ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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26.09.2007
EUV-lithographische Projektionsvorrichtung mit einem optischen Element mit Deckschicht
Optik & Fototechnik
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26.09.2007
Schutzkappe für eine Lampe und Verfahren zum Einbau einer Lichtquelle in einem lithographischen Apparat
Verpackungs- & Fördertechnik
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2005
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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19.09.2007
Prisma zur Benutzung in einer lithografischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 04.06.2003
Anhängig
Vertretung
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05.09.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer integrierten Schaltungsanordnung
Optik & Fototechnik
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29.08.2007
Lithographischer Apparat mit Filter
Optik & Fototechnik
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29.08.2007
Verfahren zur Aberrationsmessung in einem optischen Abbildungssystem
Optik & Fototechnik
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29.08.2007
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 09.10.2003
Erteilt am 29.08.2007
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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29.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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29.08.2007
Lithographisches Gerät mit Doppelisoliersystem und Verfahren zur Konfigurierung desselben
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.02.2002
Erteilt am 29.08.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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15.08.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Effizienten und Genauen Filterung und Interpolation
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 11.01.2002
Erteilt am 15.08.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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15.08.2007
Optisches System zum Transformieren der numerischen Apertur
Optik & Fototechnik
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08.08.2007
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Substrathalter
Optik & Fototechnik
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08.08.2007
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.10.2004
Erteilt am 08.08.2007
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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08.08.2007
Flüssige Perfluoropolyether Maskendeckschicht
Optik & Fototechnik
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08.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit vorwärtsgekoppelter Fokussteuerung.
Optik & Fototechnik
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08.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung einer interferometrischen Belichtungseinheit und einer maskenlosen Belichtungseinheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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01.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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01.08.2007
Lithographische Projektionsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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01.08.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung optischer Systeme
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.06.2000
Erteilt am 01.08.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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25.07.2007
Lithographischer Apparat mit Spülgassystem
Optik & Fototechnik
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25.07.2007
Zoom-Beleuchtungssystem zur Verwendung in der Photolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.02.2000
Erteilt am 25.07.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat mit System zur Positionierung eines Reflektors
Optik & Fototechnik
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18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat mit einer Stützanordnung
Optik & Fototechnik
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18.07.2007
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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05.07.2007
Inspection apparatus, lithographic system provided with the inspection apparatus and a method for inspecting a sample
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.12.2006
Anhängig
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04.07.2007
Verfahren zum Verbinden mindestens zweier Glieder
Optik & Fototechnik
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04.07.2007
System und Verfahren zur Fehlermarkierung auf einem Substrat bei maskenlosen Anwendungen
Optik & Fototechnik
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27.06.2007
Verwaltung von Reaktionskräften in einem lithographischen System
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 11.03.2003
Erteilt am 27.06.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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27.06.2007
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.12.2005
Anhängig
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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27.06.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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27.06.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.12.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Vermeulen, Martijn · Rijswijk
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27.06.2007
Herstellungsverfahren für Bauelemente und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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20.06.2007
Mikrolithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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20.06.2007
Untersuchungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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20.06.2007
Eingebettete Ätzstoppschicht für Phasenschiebermasken sowie ebene Phasenschiebermasken zur Reduktion von Wellenleitereffekten und topografiebedingten Effekten
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.01.2004
Anhängig
Vertretung
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13.06.2007
Lithografisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.10.2006
Anhängig
Vertretung
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13.06.2007
Verfahren und System zur Verarbeitung eines diskreten Zeitsignals im Zeitbereich
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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06.06.2007
Verfahren zur Verarbeitung eines diskreten Eingangssignals im Zeitbereich
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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30.05.2007
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.11.2006
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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