Aixtron Patente
🇩🇪 Deutschland
Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.
303
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
303 gesamt| Patent | |||
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19.06.2014
Gasmischvorrichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.12.2013
Anhängig
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30.05.2014
Vorrichtung zum Ausrichten eines Wafers auf einem Waferträger
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 04.11.2013
Anhängig
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01.05.2014
Vorrichtung zum Behandeln von Substraten mit einer Auswechselbaren Deckenplatte sowie Verfahren zum Auswechseln einer Derartigen Deckenplatte
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 24.10.2013
Anhängig
Vertretung
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12.03.2014
Vorrichtung zum Beschichten von auf einem Suszeptor Angeordneten Substraten
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.10.2013
Method for forming tisin thin layer by using atomic layer deposition
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.04.2013
Anhängig
Vertretung
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06.09.2013
Verfahren und Vorrichtung zur Regelung der Oberflächentemperatur eines Suszeptors einer Substratbeschichtungseinrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2013
Anhängig
Vertretung
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10.05.2013
Cvd-Reaktor Bzw. Substrathalter für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.11.2012
Anhängig
Vertretung
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21.03.2013
Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung der Verformung eines Substrates
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.09.2012
Anhängig
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06.02.2013
Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung von Mehrkomponenten-Halbleiterschichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.03.2011
Anhängig
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30.01.2013
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Dicken Gallium-Nitrit-Schichten auf einem Saphirsubstrat und Zugehörigem Substrathalter
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 18.11.2005
Erteilt am 30.01.2013
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24.01.2013
Vorrichtung und Verfahren zum Bestimmen des Dampfdrucks eines in einem Trägergasstrom Verdampften Ausgangsstoffes
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 11.07.2012
Anhängig
Vertretung
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27.12.2012
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Oleds insbesondere Verdampfungsvorrichtung Dazu
Metallurgie & Oberflächentechnik
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27.12.2012
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Oled's
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 31.05.2012
Anhängig
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27.12.2012
Vorrichtung zur Aerosolerzeugung und Abscheiden einer Lichtemittierenden Schicht
Verpackungs- & Fördertechnik
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 01.06.2012
Anhängig
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26.10.2012
Vorrichtung und Verfahren zum Grossflächigen Abscheiden von Halbleiterschichten mit Gasgetrennter Hcl-Einspeisung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.04.2012
Anhängig
Vertretung
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26.10.2012
Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden von Halbleiterschichten mit Hcl-Zugabe zur Unterdrückung Parasitären Wachstums
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.04.2012
Anhängig
Vertretung
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18.07.2012
Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 30.08.2010
Anhängig
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04.07.2012
Cvd-Beschichtungsvorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 18.03.2004
Erteilt am 04.07.2012
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28.03.2012
Cvd-Reaktor mit Absenkbarer Prozesskammerdecke
Metallurgie & Oberflächentechnik
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28.03.2012
Aus einer Vielzahl Diffusionsverschweisster Scheiben Bestehender Gasverteiler und ein Verfahren zur Fertigung eines Solchen Gasverteilers
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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01.12.2011
Vorrichtung und Verfahren zum Be- und Entladen, insbesondere einer Beschichtungseinrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.05.2011
Anhängig
Vertretung
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10.11.2011
Bevorratungsmagazin einer Cvd-Anlage
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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02.11.2011
Cvd-Reaktor mit einem Gaseinlassorgan
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2006
Erteilt am 02.11.2011
Vertretung
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20.10.2011
Thermisches Behandlungsverfahren mit einem Aufheizschritt, einem Behandlungsschritt und einem Abkühlschritt
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.04.2011
Anhängig
Vertretung
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25.08.2011
Gasmischer für Dampfabscheidung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 16.02.2011
Anhängig
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18.08.2011
Gaseinlassorgan mit Prallplattenanordnung
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 07.02.2011
Anhängig
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10.08.2011
Vorrichtung zum Beschichten einer Vielzahl in Dichtester Packung auf einem Suszeptor Angeordneter Substrate
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.05.2008
Erteilt am 10.08.2011
Vertretung
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13.07.2011
Verfahren und Vorrichtung zum Abscheiden von Halbleiterschichten mit Zwei Prozessgasen, von Denen das eine Vorkonditioniert Ist
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.03.2004
Erteilt am 13.07.2011
Vertretung
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18.05.2011
Verfahren zur Abscheidung von Silizium und Germanium Enthaltenden Schichten
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2005
Erteilt am 18.05.2011
Vertretung
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30.03.2011
Vorrichtung und Verfahren zur Steuerung der Oberflächentemperatur eines Substrates in einer Prozesskammer
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.04.2007
Erteilt am 30.03.2011
Vertretung
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23.03.2011
Quellenbehälter eines Vpe-Reaktors
Metallurgie & Oberflächentechnik
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12.01.2011
Vorrichtung und Verfahren zum Abscheiden Kristalliner Schichten Wahlweise mittels Mocvd oder Hvpe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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29.12.2010
Verfahren zum Abscheiden von Schichten in einem Cvd-Reaktor sowie Gaseinlassorgan für einen Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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01.09.2010
Vorrichtung zur Temperatursteuerung der Oberflächentemperaturen von Substraten in einem Cvd-Reaktor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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18.08.2010
Cvd-Reaktor mit Gleitgelagertem Suszeptorhalter
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2006
Erteilt am 18.08.2010
Vertretung
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21.04.2010
Cvd-Reaktor mit Rf-Geheizter Prozesskammer
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.12.2005
Erteilt am 21.04.2010
Vertretung
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10.02.2010
Vorrichtung zur Temperierten Aufbewahrung eines Behälters
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2005
Erteilt am 10.02.2010
Vertretung
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06.01.2010
Cvd-Verfahren und Gaseinlassorgan zur Durchführung des Verfahrens
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2001
Erteilt am 06.01.2010
Vertretung
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09.09.2009
Cvd-Reaktor mit Gasauslassring aus Massivem Grafit
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.08.2001
Erteilt am 09.09.2009
Vertretung
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02.09.2009
Vorrichtung und Verfahren zur Chemischen Gasphasenabscheidung mit Hohem Durchsatz
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 01.07.2005
Erteilt am 02.09.2009
Vertretung
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Wer vertritt Aixtron?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Aixtron vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Metallurgie & Oberflächentechnik
261
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
109
Verfahrens- & Trenntechnik
29
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
25
Anorganische Chemie & Werkstoffe
7
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
6
Steuerungs- & Regelungstechnik
6
Elektronik & Schaltungstechnik
6
Maschinenelemente & Fluidtechnik
5
Verpackungs- & Fördertechnik
2
Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen)
1
Optik & Fototechnik
1