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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
17.04.2024
Strahlungsgitterlayout
EP3651183 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
17.04.2024
Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen
EP4354485 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.04.2024
Elektronenoptisches Element
EP4354486 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.04.2024
Optisches System zur Aberrationskorrektur
EP4354200 Optik & Fototechnik
17.04.2024
Ausrichtung von Elektronenoptischen Elementen
EP4354483 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.04.2024
Verfahren zur Kompensation eines Effekts einer Elektrodenverzerrung, Bewertungssystem
EP4352774 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.04.2024
Vorrichtung und Verfahren für Geladene Teilchen
EP4352773 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.04.2024
Verfahren zum Betreiben eines Detektionssystems einer Metrologievorrichtung und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4354224 Optik & Fototechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation
10.04.2024
Verfahren zur Bestimmung von Signalparametern, Heterodynes Interferometersystem, Lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP4172555 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik erteilt
10.04.2024
Optische Komponente auf Basis von Photonischen Hohlkernkristallfasern zur Breitbandigen Strahlungserzeugung
EP3812807 Optik & Fototechnik erteilt
10.04.2024
Elektronenoptisches Modul
EP4350733 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.04.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Berechnung einer Räumlichen Karte im Zusammenhang mit einer Komponente
EP4182757 Optik & Fototechnik erteilt
10.04.2024
Beugungsgitter für Messungen in Euv-Belichtungsanlagen
EP4348315 Optik & Fototechnik
10.04.2024
Verfahren und System zur Bestimmung von Aberrationen eines Projektionssystems
EP4350440 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.04.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Vorhersage einer mit einem Prozess Assoziierten Prozessmetrik
EP4127833 Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik erteilt
03.04.2024
Vorrichtung für Geladene Teilchen
EP4345861 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.03.2024
Optisches Ausrichtungssystem und -Verfahren
EP4343436 Optik & Fototechnik
27.03.2024
Datenverarbeitungsvorrichtung und -Verfahren, Beurteilungssystem für Geladene Teilchen und Verfahren
EP4343812 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.03.2024
Klassifizierung von Produkteinheiten
EP4343472 Steuerungs- & Regelungstechnik
27.03.2024
Datenverarbeitungsvorrichtung und -Verfahren, Beurteilungssystem für Geladene Teilchen und Verfahren
EP4341890 Software & Datenverarbeitung
27.03.2024
Verfahren zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht, Vorrichtung zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht
EP4343020 Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik
27.03.2024
Maskenanordnung
EP4296778 Optik & Fototechnik
27.03.2024
Verfahren und Vorrichtung zum Bonden von Substraten
EP4343827 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.03.2024
Bewertungssystem, Bewertungsverfahren
EP4338190 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.03.2024
Metrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4339703 Optik & Fototechnik
13.03.2024
Temperaturmessung von Optischen Elementen in einem Optischen Gerät
EP4334781 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.03.2024
Optisches Element zur Erzeugung von Breitbandstrahlung
EP4334766 Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
13.03.2024
Kausalfaltungsnetzwerk zur Prozesssteuerung
EP4334782 Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
13.03.2024
Metrologisches Verfahren und Zugehörige Metrologische Vorrichtung
EP4336262 Optik & Fototechnik
13.03.2024
Euv-Strahlungsstrahlleistungsreduktion
EP4336263 Optik & Fototechnik
13.03.2024
Strahlungsvorrichtung mit mehreren Durchgängen
EP4336251 Optik & Fototechnik
13.03.2024
Pellikel und Verfahren zur Bildung des Pellikels zur Verwendung in einer Lithografischen Vorrichtung
EP4336258 Optik & Fototechnik
06.03.2024
Laserstrahlmetrologiesystem, Laserstrahlsystem, Euv-Strahlungsquelle und Lithografische Vorrichtung
EP4330626 Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
06.03.2024
System und Verfahren zur Bewertung Geladener Partikel
EP4333019 Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.03.2024
Vorrichtung mit mehreren Geladenen Partikelstrahlen
EP3616231 Halbleiter & Elektrische Bauelemente erteilt
06.03.2024
Vorrichtung zur Befestigung eines Pellikels
EP4286941 Optik & Fototechnik
06.03.2024
Reinigungsverfahren und Zugehörige Lichtquellenmetrologievorrichtung
EP4330768 Optik & Fototechnik
06.03.2024
Holographisches Lithographiegerät und Verfahren
EP4332678 Optik & Fototechnik
28.02.2024
Verfahren zur Parameterrekonstruktion einer Metrologievorrichtung und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4328670 Optik & Fototechnik
28.02.2024
Steuerung der Aberration in einem Optischen System, Metrologiesystem, Lithografische Vorrichtung und Verfahren dafür
EP4327160 Optik & Fototechnik

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