ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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15.06.2005
Katadioptrisches lithographisches System mit Trägerplattevorrichtungen für Retikel und Wafer in zueinander orthogonalen Ebenen
Optik & Fototechnik
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08.06.2005
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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08.06.2005
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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08.06.2005
EUV-Beleuchtungssystem und Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2004
Anhängig
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
Winckels, J.H.F., Mr. Ir · Den Haag
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02.06.2005
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2004
Anhängig
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01.06.2005
Prozesskammer mit einer reflektierenden Platte
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 16.06.2000
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
McGowan, Cathrine · London
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25.05.2005
Lithographischer Druck mit Polarisiertem Licht
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.02.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Grünecker, August, Dipl.-Ing · München
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18.05.2005
Retikelhalter
Verpackungs- & Fördertechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.10.2004
Anhängig
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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18.05.2005
Lithographischer Apparat mit Unterdrückung von Kontamination
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.11.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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12.05.2005
Methods and apparatuses for applying wafer-alignment marks
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.09.2004
Anhängig
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11.05.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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11.05.2005
Strahlungsdetektor
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.11.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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04.05.2005
Lithographisches Gerät sowie Methode zur Herstellung eines Elements
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.10.2003
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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04.05.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.09.2004
Anhängig
Vertretung
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04.05.2005
Verfahren und System zur Korrektur von Intrinsischem Doppelbrechen bei der Uv-Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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27.04.2005
Spiegel für ein Lithographiegerät, Lithographiegerät mit einem solchen und Verfahren zur Herstellung eines Bauteils
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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27.04.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, und eine Messeinrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.10.2004
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Barendregt, Frank, Drs · Rijswijk
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20.04.2005
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und Positionierungssystem
Optik & Fototechnik
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20.04.2005
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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20.04.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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20.04.2005
Eingebettete Aetzstopschicht für Phasenschiebermasken, sowie ebene Phasenschiebermaske zur Reduzierung von Wellenleitereffekten und Topographie bedingten Effekten
Optik & Fototechnik
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20.04.2005
Photolithographische Vorrichtung mit mehreren Retikeln
Optik & Fototechnik
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14.04.2005
Adaptive thermal control of lithographic chemical processes
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 31.08.2004
Anhängig
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06.04.2005
Substrathalter und lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.07.2004
Anhängig
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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06.04.2005
Steuerung eines lithographischen Apparates
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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30.03.2005
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.09.2003
Anhängig
Vertretung
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23.03.2005
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.08.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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23.03.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.09.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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23.03.2005
Ausrichtungs- oder Überlagerungs-Markenstruktur
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2004
Anhängig
Vertretung
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23.03.2005
Lithographischer Projektionsapparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und dabei erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.07.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Barendregt, Frank, Drs · Rijswijk
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
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23.03.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.09.2004
Anhängig
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
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16.03.2005
Verfahren zum Schutz eines optischen Elements, und optisches Element
Optik & Fototechnik
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10.03.2005
High-Rresoulution Gas Gauge Proximity Sensor
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 25.08.2004
Anhängig
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09.03.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.09.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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09.03.2005
Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.09.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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09.03.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.08.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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09.03.2005
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Maske Und/oder einer Membranabdeckung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 29.04.2004
Anhängig
Vertretung
Leeming, John Gerard · London
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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02.03.2005
Mehrschichtiger Spiegel mit erhöhter Reflektivität für Extrem-Ultraviolett-Strahlung und lithographische Projektionsvorrichtung mit einem solchen Spiegel
Optik & Fototechnik
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02.03.2005
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.08.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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02.03.2005
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 29.08.2003
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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