Tokyo Electron Patente

🇯🇵 Japan

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414

Patente

2000–2024

Anmeldejahre

Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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2.414 gesamt

Anmeldejahr

Veröffentlicht	Patent	Land
28.01.2015	28.01.2015 Verfahren zur Reduzierung von Schäden an einem Gate-Abstandsstück mit Niedriger Dielektizitätskonstante Während einer Ätzung EP2828887 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 21.03.2013 Anhängig Vertretung Liesegang, Eva · München Boehmert & Boehmert Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
08.01.2015	08.01.2015 Method for forming coating film and computer storage medium WO2015001936 Verfahrens- & Trenntechnik Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 12.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
08.01.2015	08.01.2015 Method for treating workpiece WO2015001991 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 20.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
31.12.2014	31.12.2014 Plasma processing device and plasma processing method WO2014208288 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 03.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
31.12.2014	31.12.2014 Etching method, and recording medium WO2014208365 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 13.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
31.12.2014	31.12.2014 Substrate processing method, computer storage medium and substrate processing system WO2014208311 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 06.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
24.12.2014	24.12.2014 Titanium oxide film removal method, and removal device WO2014203600 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 09.04.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
24.12.2014	24.12.2014 Plasma processing apparatus and plasma processing method WO2014203719 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 03.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
24.12.2014	24.12.2014 Tantalum oxide film removal method, and removal device WO2014203599 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 09.04.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
18.12.2014	18.12.2014 Etch process for reducing directed self assembly pattern defectivity WO2014200679 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 21.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
18.12.2014	18.12.2014 Microstructure forming method, semiconductor device manufacturing method, and cmos forming method WO2014200077 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 06.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
18.12.2014	18.12.2014 Substrate processing system, substrate processing method, and computer storage medium WO2014199845 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 30.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2014	11.12.2014 Method for measuring thickness of object to be measured WO2014196401 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2014	11.12.2014 Processing system for non-ambipolar electron plasma (nep) treatment of a substrate with sheath potential WO2014197146 Elektronik & Schaltungstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 02.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2014	11.12.2014 Automatic wavelength or angle pruning for optical metrology WO2014197449 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 03.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2014	11.12.2014 Organic semiconductor film, method for manufacturing same, and transistor structure WO2014196487 Kunststoff- & Polymertechnik Organische Chemie	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 27.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2014	11.12.2014 Solid state introduction of dopants for plasma doping WO2014197145 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 02.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2014	11.12.2014 Mitigation Of Asymmetrical Profile in Self Aligned Patterning Etch WO2014197324 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 30.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2014	11.12.2014 Automatic determination of fourier harmonic order for computation of spectral information for diffraction structures WO2014197450 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 03.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2014	11.12.2014 Method for preferential shrink and bias control in contact shrink etch WO2014197597 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 04.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
11.12.2014	11.12.2014 Dynamic removal of correlation of highly correlated parameters for optical metrology WO2014197447 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 03.06.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
04.12.2014	04.12.2014 Method for generating graphene and method for growing carbon nanotube WO2014192955 Anorganische Chemie & Werkstoffe	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 27.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
04.12.2014	04.12.2014 Method for producing graphene WO2014192956 Anorganische Chemie & Werkstoffe	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 27.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
04.12.2014	04.12.2014 Cooling system, cooling method and substrate processing apparatus WO2014192511 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 08.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.11.2014	27.11.2014 Substrate processing method and template WO2014188897 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 12.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.11.2014	27.11.2014 Etching method and etching device WO2014189087 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 21.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.11.2014	27.11.2014 Plasma treatment device WO2014188681 Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 14.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.11.2014	27.11.2014 Plasma treatment device and filter unit WO2014188696 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 19.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.11.2014	27.11.2014 Electrolytic treatment method and electrolytic treatment device WO2014188898 Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 12.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
20.11.2014	20.11.2014 Plasma etching device and plasma etching method WO2014185313 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 07.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
20.11.2014	20.11.2014 Method for supplying gas, and plasma processing device WO2014185300 Halbleiter & Elektrische Bauelemente Elektronik & Schaltungstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 02.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
20.11.2014	20.11.2014 Plasma etching method and plasma etching device WO2014185351 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 09.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
19.11.2014	19.11.2014 Target zur Röntgenstrahlerzeugung, Röntgenstrahlgenerator und Verfahren zur Herstellung eines solchen Targets EP2618360 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 01.09.2010 Erteilt am 19.11.2014 Vertretung Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser · München Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
13.11.2014	13.11.2014 Resist pattern forming method, coating and developing device, and storage medium WO2014181837 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 08.05.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
06.11.2014	06.11.2014 Film formation device WO2014178160 Metallurgie & Oberflächentechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 10.02.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2014	30.10.2014 Etching method WO2014175279 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 22.04.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2014	30.10.2014 Cantilever, manufacturing process, detection device, and detection method WO2014174997 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektrische Energietechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 28.03.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2014	23.10.2014 Capacitively coupled plasma equipment with uniform plasma density WO2014172112 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 03.04.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2014	23.10.2014 Etching method WO2014171214 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 05.03.2014 Anhängig Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
22.10.2014	22.10.2014 Verfahren für Optimierte Scatterometrie EP2791653 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 14.12.2012 Anhängig Vertretung Keane, Paul Fachtna · Dublin WP Thompson · Liverpool Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen