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Carl Zeiss SMT Patente

🇩🇪 Deutschland

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

1.949
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.949 gesamt
Patent
03.04.2008
Projection exposure method and projection exposure system
Optik & Fototechnik
02.04.2008
Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungssystem
Optik & Fototechnik
02.04.2008
Projektionsobjektiv einer Mikrolithographie-Projektionsanlage
Optik & Fototechnik
02.04.2008
Instrument zum Messen der Winkelverteilung von mittels Beleuchtungssystem eines mikrolithografischen Projektionsbelichtungsgeräts erzeugtem Licht
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
02.04.2008
Abziehschicht zur Verwendung in einer Mikrolithographischen Belichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
19.03.2008
Optische Elementeinheit und Verfahren zum Stützen eines optischen Elements
Optik & Fototechnik
19.03.2008
Optisches System zur Erzeugung von Strahlung im EUV-Wellenlängenbereich und Verfahren zur Messung des Kontaminationsstatus von EUV-reflektierenden Elementen
Optik & Fototechnik
19.03.2008
Anordnung zur Lagerung eines Optischen Bauelements
Optik & Fototechnik
12.03.2008
Beleuchtungssytem mit einer Effizienteren Kollektoroptik
Optik & Fototechnik
05.03.2008
Doppelt Facettiertes Beleuchtungssystem mit Abschwächungselementen am Pupillenfacettenspiegel
Optik & Fototechnik
28.02.2008
Projektionsbelichtungsanlage und Optisches System
Optik & Fototechnik
28.02.2008
Method and system for correcting image changes
Optik & Fototechnik
28.02.2008
Baugruppe, Optisches System und Verfahren zur Herstellung einer Baugruppe
Optik & Fototechnik
27.02.2008
Projektionsobjektiv mit einer Hohen Apertur und einer Planarendoberfläche
Optik & Fototechnik
21.02.2008
Optisches System für die Halbleiterlithographie
Optik & Fototechnik
21.02.2008
Microlithographic projection exposure apparatus and microlithographic exposure method
Optik & Fototechnik
20.02.2008
Interferometervorrichtung und Interferometerverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.02.2008
Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit einem Pupillenspiegel
Optik & Fototechnik
20.02.2008
Sechs-Spiegel-Euv-Projektionssystem mit Kleinen Einfallswinkeln
Optik & Fototechnik
13.02.2008
Optische Bildgebungsanordnung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.02.2008
Optischer Streudatenträger, Verwendung dafür und Wellenfront-Messvorrichtung
Optik & Fototechnik
06.02.2008
Optisches System einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
31.01.2008
Beleuchtungssystem Fur die Mikro-LITH0GRAPHIE und Projektionsbelichtungsanlage damit
Optik & Fototechnik
31.01.2008
Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen einer Abweichung einer Tatsächlichen Form von einer Sollform einer Optischen Oberfläche
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
31.01.2008
Support For an Optical Element
Optik & Fototechnik
30.01.2008
Halterung mit Schwerkraftausgleich für ein optisches Element
Optik & Fototechnik
24.01.2008
Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Korrektür von Abbildungsfehlern
Optik & Fototechnik
16.01.2008
Mikrolithografisches Belichtungsgerät unter Verwendung von Polarisiertem Licht und Mikrolithografisches Projektionssystem mit Primären und Sekundären Hohlspiegeln
Optik & Fototechnik
09.01.2008
Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographische Belichtungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
03.01.2008
Reflektives Optisches Element und Verfahren zu Seiner Charakterisierung
Optik & Fototechnik
02.01.2008
Projektionsbelichtungssystem, Verfahren zur Herstellung eines Mikrostrukturierten Strukturellen Elements Mithilfe eines Derartigen Projektionsbelichtungssystems und für die Verwendung in einem Derartigen System Angepasstes Optisches Polarisationselement
Optik & Fototechnik
26.12.2007
Verfahren zur Einstellung einer Gewünschten Optischen Eigenschaft eines Projektionsobjektivs sowie Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage
Optik & Fototechnik
26.12.2007
Verfahren und Vorrichtungen zur Messung von Wellenfronten und der Bestimmung von Streulicht und Diesbezügliche Einrichtungen und Herstellungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
21.12.2007
Abbildungsvorrichtung
Optik & Fototechnik
19.12.2007
Projektions-Belichtungsverfahren und Projektionsbelichtungssystem dafür
Optik & Fototechnik
19.12.2007
System zur gezielten Deformation von optischen Elementen
Optik & Fototechnik
12.12.2007
Verfahren zur Herstellung eines Optischen Elements
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
06.12.2007
Illumination system for a microlithography projection exposure apparatus and projection exposure method
Optik & Fototechnik
05.12.2007
Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit Zwischenbildern
Optik & Fototechnik
28.11.2007
Teilchenoptische Vorrichtung, Beleuchtungsvorrichtung und Projektionssystem sowie Verfahren unter Verwendung derselben
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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