Carl Zeiss SMT Logo

Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

1.949 gesamt
Patent
10.05.2007
Microlithographic projection exposure apparatus
WO2007051574
Optik & Fototechnik
09.05.2007
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Belichtungsvorrichtung
EP1782128
Optik & Fototechnik
25.04.2007
Vorrichtung zum Bündeln der Strahlung einer Lichtquelle
EP1189089
Optik & Fototechnik
12.04.2007
Illumination System Comprising an Otpical Filter
WO2007039257
Optik & Fototechnik
11.04.2007
Vorrichtung zur Wellenfronterfassung
EP1257882
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
29.03.2007
Adaptives Optisches Element
WO2007033964
Optik & Fototechnik
28.03.2007
Gitter Basierter Spektraler Filter zur Unterdrückung von Strahlung Ausserhalb des Nutzbandes in einem Extrem-Ultraviolett Lithographiesystem
EP1540423
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.03.2007
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Einstellung einer Optischen Abbildungseigenschaft Derselben
WO2007031182
Optik & Fototechnik
22.03.2007
Optical element unit for exposure processes
WO2007031413
Optik & Fototechnik
22.03.2007
Optische Elementeinheit
WO2007031412
Optik & Fototechnik
14.03.2007
Beleuchtungseinrichtung mit einem Lichtmischer zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen
EP1605311
Optik & Fototechnik
08.03.2007
High-na projection objective with aspheric lens surfaces
WO2007025643
Optik & Fototechnik
08.03.2007
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2007025783
Optik & Fototechnik
07.03.2007
Projektionssystem mit Kompensation von Intensitätsschwankungen und Kompensationselement dafür
EP1759248
Optik & Fototechnik
07.03.2007
Beleuchtungssystem mit anamorphotischen Komponenten zur Erhöhung des Bildfeldaspektverhältnisses
EP1067437
Optik & Fototechnik
28.02.2007
Optische Baugruppenstruktur mit einem Verbindungskörper mit Mitteln zur Kompensation der Thermischen Aussendung
EP1756641
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
22.02.2007
Optisches System, Nämlich Objektiv oder Beleuchtungseinrichtung einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
WO2007019886
Optik & Fototechnik
22.02.2007
Projektionsobjektiv und Verfahren zur Optimierung einer Systemblende eines Projektionsobjektivs
WO2007020004
Optik & Fototechnik
22.02.2007
Immersion Lithography Objective
WO2007020067
Optik & Fototechnik
21.02.2007
Mehrschichtsystem mit Schutzschichtsystem und Herstellungsverfahren
EP1150139
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
21.02.2007
Beleuchtungssystem einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP1754111
Optik & Fototechnik
15.02.2007
Projection objective of a microlithographic projection exposure apparatus
WO2007017089
Optik & Fototechnik
07.02.2007
Vorrichtung zur Bereitstellung eines Polarisationsmusters
EP1749241
Optik & Fototechnik
07.02.2007
Optikmodul für ein Objektiv
EP1749242
Optik & Fototechnik
25.01.2007
Optical Element Module
WO2007010011
Optik & Fototechnik
25.01.2007
Optisches system
WO2007009632
Optik & Fototechnik
24.01.2007
Gehäuse mit einer Struktur zum Anbringen Optischer Elemente
EP1745317
Optik & Fototechnik
24.01.2007
Verfahren zum Korrigieren eines lithographischen Projektionsobjektivs und derartiges Projektionsobjektiv
EP1746463
Optik & Fototechnik
18.01.2007
An optical system with at least a semiconductor light source and a method for removing contaminations and/or heating the systems
WO2007006447
Optik & Fototechnik
18.01.2007
Optisches Element
WO2007006577
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
17.01.2007
Optisches System eines Projektions-Mikrolithographie Apparats
EP1586946
Optik & Fototechnik
11.01.2007
Projektionsbelichtungsanlage mit einer Mehrzahl von Projektionsobjektiven
WO2007003563
Optik & Fototechnik
11.01.2007
Kollektoreinheit für ein Beleuchtungssystem mit Wellenlängen 193 Nm
WO2007003359
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
03.01.2007
System und Verfahren zur Bestimmung der Oberflächenform eines Objekts und Verfahren zur Herstellung eines Objekts mit einer bestimmten Oberflächenform
EP1726914
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
28.12.2006
Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie und Abschlusselement dafür
WO2006136184
Optik & Fototechnik
28.12.2006
Objektiv mit mehreren in einem Gehäuse Angeordneten Optischen Elementen
WO2006136352
Optik & Fototechnik
27.12.2006
Beleuchtungssystem mit mehreren Lichtquellen
EP1072957
Optik & Fototechnik
27.12.2006
Optisches Element und Halterung für ein Optisches Element
EP1735651
Optik & Fototechnik
21.12.2006
Lithography projection objective, and a method for correcting image defects of the same
WO2006133800
Optik & Fototechnik
21.12.2006
Optisches Element mit einer Antireflexbeschichtung, Projektionsobjektiv und Belichtungsvorrichtung mit einem Solchen Element
WO2006133884
Optik & Fototechnik

Wer vertritt Carl Zeiss SMT?

Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.

Zum Anmelder-Profil

Technologiefelder

Optik & Fototechnik
1.714
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
218
Elektrische Energietechnik
181
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
162
Metallurgie & Oberflächentechnik
40
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
39
Software & Datenverarbeitung
36
Elektronik & Schaltungstechnik
30
Anorganische Chemie & Werkstoffe
30
Maschinenelemente & Fluidtechnik
21
Verfahrens- & Trenntechnik
13
Kunststoff- & Polymertechnik
11

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen