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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
26.08.2009
Optische Abbildungsvorrichtung, inbesondere Objektiv, mit wenigstens einer Systemblende
EP1102103
Optik & Fototechnik
20.08.2009
Optcal system for a microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method
WO2009100862
Optik & Fototechnik
19.08.2009
Polarisierte Strahlung in einem lithografischen Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1677152
Optik & Fototechnik
06.08.2009
Illumination optics and projection exposure apparatus
WO2009095052
Optik & Fototechnik
05.08.2009
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
EP2085824
Optik & Fototechnik
23.07.2009
Projection exposure system for microlithography with a measurement device
WO2009089999
Optik & Fototechnik
23.07.2009
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2009090007
Optik & Fototechnik
09.07.2009
Optical device comprising a spring device with a range of constant spring force
WO2009083476
Optik & Fototechnik
11.06.2009
Vorrichtung und Verfahren zur Bearbeitung von Optischen Elementen mittels Laserablation
WO2009071421
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
10.06.2009
Schutzobjektiv für eine Mikrolithographie-Vorrichtung mit Verbesserten Abbildungseigenschaften sowie Verfahren zur Verbesserung der Abbildungseigenschaften des Schutzobjektivs
EP2067076
Optik & Fototechnik
03.06.2009
Optisches Element und Verfahren
EP2064595
Optik & Fototechnik
22.05.2009
Beam device and system comprising a particle beam device and an optical microscope
WO2009062929
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.05.2009
Optical element for the reflection of uv radiation, method for manufacturing the same and projection exposure apparatus comprising the same
WO2009062665
Optik & Fototechnik
22.05.2009
Optical system and method for characterising an optical system
WO2009063022
Optik & Fototechnik
14.05.2009
Method for removing a contamination layer from an optical surface, method for generating a cleaning gas, and corresponding cleaning and cleaning...
WO2009059614
Verfahrens- & Trenntechnik
30.04.2009
Imaging optical system, projection exposure installation for micro-lithography comprising an imaging optical system of this type, and method for producing a microstructured component with a projection exposure installation of this type
WO2009052925
Optik & Fototechnik
30.04.2009
Cleaning of an optical system using radiation energy
WO2009053476
Optik & Fototechnik
30.04.2009
Optische Vorrichtung mit Verbessertem Abbildungsverhalten sowie Verfahren Dazu
WO2009053001
Optik & Fototechnik
30.04.2009
Imaging optical system and projection exposure apparatus for microlithography comprising an imaging optical system of this type
WO2009053023
Optik & Fototechnik
29.04.2009
Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit Pupillenspiegel Projektionsbelichtungsvorrichtung und -Verfahren
EP2052295
Optik & Fototechnik
15.04.2009
Mikrolithographisches Projektionsbelichtungsgerät
EP2048540
Optik & Fototechnik
09.04.2009
Optical System, in Particular Projection Objective For Microlithography
WO2009043573
Optik & Fototechnik
09.04.2009
Projection objective for microlithography
WO2009043790
Optik & Fototechnik
02.04.2009
Optical imaging device with thermal stabilization
WO2009039883
Optik & Fototechnik
02.04.2009
High Aperture Catadioptric Projection Objective
WO2009040011
Optik & Fototechnik
02.04.2009
Optische Einrichtung mit Einstellbarer Kraftwirkung auf ein Optisches Modul
WO2009040120
Optik & Fototechnik
26.03.2009
Bundle-guiding optical collector for collecting the emission of a radiation source
WO2009036957
Optik & Fototechnik
19.03.2009
Method for cleaning vacuum chambers and vacuum chambers
WO2009033639
Medizintechnik & Gesundheit Optik & Fototechnik
19.03.2009
Imaging microoptics for measuring the position of an aerial image
WO2009033709
Optik & Fototechnik
12.03.2009
Chromatically corrected catadioptric objective and projection exposure apparatus including the same
WO2009030444
Optik & Fototechnik
11.03.2009
Optische Baugruppe, Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithogaphie und Projektionsobjektiv
EP2034363
Optik & Fototechnik
05.03.2009
Illumination system for illuminating a mask in a microlithographic projection exposure apparatus
WO2009026947
Optik & Fototechnik
04.03.2009
Projektionsobjektiv eines Mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgeräts
EP2030070
Optik & Fototechnik
26.02.2009
Optical element module with minimized parasitic loads
WO2009024192
Optik & Fototechnik
26.02.2009
Microlithographic projection exposure method
WO2009024438
Optik & Fototechnik
12.02.2009
Method of structuring a photosensitive material
WO2009018846
Optik & Fototechnik
11.02.2009
Symmetrisches Objektiv mit Vier Linsengruppen zur Mikrolithographie
EP2021854
Optik & Fototechnik
05.02.2009
Illumination system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2009015845
Optik & Fototechnik
29.01.2009
Optical system of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2009013230
Optik & Fototechnik
29.01.2009
Vorrichtung zur Temperatureinstellung eines Optischen Elements
WO2009013278
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

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