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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
30.05.2007
System und Verfahren zur Erhöhung der Oberflächenspannung und des Kontaktwinkels in der Immersionslithographie
Optik & Fototechnik
09.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
02.05.2007
Verfahren zur Übernahme einer lithographischen Maske
Optik & Fototechnik
02.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
02.05.2007
Methode zur Bestimmung der Aberration eines Projektionssystems eines Lithographieapparats
Optik & Fototechnik
02.05.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
02.05.2007
Thermisches Kontrollsystem für Substrate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.04.2007
Methode zur Naheffekt-Korrektur mit teilweise strahlungsdurchlässigen, nicht aufgelösten Hilfsstrukturen
Optik & Fototechnik
04.04.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
28.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
21.03.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Übertragung und Ladung einer Maske mittels eines robotischen Endeffektors
Optik & Fototechnik
14.03.2007
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
14.03.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
14.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
14.03.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
07.03.2007
Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem
Optik & Fototechnik
07.03.2007
Lithographischer Apparat mit einem System zur Positionsdetektion
Optik & Fototechnik
07.03.2007
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
07.03.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, Maske und Vorrichtung
Optik & Fototechnik
07.03.2007
Lithografisches Verfahren
Optik & Fototechnik
07.03.2007
Linienbreitenausgleich unter Verwendung räumlicher Variationen der Teilkohärenz
Optik & Fototechnik
07.03.2007
Optischer Projektionsapparat mit grossem Bildfeld und mit der Korrigierbarkeit von Abbildungsfehlern für Flachbildschirme
Optik & Fototechnik
28.02.2007
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und Computerprogramm dafür
Optik & Fototechnik
28.02.2007
Verfahren zur Herstellung eines Artikels, dabei hergestellter Artikel und lithographischer Apparat dafür
Optik & Fototechnik
28.02.2007
Verfahren und System zur 3D Ausrichtung für Ganzscheibenintegration
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
22.02.2007
Immersion Lithography Objective
Optik & Fototechnik
14.02.2007
Thermisches Kontrollsystem für Substrate
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.02.2007
Lithographisches Gerät, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Projektionselement zur Benutzung in dem lithographischen Gerät
Optik & Fototechnik
07.02.2007
Vorrichtung zur Bereitstellung eines Polarisationsmusters
Optik & Fototechnik
24.01.2007
Gehäuse mit einer Struktur zum Anbringen Optischer Elemente
Optik & Fototechnik
03.01.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
03.01.2007
Lithografische Vorrichtung, Herstellungsverfahren und damit hergestellte Vorrichtung
Optik & Fototechnik
03.01.2007
Verfahren und System zur Echtzeitmustersaufrasterung für maskenlose Lithographie unter Verwendung von rechnerisch gekoppelten Spiegeln zur Erzielung einer optimierten Musterteilsdarstellung
Optik & Fototechnik
27.12.2006
Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
27.12.2006
Lithografischer Apparat und steuerbare Mustererzeugungsvorrichtung unter Verwendung eines räumlichen Lichtmodulators mit verteilter Digital-Analog Umwandlung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.12.2006
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
20.12.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
20.12.2006
Verfahren zur Reinigung durch Entfernung von Teilchen von Oberflächen, Reinigungsvorrichtung und lithographischer Projektionsapparat
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
13.12.2006
Lithographischer Projektionsapparat und lithographisches Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
29.11.2006
Strahlungsbelichtungsgerät mit Gasspülsystem
Optik & Fototechnik

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