JX Nippon Mining & Metals Logo

JX Nippon Mining & Metals Patente

🇯🇵 Japan

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.069
Patente
2000–2023
Anmeldejahre
24
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

Patente durchsuchen

1.069 gesamt
Patent
11.12.2014
Copper foil with carrier, copper-clad laminate, printed wiring board, electric appliance, resin layer, production method for copper foil with carrier, and production method for printed wiring board
Metallurgie & Oberflächentechnik
11.12.2014
Sputtering target for magnetic recording medium
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
04.12.2014
Copper foil, copper foil with carrier, copper-clad laminate, printed circuit board, circuit forming substrate for semiconductor package, semiconductor package, electronic device, resin substrate, circuit forming method, semiadditive method, and printed circuit board manufacturing method
Metallurgie & Oberflächentechnik Elektronik & Schaltungstechnik
03.12.2014
Cdte-Halbleitersubstrat für Epitaxialwachstum und Substratbehälter dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.11.2014
Sputtering target for magnetic recording medium
Metallurgie & Oberflächentechnik
26.11.2014
Verfahren zur Lagerung eines Lanthanoxid-Targets und Vakuumverpacktes Lanthanoxid-Target
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
20.11.2014
Sputtering target for forming magnetic thin film
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
19.11.2014
Kupferelektrolytlösung, die eine Aminverbindung mit Speziellem Gerüst und eine Organische Schwefelverbindung Enthält, und Verfahren zum Herstellen eines Elektrolytkupferblech damit
Metallurgie & Oberflächentechnik
12.11.2014
Gesintertes Kompakt-Sputtering-Target aus einer Legierung auf Sb-Te-Basis
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
12.11.2014
Indiumtarget und Herstellungsverfahren dafür
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
12.11.2014
Neodymbasierter Seltenerd-Permanentmagnet und Verfahren zur Herstellung davon
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.11.2014
Sintered body, and sputtering target for magnetic recording film formation use which comprises said sintered body
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
30.10.2014
Sputtering target for magnetic recording film, and raw carbon material for use in producing same
Metallurgie & Oberflächentechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
29.10.2014
Gesintertes Spattertarget aus Sb-Te-Legierung
Metallurgie & Oberflächentechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
23.10.2014
Sputtering Target
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
22.10.2014
Kupferlegierung auf Basis von Cu-Ni-Si-Co für Elektronikmaterialien und Herstellungsverfahren dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik
16.10.2014
Pretreated Gold Ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.10.2014
Verfahren zum Verbinden eines Targets aus Magnetischer Substanz mit einer Trägerplatte und Target aus Magnetischer Substanz
Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Method for pretreatment of gold ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Method for pretreatment of gold ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Mgo-tio sintered compact target and method for producing same
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Niobium Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2014
Igzo sputtering target and igzo film
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Igzo sputtering target, igzo film, and production method for igzo target
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Zirconium Tungstate
Anorganische Chemie & Werkstoffe
02.10.2014
Sputtering silicide target and method for producing same
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2014
Ito sputtering target and method for manufacturing same
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Cobalt sputtering target and production method therefor
Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Lithium-ion battery positive electrode active material, lithium-ion battery positive electrode, and lithium-ion battery
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
02.10.2014
Method for recovering gold from sulfide ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Copper foil with carrier, printed circuit board, copper clad laminated sheet, electronic device, and printed circuit board fabrication method
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Elektronik & Schaltungstechnik
02.10.2014
Method for recovering gold from sulfide ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Method for recovering gold from gold ore containing pyrite
Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Copper alloy sheet having outstanding electro-conductivity and stress release characteristics
Metallurgie & Oberflächentechnik
02.10.2014
Copper alloy sheet having outstanding electro-conductivity and
Metallurgie & Oberflächentechnik
01.10.2014
Sputtering-Target mit dem Gesinterten Objekt, Verfahren zur Herstellung des Gesinterten Objekts auf Lanthanoxidbasis sowie Verfahren zur Herstellung des Sputtering-Targets mit dem Gesinterten Objekt
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
25.09.2014
Ti-Al Alloy Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.09.2014
Tantal-Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
18.09.2014
Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
18.09.2014
Sputtering target for forming magnetic recording film, and carbon raw material used for production of said target
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen