Carl Zeiss SMT Patente
🇩🇪 Deutschland
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.949 gesamt| Patent | |||
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03.04.2008
Projection exposure method and projection exposure system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.09.2007
Anhängig
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02.04.2008
Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungssystem
Optik & Fototechnik
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02.04.2008
Projektionsobjektiv einer Mikrolithographie-Projektionsanlage
Optik & Fototechnik
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02.04.2008
Instrument zum Messen der Winkelverteilung von mittels Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgeräts erzeugtem Licht
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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02.04.2008
Abziehschicht zur Verwendung in einer Mikrolithographischen Belichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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19.03.2008
Optische Elementeinheit und Verfahren zum Stützen eines optischen Elements
Optik & Fototechnik
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19.03.2008
Optisches System zur Erzeugung von Strahlung im EUV-Wellenlängenbereich und Verfahren zur Messung des Kontaminationsstatus von EUV-reflektierenden Elementen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.09.2006
Anhängig
Vertretung
Kohler Schmid Möbus Patentanwälte · Reutlingen
Kohler Schmid Möbus · Stuttgart
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19.03.2008
Anordnung zur Lagerung eines Optischen Bauelements
Optik & Fototechnik
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12.03.2008
Beleuchtungssytem mit einer Effizienteren Kollektoroptik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.08.2003
Erteilt am 12.03.2008
Vertretung
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05.03.2008
Doppelt Facettiertes Beleuchtungssystem mit Abschwächungselementen am Pupillenfacettenspiegel
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.06.2006
Anhängig
Vertretung
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28.02.2008
Projektionsbelichtungsanlage und Optisches System
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.08.2007
Anhängig
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28.02.2008
Method and system for correcting image changes
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.08.2007
Anhängig
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28.02.2008
Baugruppe, Optisches System und Verfahren zur Herstellung einer Baugruppe
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.08.2007
Anhängig
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27.02.2008
Projektionsobjektiv mit einer Hohen Apertur und einer Planarendoberfläche
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.05.2006
Anhängig
Vertretung
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21.02.2008
Optisches System für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.08.2007
Anhängig
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21.02.2008
Microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.07.2007
Anhängig
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20.02.2008
Interferometervorrichtung und Interferometerverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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20.02.2008
Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit einem Pupillenspiegel
Optik & Fototechnik
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20.02.2008
Sechs-Spiegel-Euv-Projektionssystem mit Kleinen Einfallswinkeln
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.05.2006
Anhängig
Vertretung
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13.02.2008
Optische Bildgebungsanordnung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.02.2008
Optischer Streudatenträger, Verwendung dafür und Wellenfront-Messvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.05.2006
Anhängig
Vertretung
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06.02.2008
Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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31.01.2008
Beleuchtungssystem Fur die Mikro-LITH0GRAPHIE und Projektionsbelichtungsanlage damit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 10.07.2007
Anhängig
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31.01.2008
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen einer Abweichung einer Tatsächlichen Form von einer Sollform einer Optischen Oberfläche
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 26.07.2007
Anhängig
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31.01.2008
Support For an Optical Element
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.07.2007
Anhängig
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30.01.2008
Halterung mit Schwerkraftausgleich für ein optisches Element
Optik & Fototechnik
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24.01.2008
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Korrektür von Abbildungsfehlern
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.07.2007
Anhängig
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16.01.2008
Mikrolithografisches Belichtungsgerät unter Verwendung von Polarisiertem Licht und Mikrolithografisches Projektionssystem mit Primären und Sekundären Hohlspiegeln
Optik & Fototechnik
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09.01.2008
Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographische Belichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.04.2006
Anhängig
Vertretung
Schwanhäusser, Gernot · Stuttgart
Ostertag & Partner Patentanwälte mbB · Stuttgart
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03.01.2008
Reflektives Optisches Element und Verfahren zu Seiner Charakterisierung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.06.2007
Anhängig
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02.01.2008
Projektionsbelichtungssystem, Verfahren zur Herstellung eines Mikrostrukturierten Strukturellen Elements Mithilfe eines Derartigen Projektionsbelichtungssystems und für die Verwendung in einem Derartigen System Angepasstes Optisches Polarisationselement
Optik & Fototechnik
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26.12.2007
Verfahren zur Einstellung einer Gewünschten Optischen Eigenschaft eines Projektionsobjektivs sowie Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
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26.12.2007
Verfahren und Vorrichtungen zur Messung von Wellenfronten und der Bestimmung von Streulicht und Diesbezügliche Einrichtungen und Herstellungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.03.2006
Anhängig
Vertretung
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21.12.2007
Abbildungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2007
Anhängig
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19.12.2007
Projektions-Belichtungsverfahren und Projektionsbelichtungssystem dafür
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.07.2005
Anhängig
Vertretung
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19.12.2007
System zur gezielten Deformation von optischen Elementen
Optik & Fototechnik
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12.12.2007
Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elements
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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06.12.2007
Illumination system for a microlithography projection exposure apparatus and projection exposure method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.05.2007
Anhängig
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05.12.2007
Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit Zwischenbildern
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.05.2005
Erteilt am 05.12.2007
Vertretung
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28.11.2007
Teilchenoptische Vorrichtung, Beleuchtungsvorrichtung und Projektionssystem sowie Verfahren unter Verwendung derselben
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 02.04.2002
Erteilt am 28.11.2007
Vertretung
Schorr, Frank Jürgen · München
Schorr, Frank, Dr · München
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Wer vertritt Carl Zeiss SMT?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die Carl Zeiss SMT vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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