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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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3.336 gesamt
Patent
18.09.2014
Methods for providing spaced lithography features on a substrate by self-assembly of block copolymers
WO2014139795
Optik & Fototechnik
18.09.2014
Patterning device, method of producing a marker on a substrate and device manufacturing method
WO2014139855
Optik & Fototechnik
18.09.2014
Methods for providing lithography features on a substrate by self-assembly of block copolymers
WO2014139793
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
18.09.2014
Lithographic apparatus and to a reflector apparatus
WO2014139763
Optik & Fototechnik
18.09.2014
Target for laser produced plasma extreme ultraviolet light source
WO2014143504
Elektronik & Schaltungstechnik
18.09.2014
Target for extreme ultraviolet light source
WO2014143522
Elektrische Energietechnik
17.09.2014
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Artikels
EP1482375
Optik & Fototechnik
17.09.2014
Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Entfernung oder Verhinderung von Verschmutzung
EP2019335
Optik & Fototechnik
03.09.2014
Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1380899
Optik & Fototechnik
28.08.2014
Discrete Source Mask Optimization
WO2014127986
Optik & Fototechnik
28.08.2014
A lithography model for three-dimensional patterning device
WO2014127985
Optik & Fototechnik
28.08.2014
Gas Flow Optimization in Reticle Stage Environment
WO2014128232
Optik & Fototechnik
21.08.2014
Radiation source-collector and method for manufacture
WO2014124769
Elektrische Energietechnik Elektronik & Schaltungstechnik
21.08.2014
Methods for providing spaced lithography features on a substrate by self-assembly of block copolymers
WO2014124795
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
21.08.2014
System and method for adjusting seed laser pulse width to control euv output energy
WO2014126667
Elektronik & Schaltungstechnik
14.08.2014
Radiation source for an euv optical lithographic apparatus, and lithographic apparatus comprising such a power source
WO2014121873
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
14.08.2014
Lithographic apparatus
WO2014122151
Optik & Fototechnik
14.08.2014
Lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2014122223
Optik & Fototechnik Steuerungs- & Regelungstechnik
31.07.2014
Projection system, mirror and radiation source for a lithographic apparatus
WO2014114405
Optik & Fototechnik
31.07.2014
Thermal Monitor For an Extreme Ultraviolet Light Source
WO2014116371
Elektronik & Schaltungstechnik
17.07.2014
Method of timing laser beam pulses to regulate extreme ultraviolet light dosing
WO2014109876
Elektronik & Schaltungstechnik
09.07.2014
Strahlungsquelle, Lithographischer Apparat, Düse, und Verfahren zur Herstellung einer Düse
EP2752098
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik Optik & Fototechnik
26.06.2014
Substrate support for a lithographic apparatus and lithographic apparatus
WO2014095266
Optik & Fototechnik
26.06.2014
Beam delivery for euv lithography
WO2014095261
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
26.06.2014
Beam delivery for euv lithography
WO2014095262
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
26.06.2014
Lithographic apparatus and table for use in such an apparatus
WO2014096299
Optik & Fototechnik
25.06.2014
Energiesensoren zur Lichtstrahlenausrichtung
EP2745650
Elektronik & Schaltungstechnik
19.06.2014
Power source for a lithographic apparatus, and lithographic apparatus comprising such a power source
WO2014090480
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
05.06.2014
Method and apparatus for determining lithographic quality of a structure
WO2014082813
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
05.06.2014
Droplet generator, euv radiation source, lithographic apparatus, method for generating droplets and device manufacturing method
WO2014082811
Elektronik & Schaltungstechnik
05.06.2014
Method of determining dose and focus, inspection apparatus, patterning device, substrate and device manufacturing method
WO2014082938
Optik & Fototechnik
22.05.2014
Radiation source and method for lithography
WO2014075881
Elektronik & Schaltungstechnik
15.05.2014
Method and apparatus for generating radiation
WO2014072149
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
15.05.2014
Viewport Protector For an Extreme Ultraviolet Light Source
WO2014074302
Optik & Fototechnik
08.05.2014
Method and apparatus for generating radiation
WO2014067741
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
08.05.2014
Sensor and lithographic apparatus
WO2014067754
Optik & Fototechnik
08.05.2014
Patterning device support, lithographic apparatus, and method of controlling patterning device temperature
WO2014067802
Optik & Fototechnik
08.05.2014
Method and apparatus for measuring asymmetry of a microstructure, position measuring method, position measuring apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
WO2014068116
Optik & Fototechnik
07.05.2014
Apparat und Verfahren zur Herstellung eines Elektromagnetischen Strahlungsbündels mit einer Plasmastrahlungsquelle, und Lithographischer Apparat
EP2111568
Optik & Fototechnik
01.05.2014
Patterning device support and lithographic apparatus
WO2014063874
Optik & Fototechnik

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