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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
14.03.2019
Beat patterns for alignment on small metrology targets
WO2019048216
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Lithographic apparatus and method
WO2019048198
Optik & Fototechnik
14.03.2019
A method of measuring a parameter and apparatus
WO2019048215
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Methods of inspecting samples with multiple beams of charged particles
WO2019048293
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
14.03.2019
Methods and systems for clamping a substrate
WO2019049588
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Metrology method and apparatus
WO2019048214
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Method and metrology apparatus to determine a patterning process parameter
WO2019048342
Optik & Fototechnik
14.03.2019
Training methods for machine learning assisted optical proximity error correction
WO2019048506
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
13.03.2019
Metrologieverfahren und -Vorrichtung
EP3454123
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Schlagmuster zur Ausrichtung auf Kleine Metrologieziele
EP3454129
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Verfahren zur Bestimmung eines Strukturierungsverfahrensparameters
EP3454124
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Lithografisches Verfahren und System
EP3011645
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
13.03.2019
Verfahren zum Messen eines Parameters und Vorrichtung
EP3454125
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Verfahren zur Schätzung von Überlagerung
EP3454126
Optik & Fototechnik
13.03.2019
Verfahren und Strukturierungsvorrichtungen sowie Vorrichtungen zur Messung der Fokusleistung einer Lithografievorrichtung, Verfahren zur Herstellung der Vorrichtung
EP3454127
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
07.03.2019
Memory device with predetermined start-up value
WO2019045087
Optik & Fototechnik Akustik, Musik & Datenspeicherung
07.03.2019
Lithographic apparatus adjustment method
WO2019042757
Optik & Fototechnik
07.03.2019
Substrate, metrology apparatus and associated methods for a lithographic process
WO2019042726
Optik & Fototechnik
07.03.2019
Heating system for an optical component of a lithographic apparatus
WO2019042656
Optik & Fototechnik
07.03.2019
Electron Beam Inspection Tool
WO2019042905
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.03.2019
Electron beam inspection apparatus stage positioning
WO2019043204
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.03.2019
Method for monitoring a manufacturing process
WO2019042783
Optik & Fototechnik
07.03.2019
Optical systems, metrology apparatus and associated methods
WO2019042809
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
06.03.2019
Verfahren zur Überwachung eines Herstellungsprozesses
EP3451061
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
06.03.2019
Substrat, Metrologievorrichtung und Zugehörige Verfahren für einen Lithographischen Prozess
EP3451060
Optik & Fototechnik
06.03.2019
Lithographischer Immersionsapparat und Verfahren zum Betrieb davon
EP1528433
Optik & Fototechnik
28.02.2019
Method of determining a parameter of a pattern transfer process, device manufacturing method
WO2019038054
Optik & Fototechnik
28.02.2019
A clear-out tool, a lithographic apparatus and a device manufacturing method
WO2019037964
Optik & Fototechnik
28.02.2019
Method of calibrating focus measurements, measurement method and metrology apparatus, lithographic system and device manufacturing method
WO2019037953
Optik & Fototechnik
28.02.2019
Receptacle for capturing material that travels on a material path
WO2019038103
Elektronik & Schaltungstechnik
27.02.2019
Verfahren zur Kalibrierung von Fokusmessungen, Messverfahren und Metrologievorrichtung, Lithographisches System und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3447580
Optik & Fototechnik
27.02.2019
Verfahren und System zur Entfernung Und/oder Vermeidung von Verunreinigungen in Ladungsteilchenstrahlsystemen
EP3446325
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.02.2019
Ausräumwerkzeug, Lithographische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP3447581
Optik & Fototechnik
27.02.2019
Verfahren zur Anpassung von Datensätzen, Verfahren zur Planung der Wartung und Vorrichtung
EP3446262
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
21.02.2019
Optical Detector
WO2019034321
Optik & Fototechnik
21.02.2019
Metrology method
WO2019034411
Optik & Fototechnik
21.02.2019
Method to determine a patterning process parameter
WO2019034409
Optik & Fototechnik
21.02.2019
Alignment measurement system
WO2019034318
Optik & Fototechnik
21.02.2019
Method of adapting feed-forward parameters
WO2019034342
Optik & Fototechnik
20.02.2019
Effiziente Dunkelstromsubtraktion in einem Bildsensor
EP3404909
Nachrichtentechnik & Telekommunikation

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