Aixtron Logo

Aixtron Patente

🇩🇪 Deutschland

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

303 gesamt
Patent
12.10.2017
Exhaust Manifold in A Cvd Reactor
WO2017174618
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.09.2017
Verfahren und Systeme zur Züchtung von Binären, Ternären und Quaternären Materialien auf einem Substrat
EP3221489
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.09.2017
Substrathaltevorrichtung mit aus einer Ringnut Entspringenden Tragvorsprüngen
WO2017148734
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.08.2017
Vorrichtung zum Erzeugen eines Dampfes aus einem Festen oder Flüssigen Ausgangsstoff für eine Cvd- oder Pvd-Einrichtung
EP2963147
Metallurgie & Oberflächentechnik
20.07.2017
Vorrichtung zum Bereitstellen eines Prozessgases in einer Beschichtungseinrichtung
WO2017121704
Metallurgie & Oberflächentechnik
31.05.2017
Gasverteiler mit in Ebenen Angeordneten Vorkammern
EP1844180
Metallurgie & Oberflächentechnik
17.05.2017
Temperaturgradientenerweiterte Gasphasenabscheidung (tge-Cvd)
EP2643495
Metallurgie & Oberflächentechnik
04.05.2017
Transfer module for a multi-module apparatus
WO2017072675
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.10.2016
Kühlfalle
WO2016166079
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
19.10.2016
Cvd-Verfahren und Cvd-Reaktor
EP2470684
Metallurgie & Oberflächentechnik
13.10.2016
Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen der Konzentration oder des Partialdrucks eines Dampfes mit Magnetischen Eigenschaften
WO2016162287
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
05.10.2016
Verfahren zur Temperaurgradientgestützten Chemischen Gasphasenabscheidung.
EP2294244
Metallurgie & Oberflächentechnik
29.09.2016
Durch Aufheizen zu Reinigender Qcm-Sensor und dessen Verwendung in einem Ovpd-Beschichtungssystem
WO2016150735
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
28.07.2016
Vorrichtung und Verfahren zum Thermischen Behandeln von Substraten
WO2016116373
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
02.06.2016
Verfahren zum Kalibrieren einer Pyrometeranordnung eines Cvd- oder Pvd-Reaktors
WO2016083373
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
26.05.2016
Cvd- oder Pvd-Reaktor zum Beschichten Grossflächiger Substrate
WO2016079161
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
26.05.2016
Vorrichtung zum Beschichten eines Grossflächigen Substrats
WO2016079232
Metallurgie & Oberflächentechnik
09.03.2016
Neuartiges Plasmasystem für Verbesserte Prozessfähigkeit
EP2122656
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.01.2016
Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes für eine Cvd- oder Pvd-Einrichtung
WO2016000958
Metallurgie & Oberflächentechnik
07.01.2016
Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines Dampfes aus mehreren Flüssigen oder Festen Ausgangsstoffen für eine Cvd- oder Pvd-Einrichtung
WO2016000944
Metallurgie & Oberflächentechnik
19.11.2015
Vorrichtung zum Ausrichten eines Wafers auf einem Waferträger
WO2015173102
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.11.2015
Vorrichtung und Verfahren zum Versorgen einer Cvd- oder Pvd-Beschichtungseinrichtung mit einem Prozessgasgemisch
WO2015169882
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
20.08.2015
Vorrichtung zum Bestimmen des Massenflusses eines Gases Beziehungsweise Gasgemisches mit Ineinandergeschachtelten Rohrförmigen Filamentanordnungen
WO2015121095
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.08.2015
Magnetisches Verfahren zur Bestimmung einer Dampfkonzentration sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
WO2015121105
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
22.07.2015
Beschichtungsvorrichtung sowie Verfahren zum Betrieb einer Beschichtungsvorrichtung mit einer Schirmplatte
EP2536865
Metallurgie & Oberflächentechnik
16.07.2015
Gaseinlassorgan eines Cvd-Reaktors mit Gewichtsverminderter Gasaustrittsplatte
WO2015104155
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.06.2015
Vorrichtung und Verfahren zur Regelung der Temperatur in einer Prozesskammer eines Cvd-Reaktors unter Verwendung Zweier Temperatursensoreinrichtungen
WO2015091371
Metallurgie & Oberflächentechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
17.06.2015
Verfahren zum Abscheiden dünner Schichten auf einem Substrat in einer höhenverstellbaren Prozesskammer
EP1497481
Metallurgie & Oberflächentechnik
04.06.2015
Heizvorrichtung
WO2015078704
Elektronik & Schaltungstechnik
07.05.2015
Verfahren zum Entfernen von Ablagerungen an den Wänden einer Prozesskammer
WO2015062807
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
08.04.2015
Mocvd-Reaktor mit Zylindrischem Gaseinlassorgan
EP2406411
Metallurgie & Oberflächentechnik
18.03.2015
Vorrichtung und Verfahren zum Gleichzeitigen Abscheiden mehrerer Halbleiterschichten in mehreren Prozesskammern
EP2558615
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.02.2015
Substratbehandlungsvorrichtung
WO2015024762
Metallurgie & Oberflächentechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
08.01.2015
Vorrichtung zum Bestimmen des Massenflusses eines in einem Trägergas Transportierten Dampfs
WO2015000727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
26.11.2014
Cvd-Reaktor mit auf einem Mehrere Zonen Aufweisenden Gaspolster Liegenden Substrathalter
EP2488679
Metallurgie & Oberflächentechnik
30.10.2014
Transportmodul für eine Halbleiterfertigungseinrichtung Bzw. Kopplungseinrichtung
WO2014173758
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.10.2014
Mocvd-Schichtwachstumsverfahren mit Nachfolgendem Mehrstufigen Reinigungschritt
WO2014173806
Metallurgie & Oberflächentechnik
03.09.2014
Magnetisch auf einem Substrathalter Gehaltene Schattenmaske
EP2334840
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.08.2014
Cvd-Vorrichtung sowie Verfahren zum Reinigen einer Prozesskammer einer Cvd-Vorrichtung
WO2014128045
Metallurgie & Oberflächentechnik
31.07.2014
Cvd-Anlage mit Partikelabscheider
WO2014114549
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Wer vertritt Aixtron?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Aixtron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

Zum Anmelder-Profil

Technologiefelder

Metallurgie & Oberflächentechnik
261
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
109
Verfahrens- & Trenntechnik
29
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
25
Anorganische Chemie & Werkstoffe
7
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
6
Steuerungs- & Regelungstechnik
6
Elektronik & Schaltungstechnik
6
Maschinenelemente & Fluidtechnik
5
Verpackungs- & Fördertechnik
2
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen)
1
Optik & Fototechnik
1

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen