischen Bestimmung einer Oberflächenform
Kunststoff- & Polymertechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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24.12.2025
Optisches Element zur Reflexion von Strahlung im Vuv-Wellenlängenbereich
Optik & Fototechnik
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17.12.2025
Vorrichtung und Verfahren zur Strahlwinkelmessung eines von einer Strahlführungsoptik Geführten Lichtstrahls
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.08.2019
Erteilt am 17.12.2025
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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10.12.2025
Computerimplementiertes Verfahren zur Erkennung von Defekten in einem Abbildungsdatensatz eines Objekts
Software & Datenverarbeitung
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03.12.2025
Verfahren zum Herstellen einer Spiegelanordnung, sowie Beschichtungsanlage
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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03.12.2025
Chromatisch Korrigierte Optische Abbildungseinheit zur Verwendung in einem Lithographischen Projektionsbelichtungsapparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.01.2024
Anhängig
Vertretung
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03.12.2025
Verfahren und Vorrichtungen zum Berührungslosen Einstellen einer Elektrostatischen Ladung einer Probe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.01.2024
Anhängig
Vertretung
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03.12.2025
Verfahren zur Kalibrierung eines Optischen Messsystems und zur Implementierung des Verfahrens Angepasstes System
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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26.11.2025
Verfahren zur Kalibrierung einer Beleuchtungsoptik
Optik & Fototechnik
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19.11.2025
Verfahren zur Herstellung eines Reflektiven Optischen Elements und Reflektives Optisches Element
Optik & Fototechnik
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19.11.2025
Verfahren zur Herstellung eines Moduls für die Halbleiterlithographie und Modul für die Halbleiterlithographie
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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19.11.2025
Vorrichtung und Verfahren für ein Rastersondenmikroskop
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2018
Erteilt am 19.11.2025
Vertretung
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12.11.2025
Verfahren zum Herstellen eines Spiegels
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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05.11.2025
Verfahren zur Herstellung eines Spiegels für eine Lithographieanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.03.2022
Erteilt am 05.11.2025
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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05.11.2025
Optische Beugungskomponente
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 20.07.2020
Erteilt am 05.11.2025
Vertretung
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05.11.2025
Computerimplementiertes Verfahren, Computerlesbares Medium, Computerprogrammprodukt und Entsprechende Systeme zur Erzeugung von Luftbildern von Photolithographiemasken
Optik & Fototechnik
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29.10.2025
Schwingungsisolator zum Unterstützen einer Nutzlast
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Zusammenfassung
A vibration isolator (10) for supporting a payload and isolating the payload from vibrations comprises: a pressurized gas compartment (24) formed with a rigid base structure (28), which base structure has an opening (32) covered with a flexible membrane (20) having an inner surface (21) facing into the gas compartment and an outer surface (22) facing in the opposite direction, a support member (12) for supporting the payload, which support member is arranged in contact with the outer surface (22) of the membrane, and a clamping member (62) arranged at the inner surface (21) of the membrane, wherein the support member and the clamping member form a clamping system (66), which system comprises at least one magnetic element (64) effecting the membrane to be pressed against the support member. |
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29.10.2025
Euv-Kollektor
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.12.2023
Anhängig
Vertretung
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22.10.2025
Verfahren zur Herstellung eines Spiegels einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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15.10.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung einer Ausrichtung einer Photomaske auf einem um mindestens eine Achse Drehbaren Probentisch
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.07.2021
Anhängig
Vertretung
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15.10.2025
Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung eines Photonischen Elements durch Gleichzeitige Verwendung Zweier Laser-Direktschreibstrahlen
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.04.2024
Anhängig
Vertretung
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15.10.2025
Beleuchtungssystem für die Euv-Projektionslithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2014
Erteilt am 15.10.2025
Vertretung
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15.10.2025
Antriebsvorrichtung, Optisches System und Lithographievorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 20.04.2021
Erteilt am 15.10.2025
Vertretung
HKW Intellectual Property PartG mbB · München
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