ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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14.08.2024
Fluiddüse für die Umgebung einer Strukturierungsvorrichtung in einem Lithographischen Gerät
EP4414784
Optik & Fototechnik
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14.08.2024
Kammer für ein Projektionssystem einer Lithographischen Vorrichtung, Projektionssystem und Lithographisches Gerät
EP4413423
Optik & Fototechnik
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14.08.2024
Metrologieverfahren mit auf ein Ziel unter mehreren Unterschiedlichen Einfallswinkeln Einfallenden Strahlen und Zugehöriges Metrologiewerkzeug
EP4414785
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is a metrology method and metrology tool comprising a first dispersive element (810) operable to receive and scatter source radiation (e.g., hard X-ray, soft X-ray (SXR) or extreme ultraviolet radiation (EUV)) so as to generate first scattered radiation; a final focusing element (815) (e.g., a first grating) being configured to: collect at least a portion of the first scattered radiation, the collected first scattered radiation comprising a plurality of first scattered beams (e.g., of different diffraction orders (m=-1, m=0, m=+1)), each having been scattered in a respective different direction; and focus the collected first scattered radiation on a second dispersive element (e.g., a target being measured, such as a second (target) grating) (820) such that each of the first scattered beams is incident on the second dispersive element (820) at a respective different angle of incidence; and at least one detector (825) operable to detect second scattered radiation (e.g., of different diffraction orders (-1,+1; -1,0; 0,0; +1,-1; +1,0)) having been scattered by the second dispersive element (820). At least one pair of second scattered beams comprised within the second scattered radiation may overlap on the detector (825) to form interference fringes, wherein the metrology tool may be configured to determine a phase difference between the beams of each pair of second scattered beams from the position of respective interference fringes on the detector (825) for each pair of second scattered beams. The metrology tool may comprise a first focusing element (805) being operable to focus the source radiation at an intermediate field plane, wherein the first dispersive element (810) is located at the intermediate field plane or wherein the first dispersive element (810) is located at a defocus distance (dZ) from the intermediate field plane (IFP). Alternatively, the first dispersive element may comprise a virtual first dispersive element (1010) located at a source plane, wherein a radiation source for generating the source radiation may comprise a laser source arrangement operable to generate a pair of radiation beams (laser pulses) (1000a, 1000b) towards a gas target such that the pair of radiation beams (1000a, 1000b) overlaps temporally and spatially and at respective different angles in the gas target so as to generate an interference pattern forming the virtual first dispersive element (1010), wherein a rotatable waveplate (1050) may be provided in the path of at least one radiation beam (1000b) of the pair of radiation beams to control polarization and interference of the radiation beams (1000a, 1000b). The final focusing element (815) may comprise a final focusing mirror element, wherein the final focusing mirror element may comprise a hollow prolate spheroid portion (1100), having a reflective internal surface (1110). The metrology tool is configured to measure a parameter of interest during manufacturing process at multiple angles of incidence simultaneously. |
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07.08.2024
Vorrichtung und Verfahren für Geladene Teilchen
EP4409617
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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07.08.2024
Holographie auf Basis Niederenergetischer Elektronenmikroskopie
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31.07.2024
Objekthalter und Verfahren zur Herstellung des Objekthalters
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31.07.2024
System und Verfahren zur Erzeugung von Superkontinuumstrahlung
EP4407372
Optik & Fototechnik
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31.07.2024
Optisches Modul für Extrem-Ultraviolett-Lichtquelle
EP4405732
Optik & Fototechnik
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24.07.2024
System und Verfahren zur Inspektion durch Fehlermechanismusklassifizierung und -Identifizierung in einem System mit Geladenen Teilchen
EP4402540
Optik & Fototechnik
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24.07.2024
Thermische Konditionierungseinheit, Substrathandhabungsvorrichtung und Lithografische Vorrichtung
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24.07.2024
Sensorsystem
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24.07.2024
Optische Komponente auf Basis einer Photonischen Hohlkernkristallfaser zur Breitbandstrahlungserzeugung
EP4365653
Optik & Fototechnik
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17.07.2024
Fokusmetrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4400913
Optik & Fototechnik
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17.07.2024
Systeme und Verfahren zur Erkennung von Defekten bei einer Musterungsvorrichtung
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17.07.2024
Sem-Bildverbesserung
EP4399731
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.07.2024
Verfahren zur Überwachung eines Lithographischen Verfahrens und Zugehörige Vorrichtungen
EP4399572
Optik & Fototechnik
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17.07.2024
Vorrichtung mit mehreren Ladungsträgerteilstrahlen
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Status
Angemeldet am 30.05.2012
Erteilt am 17.07.2024
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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10.07.2024
Schmierung einer Substratklemme
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03.07.2024
Verfahren zur Bestimmung eines Messrezepts und Zugehörige Vorrichtungen
EP4392829
Optik & Fototechnik
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03.07.2024
Membran für Pellikel
EP4392825
Optik & Fototechnik
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03.07.2024
Objektgreifer, Verfahren zum Halten eines Objekts und Lithographische Vorrichtung
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03.07.2024
Pick And Place mit Chipaktuatoren zur Heterogenen Integration
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Zusammenfassung
A method for die placement is provided, comprising obtaining a plurality of target locations for a plurality of donor dies, measuring locations of the plurality of donor dies, the plurality of donor dies supported by a plurality of die actuators, adjusting the locations of the plurality of donors dies to correspond substantially to the plurality of target locations using the plurality of die actuators, and placing the plurality of donor dies on the plurality of target locations |
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03.07.2024
Multiplex-Ausleseverfahren für Parallele Elektronendetektoren
EP4394841
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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03.07.2024
Objekthalter
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03.07.2024
Maskierungsvorrichtung und Steuerungsverfahren dafür
EP4394503
Optik & Fototechnik
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03.07.2024
Verfahren zur Erzeugung eines Beschleunigungssollwertprofils für ein Bewegliches Objekt, Sollwertgenerator und Lithografische Vorrichtung
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03.07.2024
Quellenmaskenoptimierung auf der Basis Systematischer Effekte auf einen Lithographischen Apparat
EP4394512
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Source mask optimization (SMO) is described. The SMO comprises determining a source configuration (e.g., an illumination pupil) of the lithographic apparatus for first features in a first layer of a pattern based on systematic effects on the lithographic apparatus components that cause feature dependent imaging performance changes for second features in a second layer of the pattern. The systematic effects on the lithographic apparatus components comprise mirror heating, for example. Mirror heating based SMO is performed for a first layer's illumination pupil with a cost function for second layer's performance. For example, mirror heating based SMO may be performed to generate a metal layer illumination pupil that creates less mirror heating impact to a subsequent via layer exposure, and/or mirror heating based SMO may be performed to generate a via layer illumination pupil that is less sensitive to mirror heating caused by a prior metal layer exposure, as representative examples. |
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03.07.2024
Aufnahme und Platzierung auf Aussparungsbasis für Heterogene Integration
EP4394851
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
An apparatus for die placement comprising a first stage comprising a plurality of recesses, the plurality of recesses configured to accept a plurality of donor dies; a second stage comprising a support for one or more targets; and a measurement system, functionally coupled to the first stage, and configured to: obtain locations of the plurality of donor dies in the plurality of recesses of the first stage, and based at least on the obtained locations, provide output signals to adjust the locations of the plurality of donor dies supported by the first stage to correspond to locations of the one or more targets, and based at least in part on the adjusted locations, provide output signals to place the plurality of donor dies on the one or more targets supported by the second stage by relative movement between the first stage and the second stage. |
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26.06.2024
Lithographisches System und Verfahren
EP4390543
Optik & Fototechnik
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26.06.2024
Optisches system
EP4390544
Optik & Fototechnik
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26.06.2024
Detektor zur Detektion von Strahlung
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26.06.2024
Objekttisch
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26.06.2024
Objekttisch
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26.06.2024
Vorrichtung für Geladene Teilchen, Verfahren zur Projektion Geladener Teilchen, Verfahren zur Beurteilung einer Probe
EP4391006
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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26.06.2024
Vorrichtung mit Geladenen Teilchen und Vorrichtung mit Geladenen Teilchen
EP4391009
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.06.2024
Maskenfehlerdetektion
EP4384872
Optik & Fototechnik
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19.06.2024
Spülsystem und Verfahren für eine Lithografische Vorrichtung
EP4386480
Optik & Fototechnik
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19.06.2024
Modulare Anordnung
EP4386808
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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19.06.2024
Lithographischer Apparat und Zugehöriges Verfahren
EP4386479
Optik & Fototechnik
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19.06.2024
System und Verfahren zur Thermischen Konditionierung eines Lithographischen Apparates
EP4386483
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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