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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
09.01.2014
A lithographic apparatus
WO2014005780
Optik & Fototechnik
08.01.2014
Systeme und Verfahren zur Optikreinigung in einer Euv-Lichtquelle
EP2681164
Anorganische Chemie & Werkstoffe Optik & Fototechnik
03.01.2014
Lithographic apparatus
WO2014001071
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
01.01.2014
Klemmvorrichtung, Anordnung und lithografische Projektionsvorrichtung
EP2535770
Optik & Fototechnik
27.12.2013
Radiation source and lithographic apparatus.
WO2013189827
Optik & Fototechnik
27.12.2013
Method of determining focus, inspection apparatus, patterning device, substrate and device manufacturing method
WO2013189724
Optik & Fototechnik
19.12.2013
Positioning system, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013186307
Optik & Fototechnik
19.12.2013
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013186136
Optik & Fototechnik
18.12.2013
Korrektur einer Räumlichen Instabilität einer Euv-Quelle durch Laserstrahlsteuerung
EP2041624
Optik & Fototechnik
05.12.2013
A method to determine the usefulness of alignment marks to correct overlay, and a combination of a lithographic apparatus and an overlay measurement system
WO2013178404
Optik & Fototechnik
05.12.2013
Metrology method and apparatus, substrate, lithographic system and device manufacturing method
WO2013178422
Optik & Fototechnik
05.12.2013
Gradient-based pattern and evaluation point selection
WO2013178459
Optik & Fototechnik
05.12.2013
Determining position and curvature information directly from a surface of a patterning device.
WO2013178775
Optik & Fototechnik
04.12.2013
Lithografische Vorrichtung mit einer Dämpfungsunteranordnung
EP2053461
Optik & Fototechnik
04.12.2013
Optischer Fokussensor, Prüfvorrichtung und lithografische Vorrichtung
EP2048543
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Sensor, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013174539
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013174646
Optik & Fototechnik
28.11.2013
Lithographic apparatus
WO2013174656
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
21.11.2013
Thermal conditioning unit, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2013171013
Optik & Fototechnik
14.11.2013
Lithographic apparatus
WO2013167463
Optik & Fototechnik
07.11.2013
Design rule and lithographic process co-optimization
WO2013164187
Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung
06.11.2013
Lithographische Markierungsstruktur, lithographischer Projektionsapparat mit einer solchen Markierungsstruktur und Verfahren zur Ausrichtung eines Substrates unter Verwendung einer solchen Markierungsstruktur
EP1400860
Optik & Fototechnik
06.11.2013
Mehrflutige Optische Vorrichtung
EP2659297
Optik & Fototechnik
31.10.2013
Methods and compositions for providing spaced lithography features on a substrate by self-assembly of block copolymers
WO2013160027
Optik & Fototechnik
31.10.2013
Flexible conduit for fluid, lithographic apparatus, and method for manufacturing a device
WO2013160021
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Maschinenelemente & Fluidtechnik
31.10.2013
Lithography apparatus and device manufacturing method
WO2013160016
Optik & Fototechnik
31.10.2013
Lithographic apparatus comprising an actuator, and method for protecting such actuator
WO2013160123
Optik & Fototechnik
31.10.2013
Contamination trap for a lithographic apparatus
WO2013160083
Optik & Fototechnik
31.10.2013
Lithographic apparatus
WO2013160082
Optik & Fototechnik
24.10.2013
Methods for providing spaced lithography features on a substrate by self-assembly of block copolymers
WO2013156240
Optik & Fototechnik
24.10.2013
Mask for lithographic apparatus and methods of inspection
WO2013156328
Optik & Fototechnik
23.10.2013
Lithografische Vorrichtung
EP1870772
Optik & Fototechnik
17.10.2013
Position measuring method, position measuring apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method, optical element
WO2013152878
Optik & Fototechnik
17.10.2013
Rotatable frame for a lithographic apparatus
WO2013152877
Optik & Fototechnik
17.10.2013
Pellicle, reticle assembly and lithographic apparatus
WO2013152921
Optik & Fototechnik
17.10.2013
Methods of providing patterned epitaxy templates for self-assemblable block copolymers for use in device lithography
WO2013152928
Optik & Fototechnik
09.10.2013
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1486828
Optik & Fototechnik
03.10.2013
Fuel system for lithographic apparatus, euv source,lithographic apparatus and fuel filtering method
WO2013143733
Elektronik & Schaltungstechnik
03.10.2013
Substrate table system, lithographic apparatus and substrate table swapping method
WO2013143777
Optik & Fototechnik
03.10.2013
Metrology method and apparatus, lithographic system and device manufacturing method
WO2013143814
Optik & Fototechnik

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33
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