ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336

Patente

2000–2026

Anmeldejahre

Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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Anmeldejahr

Veröffentlicht	Patent	Land
11.12.2024	11.12.2024 Fokusmetrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung EP4474908 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 07.06.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
05.12.2024	05.12.2024 Dämpfer, Verfahren zur Dämpfung und Vorrichtung mit einem Dämpfer WO2024245662 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
05.12.2024	05.12.2024 Verfahren und System zum Trainieren eines Vorhersagemodells zur Erzeugung einer Zweidimensionalen Elementdarstellung eines Maskenmusters WO2024245689 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 03.05.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
05.12.2024	05.12.2024 Verfahren und System zum Trainieren eines Vorhersagemodells zur Erzeugung einer Zweidimensionalen Elementdarstellung eines Maskenmusters EP4720774	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 03.05.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
05.12.2024	05.12.2024 Dämpfer, Verfahren zur Dämpfung und Vorrichtung mit einem Dämpfer EP4720775	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
04.12.2024	04.12.2024 Pellikelreinigungssystem EP4469860 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 05.01.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
04.12.2024	04.12.2024 Beleuchtungsmodul für eine Metrologievorrichtung EP4471500 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 01.06.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
28.11.2024	28.11.2024 System und Verfahren zur Verwaltung der Nebenproduktansammlung in einer Strahlungsquelle WO2024240433 Elektronik & Schaltungstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 23.04.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
28.11.2024	28.11.2024 System und Verfahren zur Verwaltung der Nebenproduktansammlung in einer Strahlungsquelle EP4721523	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 23.04.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.11.2024	27.11.2024 Verfahren zur Steuerung eines Produktionssystems und Verfahren zur Thermischen Steuerung Zumindest eines Teils einer Umgebung EP4466636 Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 15.12.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
27.11.2024	27.11.2024 Kollektorströmungsring EP4081863 Optik & Fototechnik erteilt	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 09.12.2020 Erteilt am 27.11.2024 Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
20.11.2024	20.11.2024 Tropfenerzeuger EP4465768 Elektronik & Schaltungstechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 17.05.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
20.11.2024	20.11.2024 System zur Verwendung in einem Lithographischen Apparat EP4463743 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 21.12.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
14.11.2024	14.11.2024 Kompensation der Sammelvariation einer Optischen Abtastvorrichtung für Geladene Teilchen WO2024231004 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 08.04.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
14.11.2024	14.11.2024 Kompensation der Sammelvariation einer Optischen Abtastvorrichtung für Geladene Teilchen EP4710358	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 08.04.2024 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
13.11.2024	13.11.2024 Spiegel EP4462187 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 11.05.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
13.11.2024	13.11.2024 Laserstrahlverstärkungssystem EP4460876 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 21.12.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
13.11.2024	13.11.2024 Euv-Kollektorspiegel EP4045949 Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik erteilt	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 11.09.2020 Erteilt am 13.11.2024 Vertretung Rau, Schneck & Hübner Patentanwälte Rechtsanwälte PartGmbB · Nürnberg Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
06.11.2024	06.11.2024 Strahlmanipulator in einer Ladungsteilchenstrahlvorrichtung EP4457851 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 29.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
06.11.2024	06.11.2024 Lithographischer Apparat, Beleuchtungssystem und Verbindungsabdichtungsvorrichtung mit Schutzschild EP4457567 Verfahrens- & Trenntechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 22.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Strahlungsquelle EP3770677 Optik & Fototechnik erteilt	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 13.07.2020 Erteilt am 30.10.2024 Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Belichtungsvorrichtung und Metrologiemesssystem EP4455782 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 24.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Vakuumsystem EP4455783 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 24.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Verfahren und System zur Bildpositionierungssteuerung EP4455784 Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 24.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Verfahren und System zur Steuerung der Position eines Optischen Elements EP4455785 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 25.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung einer Überlagerung EP4453655 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 22.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Ausrichtungsbestimmungsverfahren und Computerprogramm EP4453990 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 23.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Metrologieverfahren und -Vorrichtung und Computerprogrammhintergrund EP4455786 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 26.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Disclosed is a method of metrology, comprising: obtaining metrology data relating to one or more targets on a substrate, the metrology data comprising intensity metric data relating to one or more intensity metrics, and phase difference metric data relating to a phase difference metric; determining intensity asymmetry metric data from said intensity metric data, said intensity asymmetry metric data describing, for each said intensity metric, an asymmetry in said intensity metric data between diffraction orders of a complementary pair of diffraction orders following diffraction by said one or more targets; obtaining one or more pre-calibrated asymmetry coefficients; and determining a value for a parameter of interest from said phase difference metric data, and said intensity asymmetry metric data as weighted by said pre-calibrated asymmetry coefficients. Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Projektionseinheit für einen Pegelsensor, Verfahren zur Überwachung der Höhe eines Substrats und Lithografiesystem mit der Projektionseinheit EP4453660 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 05.12.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Verfahren und Vorrichtung zur Lithographischen Bilderzeugung EP4453656 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 25.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
30.10.2024	30.10.2024 Systeme und Verfahren zur Reinigung von Elektronenquellen in Ladungsträgerstrahlsystemen EP4453989 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 24.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2024	23.10.2024 Herstellung eines Reflektierenden Beugungsgitters EP3948369 Optik & Fototechnik erteilt	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 06.03.2020 Erteilt am 23.10.2024 Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2024	23.10.2024 Vorrichtung für Geladene Teilchen EP4449469 Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 22.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2024	23.10.2024 Verwendung von Verstärkungslernen zur Bestimmung der Optimalen Ausrichtung für ein Optisches System EP4451059 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 19.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2024	23.10.2024 Überlagerungsmetrologie auf Basis von Vorlagenabgleich mit Adaptiver Gewichtung EP4449205 Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 13.12.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2024	23.10.2024 Verfahren, Software und Systeme zur Bestimmung von Hilfsfunktionen mit Konstanter Breite unter der Auflösung EP4449199 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 23.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2024	23.10.2024 Faser mit Photonischem Kristall EP4451021 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 17.04.2023 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2024	23.10.2024 Verfahren und Vorrichtung zur Berechnung der Reparaturdosis für einen Chip eines Substrats, das von einer Lithografischen Vorrichtung Exponiert Wird EP4449202 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 15.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2024	23.10.2024 Wärmesteuerungssysteme, Modelle und Herstellungsverfahren in der Lithographie EP4449204 Optik & Fototechnik	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 30.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen
23.10.2024	23.10.2024 Verfahren zur Erzeugung einer Musterkarte, Computerprogrammprodukt EP4449483 Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung	🇪🇺 Europa
Status Angemeldet am 18.11.2022 Anhängig Vertretung ASML Netherlands B.V · Veldhoven Zusammenfassung Zusammenfassung wird geladen … Alle Patent-Informationen