JX Nippon Mining & Metals Patente
🇯🇵 Japan
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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1.069 gesamt| Patent | |||
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11.12.2014
Copper foil with carrier, copper-clad laminate, printed wiring board, electric appliance, resin layer, production method for copper foil with carrier, and production method for printed wiring board
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 04.06.2014
Anhängig
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11.12.2014
Sputtering target for magnetic recording medium
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 23.05.2014
Anhängig
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04.12.2014
Copper foil, copper foil with carrier, copper-clad laminate, printed circuit board, circuit forming substrate for semiconductor package, semiconductor package, electronic device, resin substrate, circuit forming method, semiadditive method, and printed circuit board manufacturing method
Metallurgie & Oberflächentechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 29.05.2014
Anhängig
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03.12.2014
Cdte-Halbleitersubstrat für Epitaxialwachstum und Substratbehälter dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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27.11.2014
Sputtering target for magnetic recording medium
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 14.05.2014
Anhängig
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26.11.2014
Verfahren zur Lagerung eines Lanthanoxid-Targets und Vakuumverpacktes Lanthanoxid-Target
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 05.10.2010
Erteilt am 26.11.2014
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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20.11.2014
Sputtering target for forming magnetic thin film
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 30.04.2014
Anhängig
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19.11.2014
Kupferelektrolytlösung, die eine Aminverbindung mit Speziellem Gerüst und eine Organische Schwefelverbindung Enthält, und Verfahren zum Herstellen eines Elektrolytkupferblech damit
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 21.05.2003
Erteilt am 19.11.2014
Vertretung
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12.11.2014
Gesintertes Kompakt-Sputtering-Target aus einer Legierung auf Sb-Te-Basis
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 21.04.2011
Erteilt am 12.11.2014
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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12.11.2014
Indiumtarget und Herstellungsverfahren dafür
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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12.11.2014
Neodymbasierter Seltenerd-Permanentmagnet und Verfahren zur Herstellung davon
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.11.2014
Sintered body, and sputtering target for magnetic recording film formation use which comprises said sintered body
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 23.04.2014
Anhängig
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30.10.2014
Sputtering target for magnetic recording film, and raw carbon material for use in producing same
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 24.04.2014
Anhängig
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29.10.2014
Gesintertes Spattertarget aus Sb-Te-Legierung
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 30.09.2005
Erteilt am 29.10.2014
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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23.10.2014
Sputtering Target
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 29.01.2014
Anhängig
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22.10.2014
Kupferlegierung auf Basis von Cu-Ni-Si-Co für Elektronikmaterialien und Herstellungsverfahren dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.11.2009
Erteilt am 22.10.2014
Vertretung
Banse, Klaus-Dieter · München
Banse & Steglich Patentanwälte PartmbB · München
Banse & Steglich · München
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16.10.2014
Pretreated Gold Ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.04.2014
Anhängig
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08.10.2014
Verfahren zum Verbinden eines Targets aus Magnetischer Substanz mit einer Trägerplatte und Target aus Magnetischer Substanz
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 14.11.2002
Erteilt am 08.10.2014
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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02.10.2014
Method for pretreatment of gold ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.04.2013
Anhängig
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02.10.2014
Method for pretreatment of gold ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.04.2013
Anhängig
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02.10.2014
Mgo-tio sintered compact target and method for producing same
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 04.03.2014
Anhängig
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02.10.2014
Niobium Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 20.03.2014
Anhängig
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02.10.2014
Igzo sputtering target and igzo film
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 11.03.2014
Anhängig
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02.10.2014
Igzo sputtering target, igzo film, and production method for igzo target
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.01.2014
Anhängig
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02.10.2014
Zirconium Tungstate
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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Status
Angemeldet am 09.01.2014
Anhängig
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02.10.2014
Sputtering silicide target and method for producing same
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 24.03.2014
Anhängig
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02.10.2014
Ito sputtering target and method for manufacturing same
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 20.01.2014
Anhängig
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02.10.2014
Cobalt sputtering target and production method therefor
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 25.03.2014
Anhängig
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02.10.2014
Lithium-ion battery positive electrode active material, lithium-ion battery positive electrode, and lithium-ion battery
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 26.03.2014
Anhängig
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02.10.2014
Method for recovering gold from sulfide ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2014
Anhängig
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02.10.2014
Copper foil with carrier, printed circuit board, copper clad laminated sheet, electronic device, and printed circuit board fabrication method
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 31.03.2014
Anhängig
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02.10.2014
Method for recovering gold from sulfide ore
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 12.02.2014
Anhängig
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02.10.2014
Method for recovering gold from gold ore containing pyrite
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Angemeldet am 12.02.2014
Anhängig
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02.10.2014
Copper alloy sheet having outstanding electro-conductivity and stress release characteristics
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 25.03.2014
Anhängig
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02.10.2014
Copper alloy sheet having outstanding electro-conductivity and
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Angemeldet am 25.03.2014
Anhängig
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01.10.2014
Sputtering-Target mit dem Gesinterten Objekt, Verfahren zur Herstellung des Gesinterten Objekts auf Lanthanoxidbasis sowie Verfahren zur Herstellung des Sputtering-Targets mit dem Gesinterten Objekt
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2009
Erteilt am 01.10.2014
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
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25.09.2014
Ti-Al Alloy Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Angemeldet am 17.03.2014
Anhängig
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24.09.2014
Tantal-Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 19.03.2013
Anhängig
Vertretung
Hoarton, Lloyd Douglas Charles · München
Forresters IP LLP · München
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18.09.2014
Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
Akustik, Musik & Datenspeicherung
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Status
Angemeldet am 20.01.2014
Anhängig
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18.09.2014
Sputtering target for forming magnetic recording film, and carbon raw material used for production of said target
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 10.02.2014
Anhängig
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Wer vertritt JX Nippon Mining & Metals?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die JX Nippon Mining & Metals vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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