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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
20.02.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Strukturierungsverfahrensparameters
EP3444674
Optik & Fototechnik
20.02.2019
Verfahren zur Anpassung Vorwärtsgekoppelter Parameter
EP3444673
Optik & Fototechnik
20.02.2019
Metrologieverfahren, Vorrichtung und Computerprogramm
EP3444676
Optik & Fototechnik
20.02.2019
Effiziente Dunkelstromsubtraktion in einem Bildsensor
EP3404909
Nachrichtentechnik & Telekommunikation
14.02.2019
Vibration isolation system and lithographic apparatus
WO2019029908
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
14.02.2019
Computational Metrology
WO2019029933
Optik & Fototechnik
13.02.2019
Rechnerische Metrologie
EP3441819
Optik & Fototechnik
13.02.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Position eines Strahlungspunktes sowie Inspektionsvorrichtung
EP3441820
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
07.02.2019
A device manufacturing method and a computer program product
WO2019025142
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
07.02.2019
Systems and methods for charged particle flooding to enhance voltage contrast defect signal
WO2019025188
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
06.02.2019
Verfahren zur Bestimmung der Mechanischen Eigenschaft einer auf ein Substrat Aufgetragenen Schicht, Steuerungsverfahren für eine Lithographievorrichtung und Lithographievorrichtung
EP3438749
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
06.02.2019
Vorrichtungsherstellungsverfahren und Computerprogrammprodukt
EP3438750
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
31.01.2019
Determining an Edge Roughness Parameter Of A Periodic Structure
WO2019020291
Optik & Fototechnik
31.01.2019
Metrology method and apparatus and computer program
WO2019020292
Optik & Fototechnik
31.01.2019
Particle suppression systems and methods
WO2019020443
Optik & Fototechnik
31.01.2019
Gas injection systems for particle suppression
WO2019020449
Optik & Fototechnik
31.01.2019
Particle traps and barriers for particle suppression
WO2019020445
Optik & Fototechnik
31.01.2019
Particle suppression systems and methods
WO2019020450
Optik & Fototechnik
31.01.2019
Method for parameter determination and apparatus thereof
WO2019020484
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
30.01.2019
Bestimmung eines Kantenrauheitsparameters einer Periodischen Struktur
EP3435161
Optik & Fototechnik
30.01.2019
Elektrische Schaltung zur Emulation Variabler Elektrischer Eigenschaften
EP3435542
Elektronik & Schaltungstechnik
30.01.2019
Metrologieverfahren, Metrologievorrichtung und Computerprogramm
EP3435162
Optik & Fototechnik
24.01.2019
Information determining apparatus and method
WO2019015899
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
24.01.2019
Optical Membrane
WO2019015905
Optik & Fototechnik
24.01.2019
Methods and apparatus for measurement of a parameter of a feature fabricated on a semiconductor substrate
WO2019015995
Optik & Fototechnik
23.01.2019
Informationsbestimmungsvorrichtung und -Verfahren
EP3432071
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
23.01.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Messung eines Parameters einer auf einem Halbleitersubstrat Hergestellten Eigenschaft
EP3432072
Optik & Fototechnik
17.01.2019
Method to obtain a height map of a substrate having alignment marks, substrate alignment measuring apparatus and lithographic apparatus
WO2019011531
Optik & Fototechnik
17.01.2019
Lithographic method and apparatus
WO2019011552
Optik & Fototechnik
17.01.2019
Inspection tool, lithographic apparatus, lithographic system, inspection method and device manufacturing method
WO2019011608
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
17.01.2019
Inspection tool, lithographic apparatus, lithographic system, inspection method and device manufacturing method
WO2019011606
Optik & Fototechnik
17.01.2019
Defect Prediction
WO2019011604
Optik & Fototechnik
17.01.2019
Measurement apparatus
WO2019012495
Optik & Fototechnik
16.01.2019
Inspektionswerkzeug, Lithographische Vorrichtung, Lithographisches System, Inspektionsverfahren und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3428726
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
16.01.2019
Inspektionswerkzeug, Lithographische Vorrichtung, Lithographisches System, Inspektionsverfahren und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3428725
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
10.01.2019
Clearing out method, revealing device, lithographic apparatus, and device manufacturing method
WO2019007590
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
03.01.2019
Method of determining a performance parameter of a process
WO2019001877
Optik & Fototechnik
03.01.2019
Method for determining deformation
WO2019001871
Optik & Fototechnik
03.01.2019
Cooling apparatus and plasma-cleaning station for cooling apparatus
WO2019001922
Optik & Fototechnik
03.01.2019
Methods and patterning devices and apparatuses for measuring focus performance of a lithographic apparatus, device manufacturing method
WO2019001873
Optik & Fototechnik

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Technologiefelder

Optik & Fototechnik
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727
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
356
Elektronik & Schaltungstechnik
223
Software & Datenverarbeitung
132
Elektrische Energietechnik
125
Steuerungs- & Regelungstechnik
60
Maschinenelemente & Fluidtechnik
37
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
34
Verfahrens- & Trenntechnik
33
Anorganische Chemie & Werkstoffe
33
Metallurgie & Oberflächentechnik
20

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