ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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27.12.2007
Optical apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2007
Anhängig
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27.12.2007
Lithographic apparatus, device manufacturing method and radiation collector
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.06.2007
Anhängig
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26.12.2007
Imprint-Lithografie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.05.2006
Anhängig
Vertretung
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26.12.2007
Korrektur von Translationen optischer Elemente außerhalb der Achse bei einer optischen Zoomanordnung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.06.2007
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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19.12.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.12.2002
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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19.12.2007
Lithografische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.04.2006
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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19.12.2007
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.05.2007
Anhängig
Vertretung
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12.12.2007
Lithographievorrichtung und Bauelementeherstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.03.2006
Anhängig
Vertretung
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12.12.2007
Gekühltes Spiegelarray für die Lithographie
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.05.2007
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Roberts, Peter David · Manchester
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05.12.2007
Beleuchtungssystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.11.2006
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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28.11.2007
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren unter Verwendung mehrerer Belichtungsarten und mehrere Belichtungsarten
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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28.11.2007
Katadioptrisches Objektiv mit hoher numerischer Apertur
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.07.2001
Erteilt am 28.11.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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22.11.2007
Contamination barrier and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.05.2007
Anhängig
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21.11.2007
Lithographisches Gerät und zugehöriges Herstellungsverfahren
Optik & Fototechnik
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21.11.2007
Kennzeichnungsverfahren für ein Substrat, Verfahren zur Kennzeichnung eines Arbeitsganges, Geräteherstellungsverfahren und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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21.11.2007
Lithographische Vorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.05.2007
Anhängig
Vertretung
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21.11.2007
Verfahren und System für Maskenloses Lithografisches Rasterisierungsverfahren auf Basis Globaler Optimierung
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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15.11.2007
Anti-reflection coating for euv mask
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 05.04.2007
Anhängig
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14.11.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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14.11.2007
Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren unter Verwendung mehrerer Belichtungsarten und mehrere Belichtungsarten
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.12.2006
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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07.11.2007
Diffusionsplatte und Verfahren zu deren Herstellung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.01.2004
Erteilt am 07.11.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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31.10.2007
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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31.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.06.2005
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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31.10.2007
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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31.10.2007
Immersionsflüssigkeit, Belichtungsvorrichtung und Belichtungsprozess
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.02.2006
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Weenink, Willem · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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31.10.2007
System zur Reduzierung von durch Bewegung induzierten Störungen in der Immersionslithographie
Optik & Fototechnik
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24.10.2007
Lithographischer Apparat mit einer Maskenklemmvorrichtung
Optik & Fototechnik
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24.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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17.10.2007
Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem
Optik & Fototechnik
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17.10.2007
Lithografischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung unter Verwendung von Datenfilterung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.03.2006
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.10.2007
Lithographische Projektionsvorrichtung und Herstellungsverfahren dafür
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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11.10.2007
Rotatable contamination barrier and lithographic apparatus comprising same
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.03.2007
Anhängig
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10.10.2007
Maskenlose Lithographie unter Verwendung räumlicher Lichtmodulatoren
Optik & Fototechnik
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04.10.2007
Lithographic apparatus and patterning device
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 19.03.2007
Anhängig
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04.10.2007
Contamination barrier and lithographic apparatus comprising same
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.03.2007
Anhängig
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03.10.2007
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.04.2003
Anhängig
Vertretung
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03.10.2007
Lithographischer Apparat und Methode zur Kompensation von thermischer Deformation in einem lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 26.08.2004
Erteilt am 03.10.2007
Vertretung
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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03.10.2007
Haltestruktur und Lithographische Vorrichtung
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.12.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
van Loon, C.J.J · Den Haag
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03.10.2007
Verfahren zur Vermeidung oder Verringerung der Verschmutzung eines Immersionsprojektors und ein lithografisches Immersionsgerät
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.11.2006
Anhängig
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
van Loon, C.J.J · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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03.10.2007
Apparat zur Erzeugung eines gespülten optischen Weges in einer photolithographischen Projektionsanlage sowie ein entsprechendes Verfahren
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 02.05.2001
Erteilt am 03.10.2007
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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