ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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15.09.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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15.09.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
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15.09.2004
Verfahren und Vorrichtung zur Wartung eines Maschinenteils
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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15.09.2004
Lithographische Projektionsanordnung, Gerät und Verfahren zur Substrathandhabung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 05.03.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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15.09.2004
Lithographische Projektionsanordnung, Schleuseneinrichtung und Verfahren zur Übertragung von Gegenständen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.03.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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15.09.2004
Hochauflösender, mit Gasströmung betriebener Näherungssensor
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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15.09.2004
Mit Flüssigkeitsströmung betriebener Näherungssensor für den Einsatz in der Immersionslithographie
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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08.09.2004
Vorrichtung und Verfahren zur Manipulation und Lenkung eines Messstrahls
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.03.2004
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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02.09.2004
Verfahren und Vorrichtung zur Abgabe von Halbleiterverarbeitungslösungen mit mehreren Spritzen für Flüssigkeitsabgabeanordnungen
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.02.2004
Anhängig
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01.09.2004
Strukturen und Verfahren zur Verringerung der Aberration in Optischen Systemen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.10.2002
Anhängig
Vertretung
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01.09.2004
Verfahren und Vorrichtung zur Messung der Oberflächenkontamination eines Teils eines Lithographischen Apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.02.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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18.08.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.05.2001
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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11.08.2004
Apparat und Verfahren für Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.09.2000
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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05.08.2004
Tailored reflecting diffractor for euv lithographic system aberration measurement
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.01.2004
Anhängig
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28.07.2004
Kühlung von linearen Schwingmotoren in lithographischen Projektionsapparaten
Optik & Fototechnik
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21.07.2004
Detektoranordnung und mit einer solchen Detektoranordnung ausgestatteter lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 31.12.2003
Anhängig
Vertretung
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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21.07.2004
Lithographischer Belichtungsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.11.2003
Anhängig
Vertretung
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30.06.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.12.2002
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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30.06.2004
Behälter für eine Maske
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.12.2003
Anhängig
Vertretung
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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30.06.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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30.06.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
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30.06.2004
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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23.06.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.12.2002
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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23.06.2004
Lithographisches Gerät, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, und diese Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.12.2002
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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23.06.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Substrathalter
Optik & Fototechnik
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23.06.2004
Lithographisches Gerät, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, und diese Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.12.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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23.06.2004
Verfahren zur Reinigung einer Oberfläche einer Komponente eines lithographischen Projektionsaparats, lithographischer Projektionsapparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Reinigungssystem
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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23.06.2004
Lithographischer Projektionsapparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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09.06.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.12.2002
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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09.06.2004
Lithgraphischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikel und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.12.2002
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
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09.06.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit hergestellter Artikel
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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19.05.2004
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.07.2001
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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19.05.2004
Anordnung und System zur Verbesserung der Abbildungsgenauigkeit einer Phasenverschiebungsmaske und verwandte Verfahren
Optik & Fototechnik
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19.05.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2003
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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19.05.2004
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung mit rückwärtigen Ausrichtmarken
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.05.2004
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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06.05.2004
Maskenschutz und -Transport
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.08.2002
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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28.04.2004
Verfahren zum Schutz von zur Befestigung von optischen Elementen verwendeten Klebern vor ultra-violettem Licht
Optik & Fototechnik
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21.04.2004
Lithographischer Apparat mit Vakuumkammer und interferometrischem Ausrichtungssystem
Optik & Fototechnik
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15.04.2004
Beleuchtungssystem F R eine Wellenl Nge = 193 Nm mit Sensoren zur Bestimmung der Ausleuchtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.09.2003
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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