ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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17.04.2024
Strahlungsgitterlayout
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Status
Angemeldet am 05.05.2014
Erteilt am 17.04.2024
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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17.04.2024
Optische Vorrichtung für Geladene Teilchen
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17.04.2024
Elektronenoptisches Element
EP4354486
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.04.2024
Optisches System zur Aberrationskorrektur
EP4354200
Optik & Fototechnik
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17.04.2024
Ausrichtung von Elektronenoptischen Elementen
EP4354483
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.04.2024
Verfahren zur Kompensation eines Effekts einer Elektrodenverzerrung, Bewertungssystem
EP4352774
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.04.2024
Vorrichtung und Verfahren für Geladene Teilchen
EP4352773
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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17.04.2024
Verfahren zum Betreiben eines Detektionssystems einer Metrologievorrichtung und Zugehörige Metrologievorrichtung
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Zusammenfassung
Disclosed is a method of reading out a detection arrangement, said detection arrangement defining a detection area in terms of plurality of pixels. The method comprises receiving scattered radiation on said detection arrangement; dividing the detection area into at least two different regions of interest based at least on a measurement parameter of said scattered radiation; and employing a respective different readout scheme for each said regions of interest, so as to read out said detection arrangement. |
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10.04.2024
Verfahren zur Bestimmung von Signalparametern, Heterodynes Interferometersystem, Lithographisches Gerät und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
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10.04.2024
Optische Komponente auf Basis von Photonischen Hohlkernkristallfasern zur Breitbandigen Strahlungserzeugung
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10.04.2024
Elektronenoptisches Modul
EP4350733
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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10.04.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Berechnung einer Räumlichen Karte im Zusammenhang mit einer Komponente
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10.04.2024
Beugungsgitter für Messungen in Euv-Belichtungsanlagen
EP4348315
Optik & Fototechnik
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10.04.2024
Verfahren und System zur Bestimmung von Aberrationen eines Projektionssystems
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03.04.2024
Verfahren und Vorrichtung zur Vorhersage einer mit einem Prozess Assoziierten Prozessmetrik
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03.04.2024
Vorrichtung für Geladene Teilchen
EP4345861
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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27.03.2024
Optisches Ausrichtungssystem und -Verfahren
EP4343436
Optik & Fototechnik
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27.03.2024
Datenverarbeitungsvorrichtung und -Verfahren, Beurteilungssystem für Geladene Teilchen und Verfahren
EP4343812
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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27.03.2024
Klassifizierung von Produkteinheiten
EP4343472
Steuerungs- & Regelungstechnik
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27.03.2024
Datenverarbeitungsvorrichtung und -Verfahren, Beurteilungssystem für Geladene Teilchen und Verfahren
EP4341890
Software & Datenverarbeitung
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27.03.2024
Verfahren zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht, Vorrichtung zur Herstellung einer Strukturierten Materialschicht
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27.03.2024
Maskenanordnung
EP4296778
Optik & Fototechnik
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27.03.2024
Verfahren und Vorrichtung zum Bonden von Substraten
EP4343827
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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20.03.2024
Bewertungssystem, Bewertungsverfahren
EP4338190
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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20.03.2024
Metrologieverfahren und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4339703
Optik & Fototechnik
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13.03.2024
Temperaturmessung von Optischen Elementen in einem Optischen Gerät
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13.03.2024
Optisches Element zur Erzeugung von Breitbandstrahlung
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13.03.2024
Kausalfaltungsnetzwerk zur Prozesssteuerung
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13.03.2024
Metrologisches Verfahren und Zugehörige Metrologische Vorrichtung
EP4336262
Optik & Fototechnik
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13.03.2024
Euv-Strahlungsstrahlleistungsreduktion
EP4336263
Optik & Fototechnik
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13.03.2024
Strahlungsvorrichtung mit mehreren Durchgängen
EP4336251
Optik & Fototechnik
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13.03.2024
Pellikel und Verfahren zur Bildung des Pellikels zur Verwendung in einer Lithografischen Vorrichtung
EP4336258
Optik & Fototechnik
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06.03.2024
Laserstrahlmetrologiesystem, Laserstrahlsystem, Euv-Strahlungsquelle und Lithografische Vorrichtung
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06.03.2024
System und Verfahren zur Bewertung Geladener Partikel
EP4333019
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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06.03.2024
Vorrichtung mit mehreren Geladenen Partikelstrahlen
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Status
Angemeldet am 04.04.2018
Erteilt am 06.03.2024
Vertretung
Peters, John Antoine · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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06.03.2024
Vorrichtung zur Befestigung eines Pellikels
EP4286941
Optik & Fototechnik
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06.03.2024
Reinigungsverfahren und Zugehörige Lichtquellenmetrologievorrichtung
EP4330768
Optik & Fototechnik
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06.03.2024
Holographisches Lithographiegerät und Verfahren
EP4332678
Optik & Fototechnik
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28.02.2024
Verfahren zur Parameterrekonstruktion einer Metrologievorrichtung und Zugehörige Metrologievorrichtung
EP4328670
Optik & Fototechnik
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28.02.2024
Steuerung der Aberration in einem Optischen System, Metrologiesystem, Lithografische Vorrichtung und Verfahren dafür
EP4327160
Optik & Fototechnik
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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