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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
28.03.2024
Positioning system for an optical element of a metrology apparatus
WO2024061736
Optik & Fototechnik
28.03.2024
System and method for image disturbance compensation
WO2024061596
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.03.2024
Method of forming a patterned layer of material, apparatus for forming a patterned layer of material
WO2024061581
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
28.03.2024
Readout design for charged particle counting detectors
WO2024061566
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
28.03.2024
Optical alignment system and method
WO2024061572
Optik & Fototechnik
27.03.2024
Datenverarbeitungsvorrichtung und -Verfahren, Beurteilungssystem für Geladene Teilchen und Verfahren
EP4341890
Software & Datenverarbeitung
27.03.2024
Optisches Ausrichtungssystem und -Verfahren
EP4343436
Optik & Fototechnik
27.03.2024
Klassifizierung von Produkteinheiten
EP4343472
Steuerungs- & Regelungstechnik
27.03.2024
Verfahren zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht, Vorrichtung zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht
EP4343020
Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
27.03.2024
Verfahren und Vorrichtung zum Bonden von Substraten
EP4343827
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.03.2024
Datenverarbeitungsvorrichtung und -Verfahren, Beurteilungssystem für Geladene Teilchen und Verfahren
EP4343812
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.03.2024
Maskenanordnung
EP4296778
Optik & Fototechnik
21.03.2024
A patterning device voltage biasing system for use in euv lithography
WO2024056552
Optik & Fototechnik
21.03.2024
Mixed Energy Control in an Euv Lithography System
WO2024056330
Elektronik & Schaltungstechnik
21.03.2024
Illumination adjustment apparatuses and lithographic apparatuses
WO2024056318
Optik & Fototechnik
21.03.2024
A multi-pass radiation device
WO2024056284
Optik & Fototechnik
21.03.2024
Metrology method and associated metrology device
WO2024056296
Optik & Fototechnik
20.03.2024
Bewertungssystem, Bewertungsverfahren
EP4338190
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.03.2024
Metrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4339703
Optik & Fototechnik
14.03.2024
Holographic metrology apparatus and method
WO2024052031
Optik & Fototechnik
14.03.2024
Measuring contrast and critical dimension using an alignment sensor
WO2024052061
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
14.03.2024
Euv Radiation Beam Power Reduction
WO2024052041
Optik & Fototechnik
14.03.2024
Method for monitoring proper functioning of one or more components of a lithography system
WO2024052057
Optik & Fototechnik
13.03.2024
Temperaturmessung von Optischen Elementen in einem Optischen Gerät
EP4334781
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.03.2024
Metrologisches Verfahren und Zugehörige Metrologische Vorrichtung
EP4336262
Optik & Fototechnik
13.03.2024
Euv-Strahlungsstrahlleistungsreduktion
EP4336263
Optik & Fototechnik
13.03.2024
Strahlungsvorrichtung mit mehreren Durchgängen
EP4336251
Optik & Fototechnik
13.03.2024
Pellikel und Verfahren zur Bildung des Pellikels zur Verwendung in einer Lithografischen Vorrichtung
EP4336258
Optik & Fototechnik
13.03.2024
Kausalfaltungsnetzwerk zur Prozesssteuerung
EP4334782
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
13.03.2024
Optisches Element zur Erzeugung von Breitbandstrahlung
EP4334766
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
07.03.2024
Dose Control in an Extreme Ultraviolet Light Source
WO2024046835
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
06.03.2024
Laserstrahlmetrologiesystem, Laserstrahlsystem, Euv-Strahlungsquelle und Lithografische Vorrichtung
EP4330626
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
06.03.2024
Reinigungsverfahren und Zugehörige Lichtquellenmetrologievorrichtung
EP4330768
Optik & Fototechnik
06.03.2024
Vorrichtung zur Befestigung eines Pellikels
EP4286941
Optik & Fototechnik
06.03.2024
System und Verfahren zur Bewertung Geladener Partikel
EP4333019
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.03.2024
Vorrichtung mit mehreren Geladenen Partikelstrahlen
EP3616231
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.03.2024
Holographisches Lithographiegerät und Verfahren
EP4332678
Optik & Fototechnik
29.02.2024
Metrology system and method
WO2024041827
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
29.02.2024
Modelling of multi-level etch processes
WO2024041831
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.02.2024
Verfahren zur Parameterrekonstruktion einer Metrologievorrichtung und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4328670
Optik & Fototechnik

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39
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35

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