ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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22.06.2006
Systems and methods for forming nanodisks used in imprint lithography and nanodisk and memory disk formed thereby
Verfahrens- & Trenntechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 15.12.2005
Anhängig
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21.06.2006
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, sowie durch dieses Verfahren hergestellte Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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21.06.2006
Verfahren zur Herstellung eines Artikels, dabei hergestellter Artikel, Computerprogramm zur Durchführung des Verfahrens und Robotiksystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.02.2004
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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21.06.2006
Gerät für die Immersionsphotolithographie mit einem unter dem Substrat angeordneten Projektionssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.06.2004
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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14.06.2006
Lithographischer Projektionsapparat mit mehreren Unterdrückungsnetzen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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14.06.2006
Relaisobjektiv in einem Beleuchtungssystem eines lithographischen Systems
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.07.2003
Erteilt am 14.06.2006
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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07.06.2006
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel
Optik & Fototechnik
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07.06.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.06.2005
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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07.06.2006
Rahmen mit porösen Einsätzen oder erhöhten Haftflächen für eine Abdeckungsmembran
Optik & Fototechnik
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07.06.2006
Kühlsystem für eine Antriebsspule
Elektrische Energietechnik
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31.05.2006
Lithographischer Apparat mit System zur Bestimmung des Abbe-Abstandes
Optik & Fototechnik
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24.05.2006
Beleuchtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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24.05.2006
Latente Überlagerungsmetrologie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.11.2005
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.05.2006
A lithographic apparatus having a contaminant trapping system, a contaminant trapping system, a device manufacturing method, and a method for trapping of contaminants in a lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2005
Anhängig
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10.05.2006
Lithographisches Gerät und Maskenträger
Optik & Fototechnik
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03.05.2006
Vorrichtung und Verfahren zum Regeln der Ungebungsverhältnisse
Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
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26.04.2006
Beleuchtungsoptimierung für spezifische Maskenmuster
Optik & Fototechnik
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12.04.2006
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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22.03.2006
Spannungsdoppelbrechungsplatte aus Calciumfluorid (CaF2) sowie Zugehöriges Herstellungsverfahren
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.12.2000
Erteilt am 22.03.2006
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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22.03.2006
Methode zur Erzeugung von Linien oder Löchern mit variablen Intervallen unter Einsatz von Pixeln in fixer Dimension für lithographische Systeme vom Direktschreibtyp
Optik & Fototechnik
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15.03.2006
Steuerung eines lithographischen Apparates
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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09.03.2006
Imprint lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.06.2005
Anhängig
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08.03.2006
Lithographischer Projektionsapparat
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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08.03.2006
Verfahren zur Messung der Aberration eines lithographischen Projektionssystems
Optik & Fototechnik
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08.03.2006
Kontaminationsschutz mit ausdehnbaren Lamellen
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 23.12.2003
Erteilt am 08.03.2006
Vertretung
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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08.03.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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08.03.2006
Robot-Vor-Positionierung in einem Chip-Herstellungssystem
Steuerungs- & Regelungstechnik
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01.03.2006
Verwendung einer obersten Schicht auf einem Spiegel für ein Lithographiegerät, Spiegel und Lithographiegerät mit diesem sowie Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 13.10.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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22.02.2006
Belichtungsapparat, Methode und Computer-Programmprodukt zur Erzeugung von Mustern auf adressierbaren Lithographiemasken und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen unter seiner Verwendung
Optik & Fototechnik
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15.02.2006
Optimierung einer kritischen Dimension in der Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.09.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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08.02.2006
Lithographischer Projektionsapparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikel, dabei erzeugter Artikel und Gaszusammensetzung
Optik & Fototechnik
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01.02.2006
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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01.02.2006
Verfahren und Vorrichtung zur Verhindering der Mischung eines Lichtquellengases mit dem Hauptkammergas in einem lithographischen Gerät
Optik & Fototechnik
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01.02.2006
Verfahren und Vorrichtung zum Recycling von Gasen in einem lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
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25.01.2006
Verfahren und Apparat zur Ausrichtung, lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und Ausrichtgeräts
Optik & Fototechnik
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18.01.2006
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.09.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.01.2006
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Masken zur Benutzung mit Dipolbelichtung
Optik & Fototechnik
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04.01.2006
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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28.12.2005
Vorrichtung zur Aktiven Kompensation von Aberrationen in einem Optischen System
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.04.2001
Erteilt am 28.12.2005
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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21.12.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
Zum Anmelder-ProfilTechnologiefelder
Optik & Fototechnik
4.274
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
1.232
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
615
Elektronik & Schaltungstechnik
366
Software & Datenverarbeitung
277
Elektrische Energietechnik
171
Steuerungs- & Regelungstechnik
92
Maschinenelemente & Fluidtechnik
67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
Verfahrens- & Trenntechnik
55
Anorganische Chemie & Werkstoffe
39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35