ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
5.380 gesamt| Patent | |||
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30.12.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.11.2007
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
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23.12.2009
Vorrichtung mit einer Rotierenden Verunreinigungsfalle
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.09.2007
Erteilt am 23.12.2009
Vertretung
Hatzmann, Martin · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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23.12.2009
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.05.2009
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Raukema, Age · Veldhoven
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16.12.2009
Beleuchtungssystem zur Beleuchtung einer Musterungsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Beleuchtungssystems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2008
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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09.12.2009
Substrattisch, lithografischer Apparat und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.05.2009
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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02.12.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.12.2004
Erteilt am 02.12.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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25.11.2009
Verfahren zum emittieren von Strahlung für lithographische Projektionsvorrichtungen
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2000
Erteilt am 25.11.2009
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11.11.2009
Lithografische Vorrichtung, Beleuchtungssystem und Filtersystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.12.2005
Erteilt am 11.11.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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29.10.2009
Method and apparatus for measuring line end shortening, substrate and patterning device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.04.2009
Anhängig
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29.10.2009
Lithographic apparatus, device manufacturing method, cleaning system and method for cleaning a patterning device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.04.2009
Anhängig
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29.10.2009
Apparatus and method of measuring a property of a substrate
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.04.2009
Anhängig
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29.10.2009
Robot for in-vacuum use
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.04.2009
Anhängig
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22.10.2009
Focus sensor, inspection apparatus, lithographic apparatus and control system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2009
Anhängig
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22.10.2009
Lithographic apparatus comprising an internal sensor and a mini-reactor, and method for treating a sensing surface of the internal sensor
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.04.2009
Anhängig
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22.10.2009
Rapid exchange device for lithography reticles
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.04.2009
Anhängig
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22.10.2009
Apparatus for supporting an optical element, and method of making same
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.04.2009
Anhängig
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22.10.2009
Diffraction elements for alignment targets
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2009
Anhängig
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15.10.2009
A method of assessing a model of a substrate, an inspection apparatus and a lithographic apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.03.2009
Anhängig
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15.10.2009
Lithographic apparatus comprising a closing device and device manufacturing method using the same
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.03.2009
Anhängig
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15.10.2009
Shear-layer chuck for lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.04.2009
Anhängig
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14.10.2009
Optisches Element, lithographische Vorrichtung mit einem solchen und Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2004
Erteilt am 14.10.2009
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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14.10.2009
Strahlungssystem und lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 20.11.2006
Erteilt am 14.10.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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14.10.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.03.2009
Anhängig
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
Weenink, Willem · Veldhoven
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
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08.10.2009
Lithographic apparatus and contamination detection method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.03.2009
Anhängig
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01.10.2009
Inspection apparatus, lithographic apparatus and method of measuring a property of a substrate
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.03.2009
Anhängig
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01.10.2009
Inspection apparatus for lithography
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.03.2009
Anhängig
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30.09.2009
Lithografisches Gerät mit zweidimensionaler Ausrichtungsmessanordnung und zweidimensionales Ausrichtungsmessverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2005
Anhängig
Vertretung
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24.09.2009
Inspection apparatus for lithography
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.03.2009
Anhängig
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24.09.2009
Actuator system, lithographic apparatus, and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.03.2009
Anhängig
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23.09.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2002
Erteilt am 23.09.2009
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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16.09.2009
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.04.2006
Erteilt am 16.09.2009
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.09.2009
Lithographic apparatus and method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.03.2009
Anhängig
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11.09.2009
Lithographic apparatus, plasma source, and reflecting method
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 03.03.2009
Anhängig
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03.09.2009
Inspection method and apparatus, lithographic apparatus, lithographic processing cell and device manufacturing method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.02.2009
Anhängig
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03.09.2009
Metrology method and apparatus, lithographic apparatus, and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.02.2009
Anhängig
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02.09.2009
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Feststellung der korrekten Festklemmung eines Objekts
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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02.09.2009
Lithographische Vorrichtung, Substrattisch und Verfahren zum Ablösen eines Wafers
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.12.2007
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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27.08.2009
Lithographic apparatus comprising a magnet, method for the protection of a magnet in a lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.02.2009
Anhängig
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27.08.2009
Gas gauge compatible with vacuum environments
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.02.2009
Anhängig
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26.08.2009
Strahlungssystem und Lithografische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 27.11.2007
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35