ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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01.10.2025
Verfahren zur Optimierung der Emission Elektromagnetischer Strahlung eines Beleuchtungssystems einer Projektionsbelichtungsanlage, Beleuchtungssystem, Projektionsbelichtungsanlage
EP4625047
Optik & Fototechnik
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01.10.2025
Photonische Integrierte Schaltung zur Erzeugung von Breitbandstrahlung
EP4623339
Optik & Fototechnik
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24.09.2025
Simulation einer Elektromagnetischen Reaktion einer Halbleiterstruktur für Diffraktionsbasierte Optische Metrologie
EP4619823
Optik & Fototechnik
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24.09.2025
Faserherstellungszwischenprodukt und Verfahren zur Herstellung von Photonischen Kristallfasern
EP4619351
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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24.09.2025
Verfahren zur Herstellung von Photonischen Kristallfasern
EP4619352
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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24.09.2025
Breitbandstrahlungsquelle
EP4619821
Optik & Fototechnik
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24.09.2025
Metrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4621485
Optik & Fototechnik
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17.09.2025
Substratträger und Lithographische Vorrichtung
EP4616252
Optik & Fototechnik
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17.09.2025
Positionsmesssystem und Lithographische Vorrichtung
EP4616142
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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17.09.2025
Erzeugung einer Dichten Defektwahrscheinlichkeitskarte zur Verwendung in einem Computergestützten Inspektionsmaschinenlernmodell
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10.09.2025
Detektor für Geladene Teilchenstrahlen mit Adaptivem Detektionsbereich für Mehrere Sichtfeldeinstellungen
EP4612719
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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10.09.2025
Sichttrübungsstab für Extreme Uv-Lichtquelle und Verfahren
EP4613069
Elektronik & Schaltungstechnik
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10.09.2025
Dosissteuersystem
EP4612551
Optik & Fototechnik
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10.09.2025
Verfahren zur Bestimmung eines Abtastschemas, Zugehörige Vorrichtung und Computerprogramm
EP4614227
Optik & Fototechnik
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10.09.2025
Optischer Verstärker
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03.09.2025
Systeme und Verfahren zur Bildbasierten Musterauswahl
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03.09.2025
Hohlkernfaserlichtquelle und Verfahren zur Herstellung einer Hohlkernfaser
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03.09.2025
Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen
EP4609415
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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03.09.2025
Metrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4610725
Optik & Fototechnik
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03.09.2025
Euv-Belichtungsgerät
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Status
Angemeldet am 28.07.2011
Erteilt am 03.09.2025
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
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27.08.2025
Bestimmung eines Ätzeffekts auf Basis einer Gerichteten Ätzreserve
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27.08.2025
Lithographischer Apparat und Verfahren
EP4605797
Optik & Fototechnik
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27.08.2025
Durch Maschinenlernen Unterstützte Pupillenmetrologie
EP4607576
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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27.08.2025
Elektrische Verbindungsprüfung
EP4605765
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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20.08.2025
Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines Entrauschungsmodells
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20.08.2025
Metrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4603909
Optik & Fototechnik
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20.08.2025
Spiegelschicht und Spiegel für einen Lithographischen Apparat
EP4602436
Optik & Fototechnik
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20.08.2025
Elektronenoptisches Element
EP4602636
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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20.08.2025
Ausrichtung von Elektronenoptischen Elementen
EP4602635
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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13.08.2025
Vakuumbelichtungsvorrichtung und Bewertungssystem
EP4600989
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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13.08.2025
Beleuchtungs- und Detektionsanordnung und Verfahren für eine Metrologieanordnung
EP4600746
Optik & Fototechnik
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13.08.2025
Vorrichtung mit mehreren Strahlverändernden Modulen zur Verwendung in einem Metrologiewerkzeug
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13.08.2025
Elektronenoptisches Modul
EP4599473
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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13.08.2025
System zur Messung von Wellenfrontaberrationen und Belichtungsvorrichtung
EP4600738
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
A wavefront aberration measurement system for determining aberrations of a projection system is described, the system comprising: a first 2 dimensional grating, a second 2 dimensional grating, a radiation source configured to irradiate the first 2 dimensional grating, and a detector configured to detect radiation from the radiation source having in sequence interacted with the first 2 dimensional grating, the projection system and the second 2 dimensional grating and The system further comprises a control device configured to perform phase stepping by moving the first 2 dimensional grating and the second 2 dimensional grating in respect of each other along a diagonal of the first 2 dimensional grating and the second 2 dimensional grating with an alignment phase difference between the X-direction and the Y-direction, thereby obtaining detector data. |
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06.08.2025
Verfahren zum Bearbeiten einer Probe mittels einer Teilchenstrahlvorrichtung zur Bewertung
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06.08.2025
Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen und Verfahren zur Verarbeitung einer Probe
EP4597540
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.08.2025
Optische Anordnung für Geladene Teilchen in einem Teilchenstrahlapparat
EP4597539
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.08.2025
Kühlvorrichtung zum Kühlen einer Positionssensitiven Komponente einer Lithographieanlage
EP4594823
Optik & Fototechnik
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06.08.2025
Parametrisierte Inspektionsbildsimulation
EP4594996
Software & Datenverarbeitung
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30.07.2025
System und Verfahren zur Bildauflösungscharakterisierung
EP4591339
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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