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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
20.08.2009
Method and appartus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization
WO2009100867
Optik & Fototechnik
19.08.2009
Verfahren zur Herstellung einer Mikrobearbeiteten Vorrichtung
EP2089311
12.08.2009
Strahlungsquelle, Lithographieapparat, Geräteherstellungsmethode und damit hergestelltes Gerät
EP1170982
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
12.08.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1465013
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
29.07.2009
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und damit erzeugte Vorrichtung
EP1510869
Optik & Fototechnik
29.07.2009
Strahlungssystem und Lithographische Vorrichtung damit
EP2082289
Optik & Fototechnik
22.07.2009
Resonanter Abtastspiegel
EP1870773
Optik & Fototechnik
09.07.2009
Folded optical encoder and applications for same
WO2009083161
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
09.07.2009
Scanning euv interference imaging for extremely high resolution
WO2009083229
Optik & Fototechnik
08.07.2009
Systeme und Verfahren zum Ausrichten für Lithographische Systeme
EP1400854
Optik & Fototechnik
08.07.2009
Imprint-Lithographie
EP1801649
Optik & Fototechnik
02.07.2009
Grating for euv-radiation, method for manufacturing the grating and wavefront measurement system
WO2009082224
Optik & Fototechnik
02.07.2009
Lithographic apparatus, method for levelling an object, and lithographic projection method
WO2009082226
Optik & Fototechnik
01.07.2009
System und Verfahren zur Ausrichtung lithographischer Systeme unter Verwendung mindestens zweier Wellenlängen
EP1400859
Optik & Fototechnik
24.06.2009
Verfahren und Vorrichtung zur Ermittlung von Eigenschaften einer lithographischen Struktur auf einem Substrat
EP2053349
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.06.2009
Verfahren zur Eichung eines lithographischen Projektionsapparats
EP1186959
Optik & Fototechnik
11.06.2009
Inspection apparatus for lithography
WO2009071259
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
11.06.2009
Marker structure and method of forming the same
WO2009072881
Optik & Fototechnik
11.06.2009
Inspection apparatus, lithographic apparatus and method of measuring a property of a substrate
WO2009071207
Optik & Fototechnik
04.06.2009
A lithographic apparatus, a projection system and a device manufacturing method
WO2009070013
Optik & Fototechnik
03.06.2009
Spiegel und Lithographiegerät mit Spiegel
EP1521272
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
03.06.2009
Korrektur in Abtastrichtung der Verschiebung zwischen Maske und Objekt infolge einer Z-Verschiebung und einer nicht-senkrechten Beleuchtung
EP1465018
Optik & Fototechnik
03.06.2009
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1677153
Optik & Fototechnik
14.05.2009
Method for removing a contamination layer from an optical surface, method for generating a cleaning gas, and corresponding cleaning and cleaning...
WO2009059614
Verfahrens- & Trenntechnik
14.05.2009
Method and system for determining a suppression factor of a suppression system and a lithographic apparatus
WO2009061188
Optik & Fototechnik
14.05.2009
Lithographic projection apparatus and method of compensating perturbation factors
WO2009061196
Optik & Fototechnik
14.05.2009
Lithographic apparatus and method
WO2009060294
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
14.05.2009
Radiation system and method, and a spectral purity filter
WO2009061192
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
13.05.2009
Niveausensor für einen lithographischen Apparat
EP1439428
Optik & Fototechnik
30.04.2009
Cleaning of an optical system using radiation energy
WO2009053476
Optik & Fototechnik
29.04.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1628162
Optik & Fototechnik
29.04.2009
Trägeranordnung für gemusterte Maske und Verfahren zur Anwendung von zwei Haltersystemen
EP1630613
Optik & Fototechnik
22.04.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1265105
Optik & Fototechnik
22.04.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1455235
Optik & Fototechnik
22.04.2009
Überwachung von Fokuspunkten in einem lithographischen Projektionsapparat
EP1457828
Optik & Fototechnik
22.04.2009
Lithographischer Projektionsapparat mit Höhe- und Neigungsmessanordnung
EP1457839
Optik & Fototechnik
22.04.2009
Eine Anordnung, ein lithographischer Apparat und ein Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1526407
Optik & Fototechnik
15.04.2009
Lithographisches Gerät mit Ausrichtungsuntersystem, Verfahren zur Herstellung von Vorrichtungen mittels einer Ausrichtung und Ausrichtungsstruktur
EP1434103
Optik & Fototechnik
15.04.2009
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel
EP1431833
Optik & Fototechnik
15.04.2009
Vorrichtung und Verfahren zum Ausrichten von Wafern mit verringerter Empfindlichkeit auf Knippneigung
EP1450211
Optik & Fototechnik

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