Tokyo Electron Patente
🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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6.250 gesamt| Patent | |||
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24.01.2002
Holding device for treated body
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 13.07.2001
Anhängig
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24.01.2002
Gerät und Verfahren mit einer Verstellbaren Segmentierten Elektrode
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.07.2001
Anhängig
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23.01.2002
Temperaturregelungsgerät
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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10.01.2002
Operation monitoring method for treatment apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.07.2001
Anhängig
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10.01.2002
Method for predicting consumption of consumable part, method for predicting deposited-film thickness, and plasma processor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 03.07.2001
Anhängig
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09.01.2002
Halbleiter und Seine Herstellungsmethode
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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09.01.2002
Kondensator für Analog-Schaltung und dessen Herstellungsverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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03.01.2002
Etching method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.06.2001
Anhängig
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27.12.2001
Gas supply device and treating device
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.06.2001
Anhängig
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27.12.2001
Variabler Kondensator mit Flüssigem Dielektrikum
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.06.2001
Anhängig
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20.12.2001
Semiconductor manufacturing apparatus detecting a state of connection between controllers
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 14.06.2001
Anhängig
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13.12.2001
Vorrichtung und Verfahren zur Elektronenbeschleunigung in einem Plasmareaktor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.05.2001
Anhängig
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13.12.2001
Doppelmembranpumpe
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen)
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Status
Angemeldet am 31.05.2001
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06.12.2001
Plasma processing device and processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 28.05.2001
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06.12.2001
Gas introducing system for temperature control of processed body
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 28.05.2001
Anhängig
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22.11.2001
Processing device and method of maintaining the device, mechanism and method for assembling processing device part, and lock mechanism and method for locking the lock mechanism
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.05.2001
Anhängig
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22.11.2001
Verfahren zur Durchmessereinstellung einer Elektrode in einer Plasmabehandlungsvorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.05.2001
Anhängig
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15.11.2001
Verfahren und Vorrichtung zum Bewegen eines Werkstückes in einer Hochdruck-Umgebung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 07.05.2001
Anhängig
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15.11.2001
Measuring Plasma Uniformity In-Situ At Wafer Level
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.05.2001
Anhängig
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14.11.2001
Plasma Bearbeitungsmethode und Apparat
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.11.2001
Vorrichtung mit Widerstandheizelementen für Wärmebehandlung von Einzelnen Halbleiterscheiben
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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08.11.2001
Method and apparatus for distributing gas within high density plasma process chamber to ensure uniform plasma
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 27.04.2001
Anhängig
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08.11.2001
Variable Gap Stop Which Can Be Used in A Semiconductor Processing Device
Haushalts-, Möbel- & Konsumgüter
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Status
Angemeldet am 27.04.2001
Anhängig
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07.11.2001
Verfahren zur Plasmabeschichtung und Vorrichtung mit einem Magnetischen Behälter, einem Konzentrischen Plasma sowie einer Materialquelle
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.11.2001
Halbleiterbauelement und dessen Herstellungsverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.01.2000
Anhängig
Vertretung
Liesegang, Roland · München
Liesegang, Roland · München
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07.11.2001
Verfahren zur Plasmabehandlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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01.11.2001
Thermal processing system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.04.2001
Anhängig
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01.11.2001
Verfahren und Vorrichtung zur Wärmebehandlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 17.04.2001
Anhängig
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01.11.2001
Thermal processing system and thermal processing method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 17.04.2001
Anhängig
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01.11.2001
Verfahren zur Reiningung von Werkstücken mit einem Plasma und Einrichtung dafür
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.04.2001
Anhängig
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25.10.2001
Eigenständige Plasmavakuumpumpe
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 06.04.2001
Anhängig
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24.10.2001
Gerät zur Herstellung von Halbleitern und Verfahren zur Steuerung der Betriebsparameter
Steuerungs- & Regelungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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11.10.2001
Treating device
Verpackungs- & Fördertechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.04.2001
Anhängig
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11.10.2001
Verfahren und Vorrichtung zur Gaseinspritzung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 23.03.2001
Anhängig
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11.10.2001
Plasmaätzverfahren mit Trockensilylierung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.03.2001
Anhängig
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11.10.2001
Optical monitoring and control system and method for plasma reactors
Verfahrens- & Trenntechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2001
Anhängig
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10.10.2001
Wärmebehandlungsverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.08.2000
Anhängig
Vertretung
Liesegang, Roland · München
Liesegang, Roland · München
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04.10.2001
Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung der an einer Mehrteiligen Elektrode Abgegebenen Leistung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.03.2001
Anhängig
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27.09.2001
High Speed Photoresist Stripping Chamber
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 20.03.2001
Anhängig
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27.09.2001
Chuck transport method and system
Verpackungs- & Fördertechnik
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Status
Angemeldet am 20.03.2001
Anhängig
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Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Electron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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