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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
15.04.2009
Ausrichtungs-Verfahren und -Gerät, lithographisches Gerät, Metrologiegerät und Herstellungsverfahren einer Vorrichtung
EP2048542
Optik & Fototechnik
08.04.2009
Lithographischer Apparat, Verfahren zu dessen Kalibrierung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1182509
Optik & Fototechnik
08.04.2009
Inspektion eines Artikels
EP1400855
Optik & Fototechnik
08.04.2009
Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1860506
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2009
Getter- und Reinigungseinrichtung für eine Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung einer Oberfläche
EP2041623
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
26.03.2009
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2009038460
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
25.03.2009
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1329772
Optik & Fototechnik
25.03.2009
Methode zum Ausrichten eines Substrates, ein Computerprogramm und ein Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1398670
Optik & Fototechnik
25.03.2009
Beleuchtungsoptimierung für spezifische Maskenmuster
EP1612606
Optik & Fototechnik
25.03.2009
Binäre sinusförmige Gitter unterhalb der Wellenlänge als Ausrichtungsmarkierungen
EP1788451
Optik & Fototechnik
25.03.2009
Markenunabhängiger Ausrichtungssensor
EP1148390
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.03.2009
Verfahren zur Herstellung eines lithographischen Apparats
EP1475671
Optik & Fototechnik
11.03.2009
Träger und Verfahren zur Herstellung eines Trägers
EP1471388
Optik & Fototechnik
11.03.2009
Lithographischer Apparat mit Spülgaseinrichtung
EP1600819
Optik & Fototechnik
11.03.2009
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen
EP1986051
Optik & Fototechnik
11.03.2009
Katadioptrische Projektionsanlage für die Lithographie mit einer nichtinvertierenden Strahlteileranordnung
EP1426825
Optik & Fototechnik
11.03.2009
Nicht absorbierende Fotomaske und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP2034359
Optik & Fototechnik
04.03.2009
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1647863
Optik & Fototechnik
04.03.2009
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung von winkelaufgelöster spektroskopischer Lithografie
EP1870696
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
26.02.2009
Synchronizing timing of multiple physically or logically separated system nodes
WO2009024281
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
26.02.2009
Module and method for producing extreme ultraviolet radiation
WO2009025557
Elektronik & Schaltungstechnik
25.02.2009
Lithografische Vorrichtung, Baugruppe und Verfahren zur Messung eines Parameters eines Projektionssystems
EP1672430
Optik & Fototechnik
25.02.2009
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP2028547
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.02.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1847877
Optik & Fototechnik
11.02.2009
Flüssigkeitsstrom-Näherungssensor zur Verwendung in der Immersionslithografie
EP2023080
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
05.02.2009
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2009015838
Optik & Fototechnik
04.02.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1349009
Optik & Fototechnik
04.02.2009
Optisches metrologisches System und Charakterisierungsverfahren für eine Metrologiemarke
EP1804126
Optik & Fototechnik
22.01.2009
Debris prevention system, radiation system, and lithographic apparatus
WO2009011579
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
21.01.2009
Bewegungssteuerung in einem lithographischen Apparat
EP1422569
Optik & Fototechnik
14.01.2009
Lithographischer Belichtungsapparat mit einer an einer Vakuumkammer angeschlossenen evakuierbaren Maskenspeichervorrichtung
EP1387217
Optik & Fototechnik
14.01.2009
Linienbreitensteuerung in einem Abtastbelichtungsapparat
EP1248151
Optik & Fototechnik
07.01.2009
Lithographieapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1209503
Optik & Fototechnik
31.12.2008
Bilderzeugungsapparat
EP1449032
Optik & Fototechnik
24.12.2008
Clamping device and object loading method
WO2008156366
Optik & Fototechnik
24.12.2008
Method of loading a substrate on a substrate table, device manufacturing method, computer program, data carrier and apparatus
WO2008156367
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.12.2008
Nicht absorbierende Fotomaske und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP1096312
Optik & Fototechnik
18.12.2008
Lithographic apparatus and method
WO2008151848
Optik & Fototechnik
18.12.2008
Contamination prevention system, lithographic apparatus, radiation source, and method for manufacturing a device
WO2008153389
Optik & Fototechnik
17.12.2008
System zur Fokusmessung eines Retikels und Verfahren unter Verwendung von verschiedenen interferometrischen Strahlen
EP1396757
Optik & Fototechnik

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