ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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21.01.2026
Verfahren zur Herstellung eines Kabelendverschlusses und Kabel
Elektrische Energietechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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21.01.2026
Substratträger und Lithographische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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21.01.2026
Hohlkern-Lichtleitfaserbasierte Strahlungsquelle
Optik & Fototechnik
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21.01.2026
System und Verfahren zur Ausrichtung eines Substrats
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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21.01.2026
Flüssigkeitstransportsystem, Temperaturkonditionierungssystem, Lithografische Vorrichtung und Flexibler Schlauch
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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15.01.2026
System and method for thermal contact modulation between object and clamp
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.06.2025
Anhängig
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15.01.2026
System and method for compact display of optical measurement information
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.06.2025
Anhängig
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15.01.2026
Method and apparatus for short wavelength metrology
Optik & Fototechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2025
Anhängig
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15.01.2026
Reticle capture arrangement for a lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 11.06.2025
Anhängig
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15.01.2026
Wafer stage system, method, and lithographic apparatus provided with the wafer stage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2025
Anhängig
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14.01.2026
Modul, Vorrichtung und Verfahren zur Verwendung des Moduls
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.01.2026
Substratvorrichtung
Optik & Fototechnik
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14.01.2026
Verfahren und System zur Stabilisierung eines Lasers mit Erzeugter Frequenzsumme
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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14.01.2026
Verfahren zur Kalibrierung einer Abstimmbaren Lichtquelle in einem Interferometersystem
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
The present disclosure provides method of calibrating a tunable light source in an interferometer system, the method comprising the steps of: - simultaneously performing a frequency sweep with the tunable light source across at least one measurement axis and a reference axis of the interferometer system to obtain a frequency response; - obtaining a fit residual of the frequency response of the tunable light source; - obtaining a noise fingerprint of the fit residual; - correlating the noise fingerprint to a reference noise fingerprint; and - calibrating the tunable light source based on the correlation between the noise fingerprint and the reference noise fingerprint. |
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14.01.2026
Anordnung zur Bündelung von Breitbandstrahlung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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14.01.2026
Lithografisches Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.09.2018
Erteilt am 14.01.2026
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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08.01.2026
Exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.06.2025
Anhängig
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08.01.2026
Dual comb radiation source and heterodyne detection for alignment metrology
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.06.2025
Anhängig
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08.01.2026
Systems and methods for reticle transmission measurements in a lithographic system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.06.2025
Anhängig
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08.01.2026
Systems and methods for inspecting and storing reticles
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.06.2025
Anhängig
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08.01.2026
Substrate Support Assembly
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.05.2025
Anhängig
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08.01.2026
Spectral Filter Membrane
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.06.2025
Anhängig
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08.01.2026
Method of controlling exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.05.2025
Anhängig
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08.01.2026
Graph neural networks for exploiting spatial and semantic relations in metrology data
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.05.2025
Anhängig
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07.01.2026
Verfahren zur Erzeugung von Breitbandstrahlung und Zugehörige Breitbandquelle und Metrologievorrichtung
Optik & Fototechnik
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07.01.2026
Belichtungsapparatpositionssteuerung
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
A method of positioning N modules in an exposure apparatus, wherein N > 2, the method comprises controlling a position of each of the N modules, comprising, for at least one of the N modules, feeding through a position error of the at least one of the N modules to at least two other ones of the N modules. The feeding through comprises multiplying the position errors by a feed through filter matrix, wherein a non-diagonal term in the feed through filter matrix provides a feed through parameter from an error signal of a respective one of the N modules to another one of the N modules. |
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07.01.2026
Breitband-Strahlungsquelle
Optik & Fototechnik
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07.01.2026
Sensorsystem und Verfahren zur Erfassung und Lithografische Vorrichtung mit dem Sensorsystem
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
The present disclosure provides a sensor system for use in a lithographic apparatus, the sensor system comprising: - a cooling system to be embedded in a base; - a detector holder provided with a detector and having supports to be connected to the base; - a heat sink connected to the cooling system, the heat sink being thermally disconnected from the detector holder; and - detector electronics thermally coupled to the heat sink for processing a detector signal received from the detector. |
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02.01.2026
Method of performing a qualification action on an exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.05.2025
Anhängig
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02.01.2026
Method of determining a common point in images
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.05.2025
Anhängig
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02.01.2026
Substrate storage system, substrate handling apparatus, method of temporarily storing a substrate
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Status
Angemeldet am 15.05.2025
Anhängig
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02.01.2026
Scanning deflector design for a charged particle beam apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.06.2025
Anhängig
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02.01.2026
Clamping systems and methods for semiconductor processing
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Status
Angemeldet am 12.06.2025
Anhängig
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02.01.2026
Electrostatic Lens
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 25.06.2025
Anhängig
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02.01.2026
Systems and methods for design of a metrology target
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.06.2025
Anhängig
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02.01.2026
Methods for inspecting images
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 29.05.2025
Anhängig
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02.01.2026
In-situ detector bandwidth measurement using images of a charged particle system
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.06.2025
Anhängig
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31.12.2025
Verfahren zur Bestimmung eines Gemeinsamen Punktes in Bildern, Vorrichtung und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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31.12.2025
Reinigungsverfahren
Verfahrens- & Trenntechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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31.12.2025
Interferometersystem, Wellenfrontanalysesystem, Projektionssystem, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Analyse einer Wellenfront eines Lichtstrahls eines Heterodyninterferometersystems
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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