ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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21.02.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Berührungslosen Inspektion eines Substrats
EP4325229
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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21.02.2024
Lithographisches System für die Bearbeitung eines Artikels, Wie einer Halbleiterscheibe, und Verfahren zum Betreiben eines Lithographischen Systems für die Bearbeitung eines Artikels, Wie einer Halbleiterscheibe
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21.02.2024
Flüssigkeitshandhabungssystem, Verfahren und Lithografische Vorrichtung
EP4323841
Optik & Fototechnik
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14.02.2024
Strahlungsquelle
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14.02.2024
Fluidausgabesystem und -Verfahren
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14.02.2024
Verfahren zur Modellierung von Messdaten über einen Substratbereich und Zugehörige Vorrichtungen
EP4320483
Optik & Fototechnik
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14.02.2024
Verfahren zur Bestimmung von mindestens einem Ziellayout und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4320482
Optik & Fototechnik
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07.02.2024
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Korrektur der Belichtungsuniformität
EP4314947
Optik & Fototechnik
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07.02.2024
System, Gerät und Verfahren zur Selektiven Oberflächenbehandlung
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07.02.2024
Kontaminationsmessung
EP4318132
Optik & Fototechnik
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07.02.2024
Sensormodul, Beleuchtungsvorrichtung, Metrologievorrichtung und Zugehöriges Metrologieverfahren
EP4318131
Optik & Fototechnik
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07.02.2024
Mehrfach-Ladungsträgerstrahlgerät mit Geringem Übersprechen
EP4315386
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.02.2024
System und Verfahren zur Bestimmung Lokaler Fokuspunkte Während der Inspektion in einem System mit Geladenen Teilchen
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31.01.2024
Substratbelichtungssystem
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Status
Angemeldet am 14.12.2017
Erteilt am 31.01.2024
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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31.01.2024
Kontaminationsbestimmung
EP4312078
Optik & Fototechnik
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31.01.2024
Tröpfchenerzeugerdüse
EP4312469
Elektronik & Schaltungstechnik
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31.01.2024
Verfahren zum Vermindern des Übersprechens in Metrologischen Bildern
EP4312079
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is a method of determining an orthonormalized structure of interest reference image, the orthonormalized structure of interest reference image for applying to a measured image of the structure of interest to correct for the effect of crosstalk from at least one nuisance structure. The method comprises determining a structure of interest reference image based on knowledge of the structure of interest; determining at least one nuisance structure reference image based on knowledge of the at least one nuisance structure; and orthonormalizing the structure of interest reference image to the at least one nuisance reference image to obtain the orthonormalized structure of interest reference image. |
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31.01.2024
Verfahren und Geräte für die Fourier-Transformationsspektrometrie
EP4312005
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is a Fourier-transform spectrometer comprising a beamsplitting arrangement operable to define a first radiation source and a second radiation source from a common radiation source, and at least one detector operable to detect interferogram data as a function of detection position in at least a first detection plane direction of a detection plane, the interferogram data resulting from interference of a first diverging beam emitted from said first radiation source and a second diverging beam emitted from said second radiation source. A processor is operable to:perform a linearization correction to said interferogram data to obtain linearized interferogram data; and Fourier transform the linearized interferogram data to obtain spectral characteristic data relating to the common radiation source. |
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31.01.2024
Kontrol-System und Verfahren für eine Lithographie-Vorrichtung
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24.01.2024
Elektronenoptisches Gerät und Verfahren zur Erlangung von Topographischen Informationen über eine Probenoberfläche
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24.01.2024
Detektor für Geladene Teilchen für die Mikroskopie
EP4310884
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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24.01.2024
Systeme und Verfahren zum Modifizieren und Trainieren von Neuromorphen Photonischen Schaltungen
EP4310582
Optik & Fototechnik
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24.01.2024
Hohlkern-Lichtleitfaserbasierte Strahlungsquelle
EP4309000
Optik & Fototechnik
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24.01.2024
Euv-Pellikel
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24.01.2024
Sem-Bildverbesserung
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24.01.2024
Klemmelektrodenmodifizierung für Verbesserte Überlagerung
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24.01.2024
Manipulator, Manipulatoranordnung, Geladenes Teilchenwerkzeug, Mehrstrahliges Teilchenwerkzeug und Verfahren zum Manipulieren eines Geladenen Teilchenstrahls
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Zusammenfassung
A manipulator for manipulating a charged particle beam in a projection system, the manipulator comprising a substrate having opposing major surfaces in each of which is defined an aperture and a through-passage having an interconnecting surface extending between the apertures; wherein the interconnecting surface comprises one or more electrodes; the manipulator further comprising a potential divider comprising two or more resistive elements connected in series, the potential divider comprising an intermediate node between each pair of adjacent resistive elements, wherein at least one resistive element is formed within the substrate so as to extend between the opposing major surfaces; wherein the intermediate node is electrically connected to at least one of the one or more electrodes. |
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17.01.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Charakterisierung eines Halbleiterherstellungsverfahrens
EP4305494
Optik & Fototechnik
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17.01.2024
Elektronenoptische Anordnung
EP4307334
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.01.2024
Isolierender Abstandshalter für Elektronenoptische Anordnung
EP4307335
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.01.2024
Substrathandhabungssystem einer Lithografievorrichtung und Verfahren dafür
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17.01.2024
Verfahren zur Bewertung einer Probe, Vorrichtung zur Bewertung einer Probe
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17.01.2024
Metrologie- und Steuerungssystem
EP4307842
Elektronik & Schaltungstechnik
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10.01.2024
Substrathalter und Verfahren zur Herstellung eines Substrathalters
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Status
Angemeldet am 06.07.2017
Erteilt am 10.01.2024
Vertretung
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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10.01.2024
Membran und Zugehöriges Verfahren und Vorrichtung
EP4303655
Optik & Fototechnik
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10.01.2024
Verfahren zur Bestimmung einer Parasitären Kraft eines Aktuators einer Optischen Komponente, Steuerverfahren für einen Aktuator, Optisches System, Projektionssystem und Lithographisches Gerät
EP4303659
Optik & Fototechnik
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10.01.2024
Membran für eine Lithographische Vorrichtung und Verfahren
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10.01.2024
Substratrückhaltesystem
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10.01.2024
Beurteilungsvorrichtung, die eine Vielzahl von Strahlen Geladener Teilchen Verwenden
EP4303908
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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10.01.2024
Verfahren zur Korrektur von Metrologiesignaldaten
EP4303658
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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