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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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6.250 gesamt
Patent
16.01.2003
Substrate processing apparatus
Software & Datenverarbeitung Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.01.2003
Processing system and cleaning method
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.01.2003
Plasma pump with inter-stage plasma source
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.01.2003
Chamber sensor port, chamber, and electron beam processor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.01.2003
Method of predicting processed results and processing device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.01.2003
Directed gas injection apparatus for semiconductor processing
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen)
09.01.2003
Directed gas injection apparatus for semiconductor processing
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.01.2003
Damascene-Verdrahtungsausbildungseinrichtung und Damascene-Verdrahtungsausbildungsverfahren
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.01.2003
Dry-etching method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.01.2003
Substrate treating device and substrate treating method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.12.2002
Substrate table, production method therefor and plasma treating device
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.12.2002
Dry-etcching method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.12.2002
Wafer Supporter
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.12.2002
Ionenmomentübertragungs Plasmapumpe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
19.12.2002
Method of and apparatus for tailoring an etch profile
Metallurgie & Oberflächentechnik
19.12.2002
Apparatus and method for determining clamping status of semiconductor wafer
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektrische Energietechnik
12.12.2002
Wafervorspannungstreiber für Plasma Quelle
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.12.2002
Verfahren und Vorrichtung zur Dämpfung der Harmonischen Oberschwingungen in einer Plasma-Behandlungsvorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.12.2002
Plasma treatment container internal member, and plasma treatment device having the plasma treatment container internal member
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.12.2002
Inductively Coupled High-Density Plasma Source
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.12.2002
Plasma processing apparatus and method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.11.2002
Cylinder-based plasma processing system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.11.2002
Plasma Processor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.11.2002
Remote maintenance system and remote maintenance method for semiconductor manufacturing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.11.2002
System and method for scheduling the movement of wafers in a wafer-processing tool
Steuerungs- & Regelungstechnik
31.10.2002
Apparat zur Verbesserung der Verteilung und Leistung eines Induktiv Gekoppelten Plasmas
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.10.2002
Dry etching method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.10.2002
Automatisch geführtes Fahrzeug, System dafür und Waferführungsverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2002
Semiconductor production system, cluster tool, control method of semiconductor production system and maintenance method of cluster tool
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2002
Plasma processor and plasma processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2002
Method and apparatus for endpoint detection using partial least squares
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
26.09.2002
Method of fabricating oxides with low defect densities
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.09.2002
Temperature measuring method and apparatus and semiconductor heat treatment apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.09.2002
Verfahren und Vorrichtung zur Wärmeleitung von einem Substrat zu einem Substrathalter
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.09.2002
Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen Dünner Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
26.09.2002
Impedance monitoring system and method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektrische Energietechnik
25.09.2002
Verfahren und Vorrichtungen zur Überkritischen Verarbeitung von Werkstücken
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.09.2002
Cleaning method for substrate treatment device and substrate treatment device
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
19.09.2002
Plasma treatment device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.09.2002
Fluid treatment system
Metallurgie & Oberflächentechnik

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