Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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21.11.2007
Lithographisches Gerät und zugehöriges Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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14.11.2007
Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.07.2002
Erteilt am 14.11.2007
Vertretung
Ostertag, Ulrich · Stuttgart
Ostertag, Ulrich · Stuttgart
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07.11.2007
Teilchenoptische Komponente und System mit teilchenoptischer Komponente
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 06.09.2001
Anhängig
Vertretung
Diehl & Partner · München
DIEHL GLAESER HILTL & PARTNER · München
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07.11.2007
Projektionsobjektiv mit hoher NA
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.05.2006
Anhängig
Vertretung
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07.11.2007
Optisches System, insbesondere Objektiv- oder Beleuchtungssystem, für eine Vorrichtung zur Belichtung einer Mikrolithographischen Projektion
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2006
Anhängig
Vertretung
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
Frank, Hartmut · Mülheim a. d. Ruhr
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24.10.2007
Vibrationsdämpfung für eine Photolithographische Linsenanbringung
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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17.10.2007
Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit Zwischenbildern
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 28.01.2006
Anhängig
Vertretung
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10.10.2007
Hologramm und Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elements unter Verwendung eines Hologramms
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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10.10.2007
Beleuchtungssystem, insbesondere für ein Projektionsbeleuchtungsgerät in der Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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03.10.2007
Teilchendetektor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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03.10.2007
Untersuchungssystem zum teilchenoptischen Abbilden eines Objekts, Ablenkvorrichtung für geladene Teilchen sowie Verfahren zum Betrieb derselben
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.07.2002
Erteilt am 03.10.2007
Vertretung
Schorr, Frank Jürgen · München
Schorr, Frank, Dr · München
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03.10.2007
Zoomvorrichtung, insbesondere Zoomvorrichtung für eine Beleuchtungsvorrichtung einer Mikrolithographie-Projektionsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.08.2002
Erteilt am 03.10.2007
Vertretung
Muschik, Thomas (DE) · Stuttgart
Muschik, Thomas · Stuttgart
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03.10.2007
Optisches Projektionssystem
Optik & Fototechnik
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03.10.2007
Halterungsstruktur zur vorübergehenden Halterung eines Substrats
Optik & Fototechnik
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26.09.2007
Katadioptrisches Abbildungssystem mit Strahlteiler
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.03.2006
Anhängig
Vertretung
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13.09.2007
Projektionsobjektiv einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.02.2007
Anhängig
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13.09.2007
Off-Axis-Objektive mit Drehbarem Optischen Element
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.03.2007
Anhängig
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05.09.2007
Beleuchtungssystem mit einem Gitterelement
Elektrische Energietechnik
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05.09.2007
Beleuchtungssystem mit Filtereinrichtung
Optik & Fototechnik
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05.09.2007
Projektionsbelichtungssystem, Strahlabliefersystem und Verfahren zur Erzeugung eines Lichtstrahls
Optik & Fototechnik
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30.08.2007
Beleuchtungseinrichtung einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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29.08.2007
Projektionsbelichtungsanlage mit reflektivem Retikel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.01.2001
Erteilt am 29.08.2007
Vertretung
Schultz, Jörg Martin · Oberkochen
Müller-Rissmann, Werner Albrecht, Dr · Oberkochen
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22.08.2007
Optisches Sendeelement und Objektiv für eine Belichtungsvorrichtung für Mikrolithographische Projektionen
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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15.08.2007
Kollektor für Beleuchtungssysteme
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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15.08.2007
Verfahren zu näherungsweisen Bestimmung des Einflusses eines optischen Systems auf den Polarisationszustand optischer Strahlung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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08.08.2007
Projektionsobjektiv, insbesondere für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.05.2001
Erteilt am 08.08.2007
Vertretung
Lorenz, Werner · Heidenheim
Lorenz, Werner · Heidenheim
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08.08.2007
Lichtintegrator für ein Beleuchtungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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01.08.2007
Teilchenoptische Linsenanordnung und Verfahren unter Einsatz einer solchen Linsenanordnung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 27.02.2002
Erteilt am 01.08.2007
Vertretung
Schorr, Frank Jürgen · München
Schorr, Frank, Dr · München
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01.08.2007
Durch Einbiegung eines Master-Stücks Gewonnene Optische Hochpräzisionsoberfläche
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 08.11.2005
Anhängig
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
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11.07.2007
Reaktionsmassenauslöser mit Sechs Freiheitsgraden
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.10.2005
Anhängig
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04.07.2007
Projektionsbelichtungsvorrichtung für Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
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28.06.2007
Imaging Device in A Projection Exposure Machine
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.12.2006
Anhängig
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28.06.2007
Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.12.2006
Anhängig
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20.06.2007
Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines EUV-Beleuchtungssystems
Optik & Fototechnik
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14.06.2007
Verfahren zur Bearbeitung eines Optischen Elementes sowie Optisches Element
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 09.11.2006
Anhängig
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14.06.2007
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Herstellung Mikrostrukturierter Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.11.2006
Anhängig
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07.06.2007
Objective, in Particular Projection Objective For Semiconductor Lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2006
Anhängig
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07.06.2007
Projektionsbelichtungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.11.2006
Anhängig
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07.06.2007
Optisches Element mit Doppelbrechender Beschichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.12.2006
Anhängig
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18.05.2007
Euv-Beleuchtungssystem mit einem System zur Messung von Schwankungen der Lichtquelle
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 09.11.2006
Anhängig
Vertretung
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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