ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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30.05.2007
System und Verfahren zur Erhöhung der Oberflächenspannung und des Kontaktwinkels in der Immersionslithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2006
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Weenink, Willem · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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09.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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02.05.2007
Verfahren zur Übernahme einer lithographischen Maske
Optik & Fototechnik
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02.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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02.05.2007
Methode zur Bestimmung der Aberration eines Projektionssystems eines Lithographieapparats
Optik & Fototechnik
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02.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.06.2006
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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02.05.2007
Thermisches Kontrollsystem für Substrate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.02.2001
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
McGowan, Cathrine · London
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18.04.2007
Methode zur Naheffekt-Korrektur mit teilweise strahlungsdurchlässigen, nicht aufgelösten Hilfsstrukturen
Optik & Fototechnik
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04.04.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.09.2006
Anhängig
Vertretung
van Loon, C.J.J · Den Haag
Raukema, Age · Veldhoven
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28.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.04.2004
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Seitz, Holger Fritz Karl · Rijswijk
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21.03.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Übertragung und Ladung einer Maske mittels eines robotischen Endeffektors
Optik & Fototechnik
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14.03.2007
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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14.03.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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14.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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14.03.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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07.03.2007
Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem
Optik & Fototechnik
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07.03.2007
Lithographischer Apparat mit einem System zur Positionsdetektion
Optik & Fototechnik
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07.03.2007
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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07.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Maske und Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.08.2006
Anhängig
Vertretung
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07.03.2007
Lithografisches Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.09.2006
Anhängig
Vertretung
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07.03.2007
Linienbreitenausgleich unter Verwendung räumlicher Variationen der Teilkohärenz
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2001
Erteilt am 07.03.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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07.03.2007
Optischer Projektionsapparat mit grossem Bildfeld und mit der Korrigierbarkeit von Abbildungsfehlern für Flachbildschirme
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.06.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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28.02.2007
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und Computerprogramm dafür
Optik & Fototechnik
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28.02.2007
Verfahren zur Herstellung eines Artikels, dabei hergestellter Artikel und lithographischer Apparat dafür
Optik & Fototechnik
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28.02.2007
Verfahren und System zur 3D Ausrichtung für Ganzscheibenintegration
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.12.2005
Anhängig
Vertretung
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22.02.2007
Immersion Lithography Objective
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.08.2006
Anhängig
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14.02.2007
Thermisches Kontrollsystem für Substrate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.02.2007
Lithographisches Gerät, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Projektionselement zur Benutzung in dem lithographischen Gerät
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.11.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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07.02.2007
Vorrichtung zur Bereitstellung eines Polarisationsmusters
Optik & Fototechnik
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24.01.2007
Gehäuse mit einer Struktur zum Anbringen Optischer Elemente
Optik & Fototechnik
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03.01.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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03.01.2007
Lithografische Vorrichtung, Herstellungsverfahren und damit hergestellte Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.03.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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03.01.2007
Verfahren und System zur Echtzeitmustersaufrasterung für maskenlose Lithographie unter Verwendung von rechnerisch gekoppelten Spiegeln zur Erzielung einer optimierten Musterteilsdarstellung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Roberts, Peter David · Manchester
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27.12.2006
Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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27.12.2006
Lithografischer Apparat und steuerbare Mustererzeugungsvorrichtung unter Verwendung eines räumlichen Lichtmodulators mit verteilter Digital-Analog Umwandlung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 09.06.2006
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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27.12.2006
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.06.2006
Anhängig
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
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20.12.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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20.12.2006
Verfahren zur Reinigung durch Entfernung von Teilchen von Oberflächen, Reinigungsvorrichtung und lithographischer Projektionsapparat
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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13.12.2006
Lithographischer Projektionsapparat und lithographisches Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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29.11.2006
Strahlungsbelichtungsgerät mit Gasspülsystem
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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