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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
08.04.2021
Process monitoring and tuning using prediction models
WO2021063728
Optik & Fototechnik
08.04.2021
Alignment sensor with modulated light source
WO2021063663
Optik & Fototechnik
07.04.2021
Verfahren zur Bestimmung einer Resistdeformation und Verfahren zur Verbesserung eines Lithographischen Prozesses
EP3271783
Optik & Fototechnik
07.04.2021
Messsystem und Verfahren zur Charakterisierung einer Strukturierungsvorrichtung
EP3800505
Optik & Fototechnik
07.04.2021
Netzwerkarchitektur und Protokoll für einen Cluster von Lithografiegeräten
EP2699966
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
07.04.2021
Sensormarkierung
EP3596546
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.04.2021
Method for inferring a processing parameter such as focus and associated appratuses and manufacturing method
WO2021058268
Optik & Fototechnik
01.04.2021
Metrology systems, coherence scrambler illumination sources and methods thereof
WO2021058338
Optik & Fototechnik
01.04.2021
Metrology systems and phased array illumination sources
WO2021058571
Optik & Fototechnik
01.04.2021
Lithographic apparatus, metrology system, and illumination systems with structured illumination
WO2021058313
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
31.03.2021
Strahlungsleitung
EP3798730
Optik & Fototechnik
31.03.2021
Verfahren zum Ableiten eines Verarbeitungsparameters Wie Fokus und Zugehörige Vorrichtungen und Herstellungsverfahren
EP3798729
Optik & Fototechnik
25.03.2021
Method of designing an alignment mark
WO2021052695
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
25.03.2021
Laser module as alignment source, metrology system, and lithographic apparatus
WO2021052790
Optik & Fototechnik Nachrichtentechnik & Telekommunikation
25.03.2021
Improved Broadband Radiation Generation in Hollow-Core Fibres
WO2021052801
Optik & Fototechnik
25.03.2021
System and method for generating predictive images for wafer inspection using machine learning
WO2021052918
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
25.03.2021
A method for filtering an image and associated metrology apparatus
WO2021052772
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
25.03.2021
Methods for generating characteristic pattern and training machine learning model
WO2021052712
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
24.03.2021
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Leistung eines Lithografischen Prozesses
EP3796088
Optik & Fototechnik
24.03.2021
Bestimmung der Leistung der Lithografischen Anpassung
EP3796087
Optik & Fototechnik
24.03.2021
Verfahren zum Filtern eines Bildes und Zugehörige Messtechnische Vorrichtung
EP3796089
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
24.03.2021
Strahlungsquelle
EP3796080
Optik & Fototechnik
18.03.2021
Invariable magnification multilevel optical device with telecentric converter
WO2021047903
Optik & Fototechnik
18.03.2021
Sub-field control of a lithographic process and associated apparatus
WO2021047833
Optik & Fototechnik
18.03.2021
Determining Lithographic Matching Performance
WO2021047841
Optik & Fototechnik
17.03.2021
Teilfeldsteuerung eines Lithografischen Prozesses und Zugehörige Vorrichtung
EP3792693
Optik & Fototechnik
17.03.2021
Anordnung zur Bündelung von Breitbandstrahlung
EP3792673
Optik & Fototechnik
11.03.2021
Metrology method and device for determining a complex-valued field
WO2021043514
Optik & Fototechnik
11.03.2021
Method for determining aberration sensitivity of patterns
WO2021043596
Optik & Fototechnik
11.03.2021
An Improved High Harmonic Generation Apparatus
WO2021043952
Elektronik & Schaltungstechnik
11.03.2021
Method for determining defectiveness of pattern based on after development image
WO2021043936
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.03.2021
Method and apparatus for lithographic process performance determination
WO2021043519
Optik & Fototechnik
11.03.2021
Method for increasing certainty in parameterized model predictions
WO2021043551
Software & Datenverarbeitung
11.03.2021
Mode control of photonic crystal fiber based broadband light sources
WO2021043593
Optik & Fototechnik
11.03.2021
Nozzle apparatus
WO2021044037
Elektronik & Schaltungstechnik
11.03.2021
Assembly for collimating broadband radiation
WO2021043516
Optik & Fototechnik
10.03.2021
Verfahren zum Bestimmen der Fehlerhaftigkeit eines Musters basierend auf einem Bild nach der Entwicklung
EP3789826
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
10.03.2021
Pellikel für die Euv-Lithografie
EP3788442
Optik & Fototechnik
10.03.2021
Verfahren zur Erhöhung der Gewissheit in Parametrisierten Modellvorhersagen
EP3789923
Software & Datenverarbeitung
10.03.2021
Verbesserte Vorrichtung zur Erzeugung von Hohen Harmonischen
EP3790364
Elektronik & Schaltungstechnik

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Technologiefelder

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Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Elektronik & Schaltungstechnik
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Software & Datenverarbeitung
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Elektrische Energietechnik
171
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92
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67
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
60
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55
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39
Metallurgie & Oberflächentechnik
35

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