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Tokyo Ohka Kogyo Patente

🇯🇵 Japan

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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927 gesamt
Patent
15.08.2013
Method for manufacturing laminated body
WO2013118694
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.08.2013
Processing method and processing apparatus
WO2013118536
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.08.2013
Photosensitive composition, pattern, and display device having pattern
WO2013111674
Optik & Fototechnik
31.07.2013
Chemisch Verstärkte Positiv-Lichtempfindliche, Thermisch Aushärtende Harzzusammensetzung, Verfahren zur Bildung eines Ausgehärteten Artikels und Verwendung des Verfahrens zur Herstellung einer Funktionalen Vorrichtung
EP1687678
Optik & Fototechnik
31.07.2013
Polymerverbindung, Photoresistzusammensetzung mit einer Derartigen Polymerverbindung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur
EP1736485
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
17.07.2013
Verwendung eines Beschichtungsmittels zur Herstellung einer Beschichtung zur Verschmälerung eines Musters und Verfahren zur Bildung eines feinen Musters mit diesem Mittel
EP1452923
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.07.2013
Positiv-Resistzusammensetzung und Verfahren zur Ausbildung einer Resiststruktur
EP1710628
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.04.2013
Verfahren zur Reinigung von Rohharzen für Resists
EP1590709
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
27.03.2013
Positive Resistzusammensetzung und Verfahren zur Resiststrukturierung
EP1452919
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.03.2013
Lichtempfindliche Harzzusammensetzung und Verfahren zur Erzeugung einer Struktur mit der Zusammensetzung
EP1729175
Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
21.03.2013
Diffusion-agent composition, method for forming impurity-diffusion layer, and solar cell
WO2013038613
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.01.2013
Laminated body, separating method, and manufacturing method
WO2013008540
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
27.12.2012
Method of manufacturing multilayer body, method of processing substrate, and multilayer body
WO2012176607
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.12.2012
Retention device and retention method
WO2012172957
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.12.2012
Compound, radical polymerization initiator, method for producing compound, polymer, resist composition, and method for forming resist pattern
WO2012173235
Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie
19.12.2012
Positiv Arbeitende Resistzusammensetzung und Verfahren zur Resiststrukturerzeugung
EP1882981
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
19.12.2012
Filmherstellungszusammensetzung und Diffusionsverfahren
EP2043136
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.12.2012
Solvent-developable negative resist composition, resist pattern formation method, and method for forming pattern of layer including block copolymer
WO2012169620
Optik & Fototechnik
13.09.2012
Resist pattern formation method and resist composition for negative-working image development
WO2012121278
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
23.08.2012
Method for producing substrate having surface nanostructure
WO2012111694
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
09.08.2012
Composition for forming silicon-containing film, method for forming impurity-diffused layer, and solar cell
WO2012105163
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.07.2012
Harz für Unterschichtmaterial, Unterschichtmaterial, Laminat und Verfahren zur Bildung eines Resistmusters
EP1616888
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
04.07.2012
Harz für Resist, Positivresistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung einer Resiststruktur
EP1655315
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik
03.05.2012
Stacked body and method for detaching stacked body
WO2012056803
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.05.2012
Stacked body and method for detaching stacked body
WO2012056867
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.05.2012
Laminated body and method for separating laminated body
WO2012056969
Kunststoff- & Polymertechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
19.04.2012
Coating device and coating method
WO2012050111
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.04.2012
Resist composition for negative development which is used for foermation of guide pattern, guide pattern formation method, and method for forming pattern on layer containing block copolymer
WO2012046770
Optik & Fototechnik
22.03.2012
Primer and pattern forming method for layer including block copolymer
WO2012036121
Kunststoff- & Polymertechnik
14.03.2012
Positiv arbeitende Photolackzusammensetzung
EP1582925
Optik & Fototechnik
29.02.2012
Positiv-Photoresistzusammensetzung und Bildung einer Resiststruktur
EP1664928
Optik & Fototechnik
26.01.2012
Secondary Battery Porous Electrode
WO2012011351
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.01.2012
Diffusing agent composition and method of forming impurity diffusion layer
WO2012004996
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.12.2011
Verfahren zur Erzeugung eines Plattierten Produkts unter Verwendung einer Negativ-Photoresistzusammensetzung
EP1761823
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.12.2011
Resist pattern formation method and pattern miniaturisation agent
WO2011155347
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.11.2011
Verfahren zur Reduzierung der Oberflächendefekte eines Resistmusters und Anwendung einer wässrigen sauren Lösung in diesem Verfahren
EP1122611
Optik & Fototechnik
02.11.2011
Auf Sensitivität basierendes Evaluierungsverfahren für eine Harzzusammensetzung
EP1653284
Optik & Fototechnik
19.10.2011
Resistzusammensetzung
EP1589375
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.08.2011
Silikoncopolymer mit Kondensierter Polycyclischer Kohlenwasserstoffgruppe
EP1873189
Kunststoff- & Polymertechnik
20.07.2011
Norbornenpolymerzusammensetzungen für Deckschichten und lithographisches Immersionsverfahren unter deren Verwendung
EP2031007
Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Wer vertritt Tokyo Ohka Kogyo?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Tokyo Ohka Kogyo vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
620
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
407
Kunststoff- & Polymertechnik
288
Organische Chemie
165
Farben, Klebstoffe & Brennstoffe
128
Verfahrens- & Trenntechnik
64
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
46
Pharma & Biotechnologie
24
Elektronik & Schaltungstechnik
23
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
16
Metallurgie & Oberflächentechnik
15
Anorganische Chemie & Werkstoffe
12

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