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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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6.250 gesamt
Patent
13.06.2002
Design supporting system and design supporting method
WO0246974
Software & Datenverarbeitung
13.06.2002
Stencil mask and manufacturing method thereof
WO0247134
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.06.2002
Verfahren zur Vorbehandlung von Dielektrischen Schichten zur Verstärkung der Adhäsion von Cvd-Metallschichten
WO0245147
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.06.2002
Method and apparatus for 2-d spatially resolved optical emission and absorption spectroscopy
WO0244674
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
06.06.2002
Electrode cooler of processing device
WO0244634
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
29.05.2002
Echt-Zeit Planer für Entwürfe
EP1208514
Software & Datenverarbeitung
23.05.2002
Method of forming metal wiring and semiconductor manufacturing apparatus for forming metal wiring
WO0241379
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.05.2002
Plasma processing device and exhaust ring
WO0239493
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.05.2002
Method of transferring processed body and processing system for processed body
WO0239499
Verpackungs- & Fördertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
16.05.2002
Plasma processing device and method of assembling the plasma processing device
WO0239495
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.05.2002
Method and apparatus for forming multicomponent metal oxide thin film
WO0237548
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.05.2002
Halleffektionenquelle mit Hoher Stromdichte
WO0237521
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.05.2002
Hochfrequenz-Stromquelle zur Erzeugung eines Induktiv Gekoppelten Plasmas
EP1203441
Elektrische Energietechnik
02.05.2002
Temperature measuring method, heat treating device and method, computer program, and radiation thermometer
WO0235195
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
02.05.2002
Method of and structure for controlling electrode temperature
WO0234451
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
25.04.2002
Plasmareaktor mit Verkleinerter Reaktionskammer
WO0233729
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.04.2002
Apparatus for measuring temperatures of a wafer using specular reflection spectroscopy
WO0233369
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
11.04.2002
Vacuum processing device
WO0229877
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.04.2002
Device and method for manufacturing semiconductor
WO0229864
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.04.2002
Heat-treating apparatus and heat-treating method
WO0227772
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.03.2002
Justierbarer Fokusring für Plasmabehandlung
WO0225695
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.03.2002
Produktionsmethode für eine Halbleiteranordnung
EP1191582
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.03.2002
Plasma machining device, and electrode plate, electrode supporter, and shield ring of the device
WO0223610
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.03.2002
Detector and treatment system for detected body
WO0223622
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.03.2002
Wärmebehandlungsvorrichtung
WO0223596
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.03.2002
Kapazitiv Gekoppelter Plasma Reaktor
WO0223588
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.03.2002
Self-diagnosis circuit of input/output circuit system
WO0221228
Steuerungs- & Regelungstechnik
13.03.2002
Herstellung eines Halbleiterteiles und Zugehörige Fertigungsstrasse
EP1187183
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.03.2002
Waferverarbeitungsverfahren
EP1187188
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.03.2002
Induktiv Gekoppeltes Plasma mit Internem Induktionselement
WO0219364
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.02.2002
Nahgekoppelte Abstimmungsvorrichtung für Rf Elektrode
WO0215649
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.02.2002
Verfahren und Vorrichtung zur Abstimmung eines Plasmareaktors
WO0214810
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.02.2002
Mehrkammer-Plasmareaktor
WO0215225
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.02.2002
Behandlungsvorrichtung und Reinigungsverfahren
WO0212587
Metallurgie & Oberflächentechnik
14.02.2002
Behandlungsvorrichtung und Reinigungsverfahren
WO0212585
Metallurgie & Oberflächentechnik
14.02.2002
Radial antenna and plasma device using it
WO0213250
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.02.2002
Plasmabehandlungs-Verfahren und -Vorrichtung
WO0213225
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.02.2002
Method for forming film
WO0210472
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.01.2002
Vorrichtung zum Automatischen Elektrodenwächseln für eine Plasmabehandlungsvorrichtung
WO0209141
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.01.2002
Elektrode für Plasmabehandlungsvorrichtung
WO0209241
Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Electron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Elektronik & Schaltungstechnik
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Optik & Fototechnik
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290
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234
Software & Datenverarbeitung
145
Steuerungs- & Regelungstechnik
141
Verpackungs- & Fördertechnik
82
Anorganische Chemie & Werkstoffe
69
Maschinenelemente & Fluidtechnik
56

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