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Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253
Patente
2000–2025
Anmeldejahre
26
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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6.253 gesamt
Patent
27.05.2010
Plasma processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.05.2010
Substrate processing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.05.2010
Substrate processing method and substrate processing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.05.2010
Verfahren und System zur Reinigung eines Substrats und Programmspeichermedium
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.05.2010
Prüfverfahren, Prüfvorrichtung und computerlesbares Speichermedium mit darauf gespeichertem Programm
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.05.2010
Treatment liquid ejection inspecting method, treatment liquid ejection inspecting apparatus and computer readable recording medium
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Suck bag height test method, suck bag height test device and computer readable recording medium
Verfahrens- & Trenntechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.05.2010
Cable inspection method, cable inspection d device, jig device inspection method, and computer-readable recording medium
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.05.2010
Bonding apparatus and bonding method
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Substrate processing system
Verpackungs- & Fördertechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Plasma etching method and plasma etching device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Processing device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.05.2010
Film forming apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.05.2010
Substrate processing apparatus
Verfahrens- & Trenntechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.05.2010
Film zur Isolation zwischen Schichten und Verdrahtungsstruktur und Herstellungsverfahren dafür
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.05.2010
Halbleiteranordnung und Verfahren zu Ihrer Herstellung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
12.05.2010
Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Luft
Verfahrens- & Trenntechnik Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik
05.05.2010
Mechanismus zum Verändern der Endlage eines Zylinders und Substratverarbeitungsvorrichtung damit
Maschinenelemente & Fluidtechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
05.05.2010
Chromatographische Detektionsvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
05.05.2010
Verfahren zur Reinigung von Reaktionsbehälter
Verfahrens- & Trenntechnik Metallurgie & Oberflächentechnik
29.04.2010
Heat treatment apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
29.04.2010
Plasma etching method and plasma etching device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
28.04.2010
Flüssigkeitsverarbeitungsvorrichtung und Flüssigkeitsverarbeitungsverfahren
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.04.2010
Waschvorrichtung und Waschverfahren
Verfahrens- & Trenntechnik
08.04.2010
Gas supply device
Maschinenelemente & Fluidtechnik
08.04.2010
Vaporizer and deposition system using the same
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Method and apparatus for forming silicon oxide film
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
08.04.2010
Method for detecting abnormal placement state of substrate, substrate processing method, computer-readable storage medium and substrate processing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Deposition apparatus, deposition method, and storage medium having program stored therein
Metallurgie & Oberflächentechnik
08.04.2010
Plasma processing apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik
08.04.2010
Film forming apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Silicon oxynitride film and process for production thereof, computer-readable storage medium, and plasma cvd device
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Silicon oxide film, method for forming silicon oxide film, and plasma cvd apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Silicon dioxide film and process for production thereof, computer-readable storage medium, and plasma cvd device
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Silicon nitride film and process for production thereof, computer-readable storage medium, and plasma cvd device
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
08.04.2010
Method for depositing silicon nitride film, computer-readable storage medium, and plasma cvd device
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Vacuum processing apparatus and vacuum transfer apparatus
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Chemical mechanical polishing apparatus, chemical mechanical polishing method, and control program
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Film forming method and film forming apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
01.04.2010
Film formation device and substrate processing apparatus
Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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