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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
25.01.2018
Determining the combination of patterns to be applied to a substrate in a lithography step
WO2018015114
Optik & Fototechnik
25.01.2018
Method of measuring a target, substrate, metrology apparatus, and lithographic apparatus
WO2018015179
Optik & Fototechnik
25.01.2018
Method of predicting patterning defects caused by overlay error
WO2018015181
Optik & Fototechnik
18.01.2018
Method and apparatus for determining a fingerprint of a performance parameter
WO2018010928
Optik & Fototechnik
18.01.2018
Cyclic Error Measurements And Calibration Procedures in Interferometers
WO2018010961
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
18.01.2018
Method and apparatus for design of a metrology target field
WO2018010979
Optik & Fototechnik
18.01.2018
Visualizing performance metrics of computational analyses of design layouts
WO2018010940
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
17.01.2018
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Fingerabdrucks eines Leistungsparameters
EP3270225
Optik & Fototechnik
17.01.2018
Verifizierung der Positionierung Einzelner Lichtstrahlen in der Mehrstrahllithografie
EP3268977
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
17.01.2018
Vorrichtung mit mehreren Geladenen Teilchenstrahlen
EP3268979
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Elektrische Energietechnik
11.01.2018
Illumination source for an inspection apparatus, inspection apparatus and inspection method
WO2018007108
Optik & Fototechnik
11.01.2018
An Inspection Substrate And an Inspection Method
WO2018007118
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.01.2018
Method and apparatus for calculating electromagnetic scattering properties of finite periodic structures
WO2018007126
Optik & Fototechnik
11.01.2018
An Inspection Substrate And an Inspection Method
WO2018007119
Optik & Fototechnik
04.01.2018
Method and device for pupil illumination in overlay and critical dimension sensors
WO2018001751
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.01.2018
Illumination system for a lithographic or inspection apparatus
WO2018001747
Optik & Fototechnik
21.12.2017
Methods and apparatus for determining the position of a target structure on a substrate, methods and apparatus for determining the position of a substrate
WO2017215924
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.12.2017
Substrate measurement recipe configuration to improve device matching
WO2017215944
Optik & Fototechnik
14.12.2017
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017211510
Elektrische Energietechnik
14.12.2017
Method of determining pellicle compensation corrections for a lithographic process, metrology apparatus and computer program
WO2017211544
Optik & Fototechnik
14.12.2017
Projection system modelling method
WO2017211538
Optik & Fototechnik
14.12.2017
Metrology apparatus
WO2017211545
Optik & Fototechnik
13.12.2017
Verfahren zur Bestimmung von Pellikelkompensierungskorrekturen für ein Lithografisches Verfahren, Metrologievorrichtung und Computerprogramm
EP3255493
Optik & Fototechnik
07.12.2017
Patterning device
WO2017207512
Optik & Fototechnik
30.11.2017
Lithographic apparatus
WO2017202546
Optik & Fototechnik
30.11.2017
Selection of substrate measurement recipes
WO2017202602
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
30.11.2017
Focus and overlay improvement by modifying a patterning device
WO2017202665
Optik & Fototechnik
23.11.2017
Resist Compositions
WO2017198418
Optik & Fototechnik
23.11.2017
Metrology robustness based on through-wavelength similarity
WO2017198422
Optik & Fototechnik
23.11.2017
Method of sequencing lots for a lithographic apparatus
WO2017198478
Optik & Fototechnik
16.11.2017
Position measurement system, calibration method, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2017194277
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
16.11.2017
Method of obtaining measurements, apparatus for performing a process step and metrology apparatus
WO2017194289
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
16.11.2017
Displacement based overlay or alignment
WO2017194285
Optik & Fototechnik
16.11.2017
Multiple miniature pick up elements for a component stacking and/or pick-and-place process
WO2017194286
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
16.11.2017
Identification of hot spots or defects by machine learning
WO2017194281
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
16.11.2017
Radiation conditioning system, illumination system and metrology apparatus, device manufacturing method
WO2017194393
Optik & Fototechnik
09.11.2017
Lithographic method and apparatus
WO2017190905
Optik & Fototechnik
09.11.2017
Method and apparatus for generating illuminating radiation
WO2017191084
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
08.11.2017
Tragetisch für eine Lithografische Vorrichtung, Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP3049869
Optik & Fototechnik
02.11.2017
Method and apparatus for controlling alignment
WO2017186447
Optik & Fototechnik

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