ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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19.06.2024
Lithographischer Apparat und Zugehöriges Verfahren
EP4386479
Optik & Fototechnik
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19.06.2024
Vorrichtung und Verfahren zum Elektrostatischen Klemmen eines Substrats
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12.06.2024
Elektronenoptischer Stapel, Modul, Beurteilungsvorrichtung, Verfahren zur Herstellung eines Elektronenoptischen Stapels
EP4383308
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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12.06.2024
Verfahren zur Bestimmung der Entfernung zwischen Zwei Teilstrahlen bei einer Multi-Beamlet-Belichtungsvorrichtung
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Status
Angemeldet am 14.11.2011
Erteilt am 12.06.2024
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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05.06.2024
Ausrichtungsverfahren und Zugehörige Ausrichtungs- und Lithographische Vorrichtungen
EP4379466
Optik & Fototechnik
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Zusammenfassung
Disclosed is a method of correcting position measurement data for an effect of a scan offset, the method comprising: obtaining position measurement data relating to an obliquely scanned measurement along an oblique scan direction over one or more alignment marks, each said one or more alignment marks comprising one or more first direction sub-marks for measurement in a first direction and one or more second direction sub-marks for measurement in a second direction different from said first direction; determining a signal amplitude imbalance metric from said position measurement data, the signal amplitude imbalance metric comprising a ratio of a signal amplitude metric in the first direction to a signal amplitude metric in the second direction; and correcting said position measurement data using said signal amplitude imbalance metric. |
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05.06.2024
Elektrostatische Klemme, Greiferanordnung mit Dieser Klemme, Lithographisches System mit einer Elektrostatischen Klemme und Verfahren zur Herstellung einer Elektrostatischen Klemme
EP4379783
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Zusammenfassung
The disclosure provides an electrostatic clamp for clamping an object, comprising: an electrode layer; a first isolating layer comprising an electrically isolating flexible material arranged on top of the electrode layer, the first isolating layer having a first thickness; a first shielding layer comprising an electrically conductive material arranged on top of the first isolating layer, the first shielding layer having a first shielding thickness and a cut-out pattern for exposing the electrode layer covered with the first isolating layer; and a number of burls of at least 1 µm tall arranged on top of the first shielding layer at the location of the cut-out pattern. |
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30.05.2024
Electron-optical element and method of assessing an electron-optical element
WO2024110486
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 21.11.2023
Anhängig
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29.05.2024
Elektronenoptisches Element und Verfahren zur Beurteilung eines Elektronenoptischen Elements
EP4376046
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.05.2024
Optische Vorrichtung mit Geladenen Teilchen, Beurteilungsvorrichtung, Verfahren zur Beurteilung einer Probe
EP4376048
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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29.05.2024
Photonische Integrierte Schaltung zur Erzeugung von Breitbandstrahlung
EP4375744
Optik & Fototechnik
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29.05.2024
Verfahren und System zur Beurteilung Geladener Teilchen
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29.05.2024
Verfahren und Computerprogramme zur Datenabbildung für eine Datenanalyse mit Geringer Dimension
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29.05.2024
Deformierbares Spiegelsystem
EP4374227
Optik & Fototechnik
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29.05.2024
Datenverarbeitungsvorrichtung und -Verfahren, Beurteilungssystem für Geladene Teilchen und Verfahren
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22.05.2024
Breitbandstrahlungsquelle
EP4372462
Optik & Fototechnik
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22.05.2024
Verfahren zur Herstellung von Photonischen Kristallfasern
EP4371951
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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22.05.2024
Faserherstellungszwischenprodukt und Verfahren zur Herstellung von Photonischen Kristallfasern
EP4371949
Anorganische Chemie & Werkstoffe
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22.05.2024
Objekthalter und Herstellungsverfahren
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22.05.2024
Verfahren und Quellenmodul zur Erzeugung Breitbandiger Strahlung
EP4372463
Optik & Fototechnik
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15.05.2024
Verfahren zur Entkopplung von Variationsquellen in der Halbleiterherstellung
EP4367556
Optik & Fototechnik
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15.05.2024
Bildverzerrungskorrektur bei der Inspektion Geladener Teilchen
EP4367627
Software & Datenverarbeitung
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15.05.2024
Verfahren und System zur Anomaliebasierten Defektinspektion
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15.05.2024
Positionsmesssystem, Positionierungssystem, Lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP4367557
Optik & Fototechnik
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15.05.2024
Breitbandstrahlungsgenerator mit Hohlkern auf der Basis von Photonischen Kristallfasern
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08.05.2024
Verfahren zur Herstellung von Photonischen Kristallfasern
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01.05.2024
Fehlermodusidentifikation
EP4361903
Software & Datenverarbeitung
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01.05.2024
Beleuchtungsmodul für eine Metrologievorrichtung
EP4361703
Optik & Fototechnik
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01.05.2024
Verfahren zur Neigungsmetrologie und Zugehörige Vorrichtungen
EP4361727
Optik & Fototechnik
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01.05.2024
Inferenzmodelltraining
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01.05.2024
Detektor zur Detektion von Strahlung, Verfahren zur Detektion von Strahlung, Bewertungssystem
EP4361683
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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01.05.2024
Druckgetriebene Hülse für Hochdrucktröpfchengeneratordüse
EP4360408
Elektronik & Schaltungstechnik
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01.05.2024
Inspektionswerkzeug, Verfahren und Lithographische Vorrichtung
EP4359866
Optik & Fototechnik
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01.05.2024
Strukturen zur Verwendung auf einem Substrathalter, Substrathalter, Lithografische Vorrichtung und Verfahren
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01.05.2024
Lithographische Vorrichtung, Substrattisch und Herstellungsverfahren
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24.04.2024
Vorrichtung und Verfahren zur Filterung von Messstrahlung
EP4357853
Optik & Fototechnik
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24.04.2024
Verfahren zur Bestimmung einer Absoluten Position eines Objekts, Interferometersystem, Projektionssystem und Lithografische Vorrichtung
EP4357728
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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24.04.2024
Verfahren zur Vorhersage eines Parameters in einem Halbleiterherstellungsverfahren
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24.04.2024
Vorrichtung und Verfahren zur Übertragung von Partikeln
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24.04.2024
Systeme und Verfahren zur Filterung von Inspektionsdaten
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24.04.2024
Beleuchtungsquelle und Zugehöriges Verfahren
EP4356194
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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