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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
21.11.2007
Lithographisches Gerät und zugehöriges Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
14.11.2007
Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
07.11.2007
Teilchenoptische Komponente und System mit teilchenoptischer Komponente
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.11.2007
Projektionsobjektiv mit hoher NA
Optik & Fototechnik
07.11.2007
Optisches System, insbesondere Objektiv- oder Beleuchtungssystem, für eine Vorrichtung zur Belichtung einer Mikrolithographischen Projektion
Optik & Fototechnik
24.10.2007
Vibrationsdämpfung für eine Photolithographische Linsenanbringung
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
17.10.2007
Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit Zwischenbildern
Optik & Fototechnik
10.10.2007
Hologramm und Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elements unter Verwendung eines Hologramms
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
10.10.2007
Beleuchtungssystem, insbesondere für ein Projektionsbeleuchtungsgerät in der Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
03.10.2007
Teilchendetektor
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2007
Untersuchungssystem zum teilchenoptischen Abbilden eines Objekts, Ablenkvorrichtung für geladene Teilchen sowie Verfahren zum Betrieb derselben
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2007
Zoomvorrichtung, insbesondere Zoomvorrichtung für eine Beleuchtungsvorrichtung einer Mikrolithographie-Projektionsvorrichtung
Optik & Fototechnik
03.10.2007
Optisches Projektionssystem
Optik & Fototechnik
03.10.2007
Halterungsstruktur zur vorübergehenden Halterung eines Substrats
Optik & Fototechnik
26.09.2007
Katadioptrisches Abbildungssystem mit Strahlteiler
Optik & Fototechnik
13.09.2007
Projektionsobjektiv einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
13.09.2007
Off-Axis-Objektive mit Drehbarem Optischen Element
Optik & Fototechnik
05.09.2007
Beleuchtungssystem mit einem Gitterelement
Elektrische Energietechnik
05.09.2007
Beleuchtungssystem mit Filtereinrichtung
Optik & Fototechnik
05.09.2007
Projektionsbelichtungssystem, Strahlabliefersystem und Verfahren zur Erzeugung eines Lichtstrahls
Optik & Fototechnik
30.08.2007
Beleuchtungseinrichtung einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
29.08.2007
Projektionsbelichtungsanlage mit reflektivem Retikel
Optik & Fototechnik
22.08.2007
Optisches Sendeelement und Objektiv für eine Belichtungsvorrichtung für Mikrolithographische Projektionen
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
15.08.2007
Kollektor für Beleuchtungssysteme
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
15.08.2007
Verfahren zu näherungsweisen Bestimmung des Einflusses eines optischen Systems auf den Polarisationszustand optischer Strahlung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
08.08.2007
Projektionsobjektiv, insbesondere für die Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
08.08.2007
Lichtintegrator für ein Beleuchtungssystem, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
01.08.2007
Teilchenoptische Linsenanordnung und Verfahren unter Einsatz einer solchen Linsenanordnung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.08.2007
Durch Einbiegung eines Master-Stücks Gewonnene Optische Hochpräzisionsoberfläche
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
11.07.2007
Reaktionsmassenauslöser mit Sechs Freiheitsgraden
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
04.07.2007
Projektionsbelichtungsvorrichtung für Mikrolithographie
Optik & Fototechnik
28.06.2007
Imaging Device in A Projection Exposure Machine
Optik & Fototechnik
28.06.2007
Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
Optik & Fototechnik
20.06.2007
Steuerung der Beleuchtungsverteilung in der Austrittspupille eines EUV-Beleuchtungssystems
Optik & Fototechnik
14.06.2007
Verfahren zur Bearbeitung eines Optischen Elementes sowie Optisches Element
Optik & Fototechnik
14.06.2007
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Herstellung Mikrostrukturierter Bauelemente
07.06.2007
Objective, in Particular Projection Objective For Semiconductor Lithography
Optik & Fototechnik
07.06.2007
Projektionsbelichtungssystem
Optik & Fototechnik
07.06.2007
Optisches Element mit Doppelbrechender Beschichtung
Optik & Fototechnik
18.05.2007
Euv-Beleuchtungssystem mit einem System zur Messung von Schwankungen der Lichtquelle
Optik & Fototechnik

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