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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
21.12.2005
Pneumatisches Steuerungssystem und Verfahren zur Formung von Verformbaren Spiegeln in Lithographischen Projektionssystemen
EP1307777
Optik & Fototechnik
30.11.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1600818
Optik & Fototechnik
23.11.2005
Lithographischer Projektionsapparat mit kollisionsvermeidender Vorrichtung
EP1111471
Optik & Fototechnik
23.11.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1372038
Optik & Fototechnik
23.11.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1598705
Optik & Fototechnik
02.11.2005
Verfahren und System zur Verbesserung der Fokussierungsgenauigkeit in einem lithographischen System
EP1253471
Optik & Fototechnik
26.10.2005
Appareil lithographique et méthode de fabrication d'un dispositif
EP1566697
Optik & Fototechnik
19.10.2005
Lithographischer Apparat, Kontrollsystem und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1586947
Optik & Fototechnik
12.10.2005
Verfahren und Vorrichtung zur Kühlung eines Retikels während einer lithographischen Belichtung
EP1411391
Optik & Fototechnik
05.10.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1582927
Optik & Fototechnik
05.10.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1582930
Optik & Fototechnik
29.09.2005
Optical system alignment system and method with high accuracy and simple operation
WO2005089506
28.09.2005
Streulichtbestimmung in einem lithographischen Projektionsapparat
EP1411393
Optik & Fototechnik
28.09.2005
Lithographischer Apparat, Lorentz-Aktuator und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1580602
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
07.09.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1571494
Optik & Fototechnik
07.09.2005
Linienbreitensteuerung unter Verwendung einer Winkelverteilung der Strahlungsintensität in Abhängigkeit von der Position im Beleuchtungsfeld
EP1357430
Optik & Fototechnik
31.08.2005
Verfahren zur Messung der Ausrichtung eines Substrats bezüglich einer Referenz-Ausrichtmarke
EP1348149
Optik & Fototechnik
31.08.2005
Lithographisches Herstellungsverfahren mit einem Überdeckungsmessverfahren
EP1348150
Optik & Fototechnik
31.08.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1569034
Optik & Fototechnik
31.08.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1569035
Optik & Fototechnik
24.08.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1566698
Optik & Fototechnik
17.08.2005
Lasererzeugtes Plasma-Strahlungssystem mit Kontaminationsschutz
EP1491963
Optik & Fototechnik
17.08.2005
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und Drehwinkelkodierer
EP1473597
Optik & Fototechnik
04.08.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005071486
Optik & Fototechnik
03.08.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1542076
Optik & Fototechnik
03.08.2005
T-Gate Herstellung
EP1560260
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.07.2005
Method and system of coating polymer solution on surface of a substrate
WO2005069077
Optik & Fototechnik
27.07.2005
Optisches Element, dasselbe verwendender lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1557722
Optik & Fototechnik
21.07.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005066716
Optik & Fototechnik
21.07.2005
Method and system for coating polymer solution on a substrate in a solvent saturated chamber
WO2005067008
Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik
21.07.2005
A non-dripping nozzle apparatus
WO2005067007
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.07.2005
Lithographischer Apparat mit einer temperierten Schleuseneinrichtung
EP1457830
Optik & Fototechnik
14.07.2005
Lithographic apparatus having a debris-mitigation system, a source for producing euv radiation having a debris mitigation system and a method for mitigating debris
WO2005064401
Optik & Fototechnik
14.07.2005
Lithographic apparatus with a debris-mitigation system
WO2005064411
Optik & Fototechnik
06.07.2005
System und Verfahren zur Ansteuerung eines Körpers mittels eines Piezoaktors
EP1548855
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.07.2005
Projektionssystem mit hoher numerischer Apertur für die Mikrolithographie
EP1298494
Optik & Fototechnik
29.06.2005
Thermische Verformung eines Wafers in einem lithographischen Verfahren
EP1548504
Optik & Fototechnik
23.06.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005057280
Optik & Fototechnik
22.06.2005
Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie
EP1372034
Optik & Fototechnik
16.06.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2005054955
Optik & Fototechnik

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67
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60
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39
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35

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