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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
26.09.2007
EUV-lithographische Projektionsvorrichtung mit einem optischen Element mit Deckschicht
Optik & Fototechnik
26.09.2007
Schutzkappe für eine Lampe und Verfahren zum Einbau einer Lichtquelle in einem lithographischen Apparat
Verpackungs- & Fördertechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
19.09.2007
Prisma zur Benutzung in einer lithografischen Vorrichtung
Optik & Fototechnik
05.09.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer integrierten Schaltungsanordnung
Optik & Fototechnik
29.08.2007
Lithographischer Apparat mit Filter
Optik & Fototechnik
29.08.2007
Verfahren zur Aberrationsmessung in einem optischen Abbildungssystem
Optik & Fototechnik
29.08.2007
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
29.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
29.08.2007
Lithographisches Gerät mit Doppelisoliersystem und Verfahren zur Konfigurierung desselben
Optik & Fototechnik
15.08.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Effizienten und Genauen Filterung und Interpolation
Elektronik & Schaltungstechnik
15.08.2007
Optisches System zum Transformieren der numerischen Apertur
Optik & Fototechnik
08.08.2007
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Substrathalter
Optik & Fototechnik
08.08.2007
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.08.2007
Flüssige Perfluoropolyether Maskendeckschicht
Optik & Fototechnik
08.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit vorwärtsgekoppelter Fokussteuerung.
Optik & Fototechnik
08.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung einer interferometrischen Belichtungseinheit und einer maskenlosen Belichtungseinheit
Optik & Fototechnik
01.08.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
01.08.2007
Lithographische Projektionsvorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
01.08.2007
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung optischer Systeme
Optik & Fototechnik
25.07.2007
Lithographischer Apparat mit Spülgassystem
Optik & Fototechnik
25.07.2007
Zoom-Beleuchtungssystem zur Verwendung in der Photolithographie
Optik & Fototechnik
18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat mit System zur Positionierung eines Reflektors
Optik & Fototechnik
18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat mit einer Stützanordnung
Optik & Fototechnik
18.07.2007
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
18.07.2007
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
05.07.2007
Inspection apparatus, lithographic system provided with the inspection apparatus and a method for inspecting a sample
Optik & Fototechnik
04.07.2007
Verfahren zum Verbinden mindestens zweier Glieder
Optik & Fototechnik
04.07.2007
System und Verfahren zur Fehlermarkierung auf einem Substrat bei maskenlosen Anwendungen
Optik & Fototechnik
27.06.2007
Verwaltung von Reaktionskräften in einem lithographischen System
Optik & Fototechnik
27.06.2007
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
27.06.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
27.06.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
27.06.2007
Herstellungsverfahren für Bauelemente und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
20.06.2007
Mikrolithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
20.06.2007
Untersuchungsverfahren und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
20.06.2007
Eingebettete Ätzstoppschicht für Phasenschiebermasken sowie ebene Phasenschiebermasken zur Reduktion von Wellenleitereffekten und topografiebedingten Effekten
Optik & Fototechnik
13.06.2007
Lithografisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
13.06.2007
Verfahren und System zur Verarbeitung eines diskreten Zeitsignals im Zeitbereich
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
06.06.2007
Verfahren zur Verarbeitung eines diskreten Eingangssignals im Zeitbereich
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
30.05.2007
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik

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