ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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02.11.2017
Method and apparatus for determining the property of a structure, device manufacturing method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 11.04.2017
Anhängig
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02.11.2017
Measurement system, calibration method, lithographic apparatus and positioner
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.04.2017
Anhängig
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02.11.2017
Hhg source, inspection apparatus and method for performing a measurement
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 12.04.2017
Anhängig
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02.11.2017
Reducing The Effect Of Plasma On an Object in an Extreme Ultraviolet Light Source
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 04.04.2017
Anhängig
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26.10.2017
Substrate support, lithographic apparatus and loading method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 21.03.2017
Anhängig
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26.10.2017
Determination of stack difference and correction using stack difference
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.03.2017
Anhängig
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19.10.2017
Mark position determination method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.02.2017
Anhängig
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19.10.2017
Metrology target, method and apparatus, target design method, computer program and lithographic system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.03.2017
Anhängig
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19.10.2017
Method for adjusting actuation of a lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.04.2017
Anhängig
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19.10.2017
Mapping of patterns between design layout and patterning device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 04.04.2017
Anhängig
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18.10.2017
Methode zur Erzeugung eines optischen Elements, lithographischer Apparat sowie Methode zur Herstellung eines Geräts
Optik & Fototechnik
Elektrische Energietechnik
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Status
Angemeldet am 24.11.2003
Erteilt am 18.10.2017
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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12.10.2017
Patterning device cooling apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.03.2017
Anhängig
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05.10.2017
Substrate Edge Detection
Optik & Fototechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 23.03.2017
Anhängig
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04.10.2017
Lithographische Vorrichtung und Verfahren
Optik & Fototechnik
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04.10.2017
Metrologisches Verfahren, Computerprodukt und System
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 30.10.2015
Anhängig
Vertretung
Broeken, Petrus Henricus Johannes · Veldhoven
ASML Netherlands B.V · Veldhoven
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28.09.2017
Patterning device cooling system and method of thermally conditioning a patterning device
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.02.2017
Anhängig
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28.09.2017
Optimization of a lithographic projection apparatus accounting for an interlayer characteristic
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.03.2017
Anhängig
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27.09.2017
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.02.2007
Erteilt am 27.09.2017
Vertretung
Maas, Abraham Johannes · Veldhoven
van Os, Lodewijk Hubertus · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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21.09.2017
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.01.2017
Anhängig
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21.09.2017
Inspection method, inspection apparatus and illumination method and apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.02.2017
Anhängig
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14.09.2017
Level sensor and lithographic apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.01.2017
Anhängig
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14.09.2017
Measurement system, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.01.2017
Anhängig
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14.09.2017
Inspection apparatus and method, lithographic apparatus, method of manufacturing devices and computer program
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 14.02.2017
Anhängig
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14.09.2017
Electron source for a free electron laser
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 07.02.2017
Anhängig
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14.09.2017
Multilayer reflector, method of manufacturing a multilayer reflector and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.02.2017
Anhängig
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14.09.2017
Illumination system and metrology system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.02.2017
Anhängig
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14.09.2017
Method of calculating corrections for controlling a manufacturing process, metrology apparatus, device manufacturing method and modeling method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2017
Anhängig
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13.09.2017
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 14.01.2005
Erteilt am 13.09.2017
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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08.09.2017
Vibration isolator, lithographic apparatus and device manufacturing method
Maschinenelemente & Fluidtechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 03.02.2017
Anhängig
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08.09.2017
Wavelength combining of multiple sources
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 07.02.2017
Anhängig
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08.09.2017
Metrology apparatus, method of measuring a structure and lithographic apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 08.02.2017
Anhängig
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08.09.2017
Metrology method and lithographic method, lithographic cell and computer program
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 21.02.2017
Anhängig
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08.09.2017
Method for characterizing distortions in a lithographic process, lithographic apparatus, lithographic cell and computer program
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.02.2017
Anhängig
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08.09.2017
Method and apparatus to determine a patterning process parameter
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.03.2017
Anhängig
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08.09.2017
Method and apparatus to determine a patterning process parameter
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 01.03.2017
Anhängig
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08.09.2017
Method and apparatus to determine a patterning process parameter
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 01.03.2017
Anhängig
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08.09.2017
Method and apparatus to determine a patterning process parameter
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 01.03.2017
Anhängig
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08.09.2017
Method and apparatus to determine a patterning process parameter
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.03.2017
Anhängig
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08.09.2017
Method and apparatus for purifying target material for euv light source
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Metallurgie & Oberflächentechnik
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Status
Angemeldet am 09.02.2017
Anhängig
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31.08.2017
Actuator system and lithographic apparatus
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 30.01.2017
Anhängig
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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