ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
Patente durchsuchen
5.380 gesamt| Patent | |||
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22.11.2006
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2005
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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22.11.2006
Membranrahmen mit verstärkten Klebestellen
Optik & Fototechnik
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15.11.2006
Inspektionsmethode und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.10.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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15.11.2006
Optisches Reduktionssystem mit Kontrolle der Belichtungspolarisation
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.04.2001
Erteilt am 15.11.2006
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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15.11.2006
Vorrichtung zur Lichtstrukturierung unter Verwendung von Kippspiegeln in einer Superpixelanordnung
Optik & Fototechnik
Anzeige-, Signal- & Kontrolltechnik
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Status
Angemeldet am 27.04.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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08.11.2006
Bestimmung der Position einer Substrat-Ausrichtungsmarke
Optik & Fototechnik
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08.11.2006
Verfahren zur Ausrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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08.11.2006
Bauelementeherstellungsverfahren und Substrat mit Strahlungsempfindlichem Material
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.02.2005
Anhängig
Vertretung
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02.11.2006
Verfahren und Gerät zur Herstellung einer Schutzschicht auf einem Spiegel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.09.2004
Erteilt am 02.11.2006
Vertretung
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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25.10.2006
Lithographische Maske, lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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25.10.2006
Lithographischer Immersionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.04.2006
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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18.10.2006
Vorrichtung und Methode zur Reduzierung von Reaktionskräften auf einer Trägerplattform unter Verwendung einer Ausgleichsmasse
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 10.02.2004
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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11.10.2006
Lithographievorrichtung, Bauelementeherstellungsverfahren und Dadurch Hergestelltes Bauelement
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.12.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Loon, C.J.J · Den Haag
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04.10.2006
Methode und Vorrichtung zur Kompensation transienter thermischer Belastung eines Photolithographiespiegels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.06.2003
Erteilt am 04.10.2006
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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27.09.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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20.09.2006
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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20.09.2006
Einspannvorrichtungssystem, Lithographische Vorrichtung damit und Bauelementeherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 20.12.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Loon, C.J.J · Den Haag
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13.09.2006
Lithographische Vorrichtung und Messverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.12.2004
Anhängig
Vertretung
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13.09.2006
Lithographische Vorrichtung und Messverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.12.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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13.09.2006
Substrattisch, Verfahren zur Messung der Position eines Substrats und lithographisches Gerät
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.11.2005
Anhängig
Vertretung
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06.09.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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06.09.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Optimierung einer Beleuchtungsquelle unter Verwendung photolithographischer Simulationen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.02.2004
Anhängig
Vertretung
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06.09.2006
Beleuchtungsanlagenbedingte kontrastumkehrende Abbildung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 15.04.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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06.09.2006
Lithographievorrichtung und Bauelementeherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2004
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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30.08.2006
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Reinigung des Apparats und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.01.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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30.08.2006
Sensoranordnung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.12.2004
Anhängig
Vertretung
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30.08.2006
Lithografische Messungen mittels Scatterometrie
Optik & Fototechnik
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30.08.2006
Mehrkanaliges Ausrichtsystem unter Verwendung eines Interferenzgitters
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.07.2000
Erteilt am 30.08.2006
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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30.08.2006
Shearing-Interferometer für EUV-Wellenfrontmessung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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23.08.2006
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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09.08.2006
Lithographischer Apparat und Methode zur Bestimmung der Strahlgrösse und -divergenz
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.11.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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02.08.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 10.06.2003
Anhängig
Vertretung
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02.08.2006
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.08.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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02.08.2006
System und Verfahren zur automatisierten Fokusmessung eines lithographischen Gerätes
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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26.07.2006
Verfahrung zur Messung von Substratinformationen und Substrat für Gebrauch in einem lithografischen Apparat
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.12.2005
Anhängig
Vertretung
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12.07.2006
Optische Vorrichtung für die Photolithographie
Optik & Fototechnik
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12.07.2006
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2001
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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12.07.2006
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2001
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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05.07.2006
Verfahren zur Eichung eines lithographischen Geräts, Ausrichtverfahren, Computerprogramm, lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2004
Anhängig
Vertretung
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05.07.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.12.2005
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Vermeulen, Martijn · Rijswijk
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35