ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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25.11.2020
Antischleifmechanismus für Objektträger zur Verbesserung der Lebensdauer von Wälzlagern
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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25.11.2020
Detektionsvorrichtung zur Gleichzeitigen Aufnahme mehrerer Verschiedener Bilder eines Objekts
Optik & Fototechnik
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25.11.2020
Systeme und Verfahren zur Anpassung von Vorhersagemodellen zwischen Anlagenstandorten
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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18.11.2020
Metrologiewerkzeuge mit Aplanatischem Objektiv-Singulett
Optik & Fototechnik
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11.11.2020
Objekthalter, Lithographischer Apparat und Lithographisches Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.05.2013
Erteilt am 11.11.2020
Vertretung
Dung, Shiang-Lung · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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04.11.2020
Vorrichtung mit mehreren Geladenen Teilchenstrahlen
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.07.2016
Erteilt am 04.11.2020
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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04.11.2020
Teilfeldsteuerung eines Lithografischen Prozesses und Zugehörige Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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04.11.2020
Verfahren und Vorrichtung zur Photolithografischen Bildgebung
Optik & Fototechnik
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04.11.2020
Verfahren zur Erzeugung eines Steuerschemas und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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04.11.2020
Bestimmung eines Layouts von Markierungen auf einer Strukturierungsvorrichtung oder einem Substrat
Optik & Fototechnik
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28.10.2020
Auf Rechnerischer Metrologie Basierende Korrektur und Steuerung
Optik & Fototechnik
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28.10.2020
Metrologieverfahren und -Vorrichtung, Computerprogramm und Lithografisches System
Optik & Fototechnik
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28.10.2020
Verfahren zur Bestimmung einer Messteilmenge von Messpunkten auf einem Substrat, Zugehörige Vorrichtung und Computerprogramm
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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28.10.2020
Verfahren zur Erneuten Bildgebung eines Bildes und Zugehörige Metrologievorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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21.10.2020
Fluidhandhabungsstruktur, Lithographische Vorrichtung und Verfahren zur Verwendung einer Fluidhandhabungsstruktur
Optik & Fototechnik
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21.10.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung eines Zustands im Zusammenhang mit einer Pellikel
Optik & Fototechnik
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14.10.2020
Verfahren und Vorrichtung zur Formung einer Strukturierten Materialschicht
Metallurgie & Oberflächentechnik
Optik & Fototechnik
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07.10.2020
Systeme und Verfahren zur Bildverbesserung für ein Mehrstrahliges Ladungspartikelinspektionssystem
Software & Datenverarbeitung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.10.2020
Herstellung eines Reflektierenden Beugungsgitters
Optik & Fototechnik
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07.10.2020
Optische Faser
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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30.09.2020
Frequenzverbreiterungsvorrichtung und -Verfahren
Optik & Fototechnik
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30.09.2020
Substrathalter, Substratträger und Verfahren zum Festklemmen eines Substrats an einem Klemmsystem
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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30.09.2020
Frequenzverbreiterungsvorrichtung und -Verfahren
Optik & Fototechnik
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30.09.2020
Poröses Graphitisches Pellikel
Optik & Fototechnik
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30.09.2020
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.10.2013
Erteilt am 30.09.2020
Vertretung
van de Ven, Jan-Piet · Eindhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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30.09.2020
Substratpositionierungsvorrichtung und Elektronenstrahlinspektionswerkzeug
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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30.09.2020
Positionsmetrologievorrichtung und Zugehörige Optische Elemente
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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30.09.2020
Blendenanordnung mit Integrierter Strommessung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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23.09.2020
Vorrichtung und Verfahren zur Gemeinsamen Interpolation und Vorhersage von Eigenschaften
Software & Datenverarbeitung
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16.09.2020
Metrologieverfahren
Optik & Fototechnik
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16.09.2020
Metall-Silicid-Nitrierung zur Spannungsverminderung
Optik & Fototechnik
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09.09.2020
Verfahren zur Bestimmung der Grundursachen von Ereignissen eines Halbleiterherstellungsprozesses und zur Überwachung eines Halbleiterherstellungsprozesses
Steuerungs- & Regelungstechnik
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09.09.2020
Optische Komponente auf Basis von Photonischen Hohlkernkristallfasern zur Breitbandigen Strahlungserzeugung
Optik & Fototechnik
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09.09.2020
Extrahieren eines Merkmals aus einem Datensatz
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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09.09.2020
Pod zur Aufbewahrung einer Musterungsvorrichtung
Verpackungs- & Fördertechnik
Optik & Fototechnik
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09.09.2020
Verfahren und Vorrichtung zur Schätzung einer Substratform
Optik & Fototechnik
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09.09.2020
Lithografische Vorrichtung mit Aktiver Grundrahmenstütze
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2016
Erteilt am 09.09.2020
Vertretung
Verhoeven, Johannus Theodorus Maria · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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02.09.2020
Reflektorherstellungsverfahren und Zugehöriger Reflektor
Kunststoff- & Polymertechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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02.09.2020
Ausrichtungsverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
Optik & Fototechnik
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02.09.2020
Pellikelrahmen und Pellikelanordnung
Optik & Fototechnik
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Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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