ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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5.380 gesamt| Patent | |||
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15.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.09.2003
Anhängig
Vertretung
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15.12.2004
Waferbehandlungssystem und Verfahren zur Verwendung in einer lithographischen Musterungsvorrichtung
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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01.12.2004
Lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.05.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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01.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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01.12.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.06.2002
Anhängig
Vertretung
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01.12.2004
Verfahren zur Kalibrierung eines lithographischen Apparates
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2004
Anhängig
Vertretung
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01.12.2004
System und Methode zur Herstellung von Graustufen durch die Verwendung von räumlichen Lichtmodulatoren in einem maskenlosen Lithographiesystem
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.05.2004
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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24.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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24.11.2004
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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24.11.2004
Methode zum Beschichten eines Substrats für die EUV-Lithographie, sowie Substrat mit Fotoresistschicht
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.05.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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24.11.2004
Steuerungssystem, lithographisches Gerät, Verfahren zur Herstellung eines Gerätes und hiermit hergestelltes Gerät
Optik & Fototechnik
Steuerungs- & Regelungstechnik
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Status
Angemeldet am 29.04.2004
Anhängig
Vertretung
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24.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.05.2004
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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24.11.2004
EUV-Kondensor mit einer nichtabbildenden Optik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 20.01.2000
Anhängig
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.11.2004
Zur Herstellung eines mikroelektronischen Elements geeignete Struktur einer lithographischen Marke
Optik & Fototechnik
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17.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.05.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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17.11.2004
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und lithographischer Apparat
Optik & Fototechnik
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17.11.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und dabei hergestellter Artikel
Optik & Fototechnik
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17.11.2004
Verfahren zur Eichung eines lithographischen Geräts, Ausrichtverfahren, Komputerprogramm, lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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17.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.04.2004
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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17.11.2004
Verfahren zum Charakterisieren eines Verfahrensschritts und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.05.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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10.11.2004
Substrathalter für einen lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 06.05.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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10.11.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.05.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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10.11.2004
Verfahren zur Herstellung von Komponenten für einen lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
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10.11.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
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27.10.2004
Lithographisches Verfahren, sowie damit hergestelltes Gerät
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.04.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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20.10.2004
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.04.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
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20.10.2004
Lithographischer Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 19.12.2003
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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20.10.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.04.2004
Anhängig
Vertretung
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13.10.2004
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Photomaskensatz zur Durchführung des Verfahrens
Optik & Fototechnik
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13.10.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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13.10.2004
Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Photomaskensatz zur Durchführung des Verfahrens
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.04.2004
Anhängig
Vertretung
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Leeming, John Gerard · London
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13.10.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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13.10.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung und Computerprogramm
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.04.2004
Anhängig
Vertretung
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06.10.2004
Vorrichtung zur Übertragung eines Objekts, Verfahren zur deren Verwendung und lithographischer Belichtungsapparat diese Übertragungsvorrichtung enthaltend
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 29.03.2004
Anhängig
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
van Westenbrugge, Andries · Den Haag
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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06.10.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 25.03.2004
Anhängig
Vertretung
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23.09.2004
Ein Verfahren und ein System um die Zeitschwankungen Beim Scannen in einem Halbleiterwaferherstellungssystem Auszugleichen
Steuerungs- & Regelungstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 12.03.2004
Anhängig
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15.09.2004
Substrathandhabungsvorrichtung zur Verwendung in lithographischen Projektionsapparaten
Optik & Fototechnik
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15.09.2004
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer integrierten Schaltungsanordnung
Optik & Fototechnik
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15.09.2004
Lithographischer Projektionsapparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.03.2003
Anhängig
Vertretung
Prins, Adrianus Willem · Den Haag
Prins, Adrianus Willem, Mr. Ir · Den Haag
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15.09.2004
Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung eines Artikels und damit erzeugter Artikel
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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