ASML Patente
🇳🇱 Niederlande
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
Patente nach Anmeldejahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.
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3.336 gesamt| Patent | |||
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01.05.2014
Patterning device manipulating system and lithographic apparatuses
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 20.09.2013
Anhängig
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01.05.2014
Lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 23.09.2013
Anhängig
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01.05.2014
Substrate positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 17.10.2013
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24.04.2014
Actuation mechanism, optical apparatus, lithography apparatus and method of manufacturing devices
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 17.09.2013
Anhängig
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24.04.2014
Target material supply apparatus for an extreme ultraviolet light source
Metallurgie & Oberflächentechnik
Maschinenelemente & Fluidtechnik
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Status
Angemeldet am 25.09.2013
Anhängig
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17.04.2014
Mark position measuring apparatus and method, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 23.09.2013
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16.04.2014
Systeme und Verfahren zur Puffergasstromstabilisierung in einer Lasererzeugten Plasmalichtquelle
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 10.05.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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10.04.2014
Position measuring apparatus, position measuring method, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 20.09.2013
Anhängig
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10.04.2014
Harsh Environment Optical Element Protection
Elektronik & Schaltungstechnik
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Angemeldet am 25.09.2013
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03.04.2014
Quantitative reticle distortion measurement system
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 27.08.2013
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03.04.2014
Reticle Heater To Keep Reticle Heating Uniform
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.08.2013
Anhängig
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03.04.2014
Pre-compensate target material push-out for euv light
Elektrische Energietechnik
Elektronik & Schaltungstechnik
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Angemeldet am 20.08.2013
Anhängig
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27.03.2014
Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 19.08.2013
Anhängig
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27.03.2014
Method of calibrating a reluctance actuator assembly, reluctance actuator and lithographic apparatus comprising such reluctance actuator
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.08.2013
Anhängig
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26.03.2014
Filter für eine Materialzufuhrvorrichtung
Verfahrens- & Trenntechnik
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
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Status
Angemeldet am 20.03.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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19.03.2014
Tröpfchengenerator mit durch ein Stellglied Aktivierter Düsenreinigung
Medizintechnik & Gesundheit
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 29.03.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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13.03.2014
Seed laser mode stabilization system and method
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 13.08.2013
Anhängig
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06.03.2014
Deformation pattern recognition method, pattern transferring method, processing device monitoring method, and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 27.06.2013
Anhängig
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06.03.2014
Reticle cleaning by means of sticky surface
Haushalts-, Möbel- & Konsumgüter
Verfahrens- & Trenntechnik
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Status
Angemeldet am 30.07.2013
Anhängig
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06.03.2014
Real-Time Reticle Curvature Sensing
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 01.08.2013
Anhängig
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27.02.2014
Method of preparing a pattern, method of forming a mask set, device manufacturing method and computer program
Optik & Fototechnik
Software & Datenverarbeitung
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Status
Angemeldet am 02.08.2013
Anhängig
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27.02.2014
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 15.08.2013
Anhängig
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27.02.2014
Lithographic apparatus, device manufacturing method and displacement measurement system
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 02.08.2013
Anhängig
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26.02.2014
Artikelhalter für einen lithographischen Apparat
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 09.07.2004
Erteilt am 26.02.2014
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Winckels, Johannes Hubertus F · Den Haag
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26.02.2014
Sicherheitseinrichtung für ein Gerät zur lithographischen Mustererzeugung
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 22.07.2004
Erteilt am 26.02.2014
Vertretung
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
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20.02.2014
Method and apparatus for measuring asymmetry of a microstructure, position measuring method, position measuring apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.07.2013
Anhängig
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13.02.2014
Methods for providing lithography features on a substrate by self-assembly of block copolymers
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 26.07.2013
Anhängig
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12.02.2014
Lithographischer Immersionsapparat und Verfahren zur Detektion von Verunreinigungen
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.09.2008
Erteilt am 12.02.2014
Vertretung
Corcoran, Gregory Martin Mason · Veldhoven
Van den Hooven, Jan · Veldhoven
Jackson, Martin Peter · London
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06.02.2014
Method and apparatus for generating radiation
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 05.07.2013
Anhängig
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06.02.2014
Position measuring apparatus, position measuring method, lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.07.2013
Anhängig
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06.02.2014
Lithographic apparatus and method of manufacturing a device
Anorganische Chemie & Werkstoffe
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 30.07.2013
Anhängig
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05.02.2014
System und Verfahren zur Kompensation von Wärmeeffekten in einer Euv-Lichtquelle
Elektronik & Schaltungstechnik
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Status
Angemeldet am 06.03.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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30.01.2014
Inspection method and apparatus, lithographic system and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 18.06.2013
Anhängig
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30.01.2014
Lithographic apparatus and device manufacturing method
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 16.07.2013
Anhängig
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23.01.2014
Magnetic device and lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 18.06.2013
Anhängig
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22.01.2014
Strahlungsquelle, lithografische Vorrichtung und Vorrichtungsherstellungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Angemeldet am 08.07.2009
Erteilt am 22.01.2014
Vertretung
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus J. W · Eindhoven
Slenders, Petrus Johannes Waltherus · Eindhoven
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22.01.2014
Antriebslaser-Ausgabesysteme für Euv-Lichtquellen
Medizintechnik & Gesundheit
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.02.2012
Anhängig
Vertretung
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB · München
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16.01.2014
Support for a movable element and lithography apparatus
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 15.05.2013
Anhängig
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16.01.2014
Lithographic cluster system, method for calibrating a positioning device of a lithographic apparatus
Optik & Fototechnik
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Angemeldet am 14.06.2013
Anhängig
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09.01.2014
Metrology for lithography
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 17.06.2013
Anhängig
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Wer vertritt ASML?
Die Kanzleien und Patentanwälte, die ASML vertreten, sowie alle Technologiefelder im vollständigen Anmelder-Profil.
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