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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
13.03.2025
Semi-supervised, self-supervised, and reinforcement learning machine learning models for mask prediction
WO2025051477
Optik & Fototechnik
13.03.2025
Systems and methods for magnetically levitated object stages
WO2025051483
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
13.03.2025
System and method for substrate disturbance minimization, and lithographic apparatus including the system
WO2025051458
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
13.03.2025
Linear motor with cogging compensation
WO2025051467
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
13.03.2025
Method of determining a positioning correction for a lithographic process
WO2025051465
Optik & Fototechnik
13.03.2025
Verstopfungsresistente Tröpfchengeneratoren für Euv-Lichtquellen
EP4774990
Elektronik & Schaltungstechnik
13.03.2025
Retikelkonditionierungsdüse
EP4774589
Optik & Fototechnik
12.03.2025
Wellenlängenverfolgungssystem, Verfahren zur Kalibrierung eines Wellenlängenverfolgungssystems, Lithografischer Apparat, Verfahren zur Bestimmung der Absoluten Position eines Beweglichen Objekts und Interferometersystem
EP3746738
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
12.03.2025
Verfahren zur Bestimmung einer Positionierungskorrektur für einen Lithographischen Prozess
EP4521168
Optik & Fototechnik
12.03.2025
Substratparametermessung
EP4521101
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
12.03.2025
Verfahren zum Betreiben einer Mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
EP4521169
Optik & Fototechnik
12.03.2025
Verfahren zur Bestimmung der Grundursachen von Ereignissen eines Halbleiterherstellungsprozesses und zur Überwachung eines Halbleiterherstellungsprozesses
EP4521181
Steuerungs- & Regelungstechnik
12.03.2025
Verfahren und System zur Überlagerungsmessung unter Verwendung einer Inspektionsvorrichtung für Geladene Teilchen
EP4519735
Optik & Fototechnik
06.03.2025
Carbon Nanotube Pellicle Membrane
WO2025045624
Optik & Fototechnik
06.03.2025
Inspection apparatus, wedge system for reducing aberrations, and method of fabrication thereof
WO2025045510
Optik & Fototechnik
06.03.2025
Electromotive Force Braking in A Lithographic Apparatus
WO2025045499
Optik & Fototechnik
06.03.2025
Multiple pitch sem overlay marks and algorithm for stitching area
WO2025045496
Optik & Fototechnik
06.03.2025
Method of determining an exposure strategy, lithography method and apparatus and computer program
WO2025045481
Optik & Fototechnik
06.03.2025
Lithographic apparatus and associated method
WO2025045456
Optik & Fototechnik
05.03.2025
Verfahren zur Bestimmung einer Belichtungsstrategie, Lithographieverfahren und -Vorrichtung sowie Computerprogramm
EP4517424
Optik & Fototechnik
05.03.2025
Verbesserte Dichtung
EP4517137
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
05.03.2025
Thermisch Betätigtes Kühlsystem
EP4515331
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
27.02.2025
Verfahren zur Reduzierung der Auswirkungen von Parasitären Kräften Und/oder Momenten auf die Abbildungsqualität einer Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsanlage mit einem Modul
WO2025040459
Optik & Fototechnik
27.02.2025
Confidentiality-preserving collaborative model for deriving information on a production system
WO2025040341
Software & Datenverarbeitung
27.02.2025
Anisotropic Resist Patterning
WO2025040344
Optik & Fototechnik
27.02.2025
Vertically federated training of a machine learning model used by different participants for configuring a semiconductor manufacturing process
WO2025040320
Optik & Fototechnik
27.02.2025
Optisches System und Verfahren
EP4767122
Optik & Fototechnik
27.02.2025
Verfahren und System zur Optimierung von Quelle, Maske und Wellenfront auf Basis eines Diffraktionsmusters zur Reduzierung von M3D-Fading
EP4767120
27.02.2025
Lernbasierte Lokale Ausrichtung für Kantenplatzierungsmetrologie
EP4767299
Software & Datenverarbeitung
27.02.2025
Optisches System und Verfahren
WO2025040304
Optik & Fototechnik
27.02.2025
Lernbasierte Lokale Ausrichtung für Kantenplatzierungsmetrologie
WO2025040361
Software & Datenverarbeitung
27.02.2025
Verfahren und System zur Optimierung von Quelle, Maske und Wellenfront auf Basis eines Diffraktionsmusters zur Reduzierung von M3D-Fading
WO2025040387
Optik & Fototechnik
26.02.2025
Vorrichtung zur Steuerung der Strahlungsintensität für Belichtungen mit nicht Konstanter Geschwindigkeit
EP4513267
Optik & Fototechnik
26.02.2025
Membran für die Membran einer Lithographischen Vorrichtung
EP4511698
Optik & Fototechnik
26.02.2025
Optische Vorrichtung und Verfahren für Geladene Teilchen
EP4511860
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.02.2025
Bildverzerrungskorrektur für Prozessmodellbasierte Rasterelektronenmikroskopie (sem)
WO2025036631
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
20.02.2025
Bildverzerrungskorrektur für Prozessmodellbasierte Rasterelektronenmikroskopie (sem)
EP4758471
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
20.02.2025
Lasergesteuertes Brennstoffbetanken durch Thermonukleare Fusion
EP4758637
20.02.2025
Verfahren und System zur Erzeugung eines Overlay-Toleranten Maskenmusterentwurfs
WO2025036637
Optik & Fototechnik
20.02.2025
Systeme und Verfahren zur Hybriden Abtastplanerzeugung und Genauen Chipverlustprojektion
WO2025036991
Steuerungs- & Regelungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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