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JX Nippon Mining & Metals Patente

🇯🇵 Japan

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.069
Patente
2000–2023
Anmeldejahre
24
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.069 gesamt
Patent
17.09.2014
Aus einer Sinterungsresistenten Metalllegierung mit Hohem Schmelzpunkt Geformtes Target, Metallsilicid mit Hohem Schmelzpunkt, Metallcarbid mit Hohem Schmelzpunkt, Metallnitrid mit Hohem Schmelzpunkt oder Metallborid mit Hohem Schmelzpunkt, Verfahren zur Herstellung des Targets, Anordnung für eine Sputter-Target-Rückplatte und Herstellungsverfahren dafür
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
12.09.2014
Copper Alloy Sputtering Target
Metallurgie & Oberflächentechnik
12.09.2014
Titanium target for sputtering and manufacturing method thereof
Metallurgie & Oberflächentechnik
12.09.2014
Copper foil with attached carrier, copper-clad laminate using same, printed circuit board, electronic device, and method for manufacturing printed circuit board
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
04.09.2014
Method for eluting gold and silver, and method for recovering gold and silver using same
Metallurgie & Oberflächentechnik
03.09.2014
Indium-Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.08.2014
Copper foil for graphene production, and graphene production method
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
28.08.2014
Copper foil for graphene production, and graphene production method
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
21.08.2014
Sputtering Target Containing Co Or Fe
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
20.08.2014
Hochreines Mangan und Herstellungsverfahren dafür
Metallurgie & Oberflächentechnik
14.08.2014
Method for leaching gold from gold ore containing pyrite
Metallurgie & Oberflächentechnik
13.08.2014
Wasserstoffabtrennmembran, Sputtertarget zur Bildung einer Wasserstoffabtrennmembran und Herstellungsverfahren dafür
Verfahrens- & Trenntechnik Anorganische Chemie & Werkstoffe
13.08.2014
Kupferlegierung auf Cu-Ni-Si-Co-Basis für ein Elektronisches Material und Verfahren zur Herstellung der Kupferlegierung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
13.08.2014
Topfgeformtes Kupfersputtertarget
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.07.2014
ELEKTRONISCHES ELEMENT MIT EINER AUF einer GRUNDschicht GEFORMTEN Barrieren- und StromführSCHICHT
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.07.2014
Method for recovering indium-tin alloy from ito target scrap and methods for producing indium oxide-tin oxide powder and ito target
Metallurgie & Oberflächentechnik
24.07.2014
Sintered compact for fabricating amorphous transparent electroconductive film having low refractive index, and amorphous transparent electroconductive film having low refractive index
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
23.07.2014
Verfahren zur Herstellung einer NI-PT-Legierung
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
17.07.2014
Surface treated copper foil, laminate board, copper foil with carrier, printed wiring board, printed circuit board, electronic device, and method for production of printed wiring board
Metallurgie & Oberflächentechnik Elektronik & Schaltungstechnik
03.07.2014
Copper foil with carrier, and printed wiring board, printed circuit board and copper-clad laminate, using same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Elektronik & Schaltungstechnik
02.07.2014
Kupferlegierung für Elektronikmaterial
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.06.2014
Sintered Sputtering Target
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
05.06.2014
Copper foil with carrier
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Elektronik & Schaltungstechnik
05.06.2014
Copper foil with carrier, process for producing copper foil with carrier, printed wiring board, and printed circuit board
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Elektronik & Schaltungstechnik
05.06.2014
Carrier-Supported Copper Foil
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Elektronik & Schaltungstechnik
04.06.2014
Abscheidungslösung für die Stromlose Abscheidung von Kupfer
Metallurgie & Oberflächentechnik
30.05.2014
Copper foil having carrier, method for producing copper foil having carrier, printed wiring board, printed circuit board, copper clad laminate, and method for producing printed wiring board
Metallurgie & Oberflächentechnik Elektronik & Schaltungstechnik
30.05.2014
Copper foil with carrier
Metallurgie & Oberflächentechnik Elektronik & Schaltungstechnik
30.05.2014
Surface-treated electrolytic copper foil, laminate, and printed circuit board
Metallurgie & Oberflächentechnik Elektronik & Schaltungstechnik
22.05.2014
WO2014077198
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
22.05.2014
Cu-ga alloy sputtering target, and method for producing same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
15.05.2014
Surface-treated copper foil and laminate using same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
15.05.2014
Surface-treated copper foil and laminate using same, copper-clad laminate, printed circuit board, and electronic device
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
15.05.2014
Surface-treated copper foil and laminate using same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
15.05.2014
Surface-treated copper foil and laminate using same
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
15.05.2014
Surface-treated copper foil and laminate using same, printed circuit board, and copper-clad laminate
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
14.05.2014
Hochreines Yttrium, Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Yttrium, Hochreines Yttrium-Sputtertarget, mit Hochreinem mit Yttrium-Sputtertarget Abgeschiedener Metallgatefilm sowie Halbleiterelement und Vorrichtung mit dem Metallgatefilm
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.05.2014
Electrically conductive oxide sintered body, and low-refractive-index film produced using said electrically conductive oxide
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
08.05.2014
Tungsten sintered body sputtering target and tungsten film formed using said target
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
08.05.2014
Method for producing low -emitting bismuth, low -emitting bismuth, and bismuth alloy
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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