ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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03.01.2024
Vorrichtung zur Befestigung eines Pellikels
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Status
Angemeldet am 16.11.2015
Erteilt am 03.01.2024
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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03.01.2024
Maskenanordnung
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Status
Angemeldet am 16.11.2015
Erteilt am 03.01.2024
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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03.01.2024
Maschinenlernmodell mit Verwendung eines Zielmusters und Referenzschichtmusters zur Bestimmung der Optischen Näherungskorrektur für eine Maske
EP4298478
Optik & Fototechnik
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03.01.2024
Vorrichtung zur Breitbandstrahlungserzeugung
EP4300183
Optik & Fototechnik
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03.01.2024
Verfahren zum Verarbeiten von von einer Probe Abgeleiteten Daten
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03.01.2024
Fokusmessung und -Steuerung in der Metrologie und Zugehörige Keilanordnung
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03.01.2024
Neuartige Schnittstellendefinition für Lithografische Vorrichtung
EP4298481
Optik & Fototechnik
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27.12.2023
Bildgebungsverfahren und Metrologievorrichtung
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Zusammenfassung
Disclosed is an imaging method comprising obtaining a set of primary deconvolution kernels or a set of impulse responses relating to an optical system used to capture said image; obtaining said image signal, said image signal being subject to one or more imaging effects including at least one or more non-isoplanatic imaging effects;performing a low-rank approximation on said set of primary deconvolution kernels or impulse responses to determine respectively a set of deconvolution modes or a set of impulse response modes, each deconvolution mode comprising a modal secondary deconvolution kernel and a modal weight function and each impulse response mode comprising a modal impulse response and a modal inverse weight function; obtaining at least approximated imaging effect-free object information related to said object by applying said modal secondary deconvolution kernels and modal weight functions or said modal impulse responses and modal inverse weight functions to said image signal. |
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27.12.2023
Verfahren zum Ausrichten eines Beleuchtungsdetektionssystems einer Messvorrichtung und Zugehörige Messvorrichtung
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Zusammenfassung
Disclosed is a method of determining an illumination-detection system alignment of an illumination-detection system describing alignment of at least one detector and/or measurement illumination of a metrology apparatus in terms of two or more illumination-detection system alignment parameters, each illumination-detection system alignment parameter relating to a respective degree of freedom for aligning the detector and/or the measurement illumination. The method comprises obtaining a diffraction pattern relating to diffraction of broadband radiation from a structure; transforming each of one or more diffraction orders of the diffraction pattern to a respective region coordinate system, each region coordinate system comprising a first axis and a second axis, each region coordinate system being such that said first axis is aligned in relation to a direction of an intensity metric of each transformed diffraction order; and determining illumination-detection system alignment parameter values for the illumination-detection system alignment parameters. |
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27.12.2023
Anordnung zur Trennung von Strahlung im Fernfeld
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20.12.2023
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zum Betrieb einer Lithografischen Vorrichtung
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Status
Angemeldet am 30.09.2016
Erteilt am 20.12.2023
Vertretung
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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20.12.2023
Verfahren zur Räumlichen Ausrichtung einer Strukturierungsvorrichtung und eines Substrats
EP4293424
Optik & Fototechnik
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13.12.2023
System, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Verminderung der Oxidation oder Entfernung von Oxid auf einem Substratträger
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Status
Angemeldet am 08.06.2018
Erteilt am 13.12.2023
Vertretung
Verhoeven, Johannes Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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13.12.2023
Verfahren zur Bestimmung von Kontrollparametern eines Herstellungsverfahrens für Bauelemente
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Status
Angemeldet am 22.08.2018
Erteilt am 13.12.2023
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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13.12.2023
Verfahren und Vorrichtungen zur Räumlichen Filterung von Optischen Impulsen
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13.12.2023
Verfahren und System zur Vorhersage von Aberrationen in einem Projektionssystem
EP4288838
Optik & Fototechnik
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13.12.2023
Elektronenoptische Vorrichtung
EP4290550
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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13.12.2023
Verfahren zur Herstellung von Photonischen Kristallfasern
EP4289798
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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06.12.2023
Gleichzeitige Doppelbeschichtung eines Graphen-Mehrschichtpellikels durch Lokale Wärmebehandlung
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Status
Angemeldet am 26.06.2018
Erteilt am 06.12.2023
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.12.2023
Vorrichtung mit Verwendung mehrerer Geladener Teilchenstrahlen
EP4250334
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.12.2023
Verfahren zur Kompensation eines Belichtungsfehlers in einem Belichtungsverfahren
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Status
Angemeldet am 24.04.2015
Erteilt am 06.12.2023
Vertretung
Filip, Diana · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.12.2023
Metrologieverfahren und -Vorrichtungen
EP4285186
Optik & Fototechnik
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06.12.2023
Verfahren zur Bestimmung eines Fokusbetätigungsprofils für einen oder Mehrere Aktuatoren einer Lithografischen Belichtungsvorrichtung
EP4285188
Optik & Fototechnik
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22.11.2023
Interferometersystem, Positionierungssystem, Lithografische Vorrichtung, Jitterbestimmungsverfahren und Vorrichtungsherstellungsverfahren
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22.11.2023
Kontaminationsverminderungssystem
EP4278233
Optik & Fototechnik
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22.11.2023
Beleuchtungsmodul und Zugehörige Verfahren und Metrologiegerät
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22.11.2023
Quellenauswahlmodul und Zugehöriges Messtechnisches Gerät
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22.11.2023
Verfahren zur Optimierung der Wartung einer Lithographieanlage
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22.11.2023
Datenabruf
EP4280076
Software & Datenverarbeitung
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22.11.2023
Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen und Verfahren
EP4280252
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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15.11.2023
Greifer und Lithografische Vorrichtung mit dem Greifer
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15.11.2023
Beleuchtungsmodusselektor und Zugehöriges Optisches Messinstrument
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08.11.2023
Motoranordnung, Lithografische Vorrichtung und Einrichtungsherstellungsverfahren
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Status
Angemeldet am 27.09.2017
Erteilt am 08.11.2023
Vertretung
Ras, Michael Adrianus Josephus · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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08.11.2023
Positionierungssystem für eine Lithographische Vorrichtung
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08.11.2023
Positionierungsvorrichtung, Steifigkeitsreduktionsvorrichtung und Elektronenstrahlvorrichtung
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08.11.2023
Hohlkernglasfaserbasierte Strahlungsquelle
EP4273622
Optik & Fototechnik
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08.11.2023
Vorrichtung und Verfahren zur Messung von Kontamination und Lithographisches Gerät mit Dieser Vorrichtung
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01.11.2023
Elektronenlinse
EP4268256
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.11.2023
Flüssigkeitshandhabungssystem, Verfahren und Lithografische Vorrichtung
EP4268020
Optik & Fototechnik
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01.11.2023
Elektronenoptische Säule und Verfahren zum Richten eines Primärelektronenstrahles auf eine Probe
EP4268257
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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