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JX Nippon Mining & Metals Patente

🇯🇵 Japan

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

1.088
Patente
2000–2023
Anmeldejahre
24
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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1.088 gesamt
Patent
19.09.2019
Sputtering target and method for producing sputtering target
WO2019176962
Metallurgie & Oberflächentechnik
19.09.2019
Oxide thin film, and oxide sintered body for sputtering target for producing oxide thin film
WO2019176552
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
11.09.2019
Material zur Elektromagnetischen Abschirmung
EP3280236
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
11.09.2019
Metallfolie zur Abschirmung gegen Elektromagnetische Wellen, Material zur Abschirmung gegen Elektromagnetische Wellen und Abschirmkabel
EP3018986
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
28.08.2019
Optisches Modulationselement und Elektrischer Feldsensor
EP3306326
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
21.08.2019
Verfahren zum Vakuumverpacken von Hochreinem Zinn und Vakuumverpacktes Hochreines Zinn
EP3421389
Verpackungs- & Fördertechnik
21.08.2019
AL2O3-Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung davon
EP3527689
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
14.08.2019
Sputtertarget aus Gesintertem Oxid und Verfahren zu dessen Herstellung
EP2284293
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
31.07.2019
Tantal-Sputtertarget
EP2253731
Metallurgie & Oberflächentechnik
24.07.2019
Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Lanthan, Hochreines Lanthan, Sputtering-Target aus dem Hochreinen Lanthan sowie Metall-Gatefilm mit dem Hochreinen Lanthan als Hauptkomponente
EP2641982
Metallurgie & Oberflächentechnik
04.07.2019
Copper foil for heat dissapation and heat disspating member
WO2019131092
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
04.07.2019
Copper foil for heat dissipation and heat dissipation member
WO2019131093
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
04.07.2019
Method for recovering cu and method of preparing electrolytic copper
WO2019131977
Metallurgie & Oberflächentechnik
26.06.2019
Kupferfolie mit Träger, Verfahren zur Herstellung Davon, Kupferfolie mit Träger für Leiterplatte sowie Leiterplatte
EP3501817
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Elektronik & Schaltungstechnik
05.06.2019
Metallfolie zur Elektromagnetischen Abschirmung, Elektromagnetisches Abschirmungsteil und Abgeschirmtes Kabel
EP3007533
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
29.05.2019
Verfahren zur Herstellung eines Positiv-Plattenmaterials für eine Lithium-Sekundärzelle
EP1553645
Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.05.2019
Tungsten sputtering target and method for producing same
WO2019092969
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
15.05.2019
Verfahren zur Herstellung eines Hochreinen Kupfer-Mangan-Legierungs-Sputtertarget
EP2837710
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.05.2019
Plattiertes Material mit einem durch Stromfreie Plattierung Geformten Metalldünnfilm
EP2554711
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.05.2019
Verfahren zur Herstellung von Hochreinem Lanthan, Hochreines Lanthan, Sputtering-Target aus dem Hochreinen Lanthan sowie Metall-Gatefilm mit dem Hochreinen Lanthan als Hauptkomponente
EP2666877
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
15.05.2019
Silberplattierungsmaterial und Verfahren zur Herstellung davon
EP3070726
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.05.2019
MOSI2-Heizelement und Verfahren zur Herstellung des Besagten Heizelements
EP3200558
Elektronik & Schaltungstechnik
01.05.2019
Gesintertes Oxidkompaktteil, Oxid-Sputtertarget und Oxiddünnschicht
EP3210952
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
01.05.2019
Sputtering-Target für Hochreines Kupfer oder eine Legierung mit Hochreinem Kupfer
EP3128039
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.05.2019
Kupfer-Titanlegierung für Elektronisches Bauteil
EP3088541
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.05.2019
Halbleiterwafer und Verfahren zum Polieren von Halbleiterwafern
EP3476983
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.05.2019
Verfahren zur Herstellung eines Epitaktischen Kristallsubstrats
EP2527500
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.04.2019
Lithium-Kobalt-Sinterkörper und unter Verwendung des Sinterkörpers Hergestelltes Sputtertarget, Herstellungsverfahren für Lithium-Kobaltoxid-Sinterkörper und aus Lithium-Kobaltoxid Geformte Dünnschicht
EP3219690
Anorganische Chemie & Werkstoffe
24.04.2019
Verfahren zur Synthetisierung von Gruppe Ii-Vi-Verbundhalbleiter-Polykristallen
EP2554720
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik
11.04.2019
Method for manufacturing surface-treated copper fine particle
WO2019069635
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
04.04.2019
Gold leaching method and gold recovery method
WO2019064709
Metallurgie & Oberflächentechnik
28.03.2019
Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film, and magnetic recording medium
WO2019058819
Metallurgie & Oberflächentechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
28.03.2019
Sputtering target, manufacturing method for layered film, layered film, and magnetic recording medium
WO2019058820
Metallurgie & Oberflächentechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
21.03.2019
Low-temperature-sinterable surface-treated copper microparticle manufacturing method
WO2019054339
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
13.03.2019
Hochreine Ni-V-Legierung, Target Daraus, Dünner Film aus Hochreiner Ni-V-Legierung und Verfahren zur Herstellung von Hochreiner Ni-V-Legierung
EP1672086
Metallurgie & Oberflächentechnik
20.02.2019
Positiv Aktives Elektrodenmaterial für Lithiumionenbatterien, Positivelektrode für Lithiumionenbatterien und Lithiumionenbatterie
EP2544274
Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.02.2019
Verfahren zur Herstellung eines Positiven Elektrodenaktivmaterials für Lithiumionenbatterien
EP2712010
Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente
30.01.2019
Wolfram Enthaltendes Molybdän-Disilizid Heizelement
EP2921469
Anorganische Chemie & Werkstoffe Elektronik & Schaltungstechnik
23.01.2019
Sputtertarget mit Al-Te-Cu-Zr-Legierung und Verfahren zur Herstellung davon
EP3170916
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
23.01.2019
Galliumoxid-Zinkoxid-Sputtertarget und Verfahren zur Herstellung eines Transparenten Leitfähigen Films unter Verwendung des Targets
EP1897969
Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik

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13
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