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Applied Materials Patente

🇺🇸 USA

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

10.783
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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10.783 gesamt
Patent
01.03.2007
Nitrogen Profile Engineering in High-K Nitridation Of A Gate Dielectric Layer
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.03.2007
Pretreatment Processes Within A Batch Ald Reactor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.03.2007
Non-intrusive plasma monitoring system for arc detection and prevention for blanket cvd films
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.03.2007
Apparatus and methods for spectrum based monitoring of chemical mechanical polishing
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
28.02.2007
Ionenimplantierungsgerät und Verfahren zur Ionenimplantierung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.02.2007
Vorrichtung zum Wechseln einer Wickelrolle
Verpackungs- & Fördertechnik
22.02.2007
Two-piece dome with separate rf coils for inductively coupled plasma reactors
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.02.2007
Thermal management of inductively coupled plasma reactors
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.02.2007
Method and apparatus to control semiconductor film deposition characteristics
Metallurgie & Oberflächentechnik
22.02.2007
Substrate Support For Increasing Substrate Temperature in Plasma Reactors
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.02.2007
Substrate support having brazed plates and heater
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.02.2007
Verfahren zur Steuerung der Chemie eines Galvanisierungsbads
Metallurgie & Oberflächentechnik
21.02.2007
Niedertemperatur-Epitaxialwachstum von Siliziumhaltigen Filmen unter Verwendung von Uv-Strahlung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.02.2007
Magnetronsputtereinrichtung, Zylinderkathode und Verfahren zur Aufbringung von dünnen Mehrkomponentenschichten auf einem Substrat
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.02.2007
Targetmaterial und Verwendung davon bei einem Sputterverfahren
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
15.02.2007
Thermal flux laser annealing for ion implantation of semiconductor p-n junctions
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
15.02.2007
Semiconductor Substrate Process Using an Optically Writable Carbon-Containing Mask
15.02.2007
Copper conductor annealing process employing high speed optical annealing with a low temperature-deposited optical absorber layer
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.02.2007
Copper Barrier Reflow Process Employing High Speed Optical Annealing
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.02.2007
Method and composition for polishing a substrate
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
15.02.2007
Semiconductor substrate process using a low temperature-deposited carbon-containing hard mask
14.02.2007
Verdampfervorrichtung
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.02.2007
Method and apparatus for sputtering onto large flat panels
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.02.2007
Integrated electroless deposition system
Metallurgie & Oberflächentechnik Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik
08.02.2007
Unique passivation technique for a cvd blocker plate to prevent particle formation
Metallurgie & Oberflächentechnik
07.02.2007
Anlage zum Bearbeiten von Plattenförmigen Substraten
Verpackungs- & Fördertechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
01.02.2007
Method and apparatus for in-situ substrate surface arc detection
Elektrische Energietechnik
31.01.2007
Stabilisierung von Dielektrischen Materialien mit Hohem K
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.01.2007
Erzeugung einer Siliziumoxynitridschicht auf einem Dielektrischen Material mit Hohem K
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.01.2007
Contact clean by remote plasma and repair of silicide surface
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.01.2007
Substratträger
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.01.2007
Verfahren zur Herstellung von Mosfet-Elementen unter Verwendung von Selektiven Abscheidungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.01.2007
Vorrichtungen und Verfahren zur Atomlagenabscheidung von High-K-Dielektrika auf Hafniumbasis
Metallurgie & Oberflächentechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
24.01.2007
Vorrichtungen und Verfahren zur Atomlagenabscheidung
Metallurgie & Oberflächentechnik
18.01.2007
Nitric oxide reoxidation for improved gate leakage reduction of sion gate dielectrics
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.01.2007
Method and system for deposition tuning in an epitaxial film growth apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik
17.01.2007
Magnetron Zerstäubungssystem für grossflächige Substrate mit abnehmbaren Anoden
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.01.2007
Improved manufacturing method for two-step post nitridation annealing of plasma nitrided gate dielectric
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.01.2007
A semiconductor substrate processing apparatus with a passive substrate gripper
Verpackungs- & Fördertechnik
04.01.2007
Plasma treatment of dielectric material
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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