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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
27.12.2007
Optical apparatus
Optik & Fototechnik
27.12.2007
Lithographic apparatus, device manufacturing method and radiation collector
Optik & Fototechnik
26.12.2007
Imprint-Lithografie
Optik & Fototechnik
26.12.2007
Korrektur von Translationen optischer Elemente außerhalb der Achse bei einer optischen Zoomanordnung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
19.12.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
19.12.2007
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
19.12.2007
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
12.12.2007
Lithographievorrichtung und Bauelementeherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
12.12.2007
Gekühltes Spiegelarray für die Lithographie
Optik & Fototechnik
05.12.2007
Beleuchtungssystem
Optik & Fototechnik
28.11.2007
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren unter Verwendung mehrerer Belichtungsarten und mehrere Belichtungsarten
Optik & Fototechnik
28.11.2007
Katadioptrisches Objektiv mit hoher numerischer Apertur
Optik & Fototechnik
22.11.2007
Contamination barrier and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
21.11.2007
Lithographisches Gerät und zugehöriges Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
21.11.2007
Kennzeichnungsverfahren für ein Substrat, Verfahren zur Kennzeichnung eines Arbeitsganges, Geräteherstellungsverfahren und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
21.11.2007
Lithographische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
21.11.2007
Verfahren und System für Maskenloses Lithografisches Rasterisierungsverfahren auf Basis Globaler Optimierung
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
15.11.2007
Anti-reflection coating for euv mask
Optik & Fototechnik
14.11.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
14.11.2007
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren unter Verwendung mehrerer Belichtungsarten und mehrere Belichtungsarten
Optik & Fototechnik
07.11.2007
Diffusionsplatte und Verfahren zu deren Herstellung
Optik & Fototechnik
31.10.2007
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
31.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
31.10.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
31.10.2007
Immersionsflüssigkeit, Belichtungsvorrichtung und Belichtungsprozess
Optik & Fototechnik
31.10.2007
System zur Reduzierung von durch Bewegung induzierten Störungen in der Immersionslithographie
Optik & Fototechnik
24.10.2007
Lithographischer Apparat mit einer Maskenklemmvorrichtung
Optik & Fototechnik
24.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
17.10.2007
Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem
Optik & Fototechnik
17.10.2007
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung von Datenfilterung
Optik & Fototechnik
17.10.2007
Lithographische Projektionsvorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.10.2007
Rotatable contamination barrier and lithographic apparatus comprising same
Optik & Fototechnik
10.10.2007
Maskenlose Lithographie unter Verwendung räumlicher Lichtmodulatoren
Optik & Fototechnik
04.10.2007
Lithographic apparatus and patterning device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
04.10.2007
Contamination barrier and lithographic apparatus comprising same
Optik & Fototechnik
03.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
03.10.2007
Lithographischer Apparat und Methode zur Kompensation von thermischer Deformation in einem lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
03.10.2007
Haltestruktur und Lithographische Vorrichtung
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.10.2007
Verfahren zur Vermeidung oder Verringerung der Verschmutzung eines Immersionsprojektors und ein lithografisches Immersionsgerät
Optik & Fototechnik
03.10.2007
Apparat zur Erzeugung eines gespülten optischen Weges in einer photolithographischen Projektionsanlage sowie ein entsprechendes Verfahren
Optik & Fototechnik

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