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ASML Patente

🇳🇱 Niederlande

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380
Patente
2000–2026
Anmeldejahre
27
Aktive Jahre

Patente nach Anmeldejahr

Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung.

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5.380 gesamt
Patent
25.07.2019
Lithographic apparatus, operating method and device manufacturing method
WO2019141450
Optik & Fototechnik Elektrische Energietechnik
25.07.2019
Scan Signal Characterization Diagnostics
WO2019141481
Optik & Fototechnik
25.07.2019
Method of measuring a target, and metrology apparatus
WO2019141479
Optik & Fototechnik
24.07.2019
Verfahren zur Messung eines Ziels und Metrologievorrichtung
EP3514628
Optik & Fototechnik
24.07.2019
Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Parametrisierten Geometrischen Modells einer Struktur und Zugehörige Inspektionsvorrichtung sowie Verfahren
EP3514629
Optik & Fototechnik
18.07.2019
Lithographic method and apparatus
WO2019137725
Optik & Fototechnik
18.07.2019
Apparatus for and method of controlling coalescence of droplets in a droplet stream
WO2019137846
Elektronik & Schaltungstechnik
11.07.2019
Positioning device, lithographic apparatus, method for compensating a balance mass torque and device manufacturing method
WO2019134776
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
11.07.2019
Lithographic apparatus and method
WO2019134775
Optik & Fototechnik
11.07.2019
Optical measurement method and sensor apparatus
WO2019134787
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.07.2019
A metrology apparatus for and a method of determining a characteristic of interest of a structure on a substrate
WO2019129465
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
04.07.2019
Apparatus for and a method of removing contaminant particles from a component of an apparatus
WO2019129456
Optik & Fototechnik
04.07.2019
Method of processing data, method of obtaining calibration data
WO2019129468
Optik & Fototechnik
04.07.2019
Methods and systems for defect inspection and review
WO2019129569
Software & Datenverarbeitung
04.07.2019
Method and device for determining adjustments to sensitivity parameters
WO2019129485
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
03.07.2019
System zur Überlagerungsmessung, Lithografisches Gerät, und Verfahren zur Herstellung von Bauelementen unter Verwendung eines Solchen Systems zur Überlagerungsmessung
EP2304504
Optik & Fototechnik
03.07.2019
Vorrichtung und Verfahren zum Entfernen von Kontaminierenden Teilchen aus einer Komponente einer Metrologievorrichtung
EP3506011
Optik & Fototechnik
27.06.2019
Lithographic method and apparatus
WO2019120968
Optik & Fototechnik
27.06.2019
Patterning Process Improvement Involving Optical Aberration
WO2019121491
Optik & Fototechnik
27.06.2019
Systems and methods for reducing resist model prediction errors
WO2019122250
Optik & Fototechnik
27.06.2019
Inspection tool and method of determining a distortion of an inspection tool
WO2019121883
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
27.06.2019
Process window based on defect probability
WO2019121486
Optik & Fototechnik
27.06.2019
Lithography supports with defined burltop topography
WO2019120921
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
26.06.2019
Inspektionswerkzeug und Verfahren zur Bestimmung einer Verzerrung eines Inspektionswerkzeugs
EP3503157
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.06.2019
Method for manufacturing damper device, lithographic apparatus, projection system, and device manufacturing method
WO2019115134
Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik
20.06.2019
Lithographic apparatus with improved patterning performance
WO2019115196
Optik & Fototechnik
20.06.2019
Substrate holder for use in a lithographic apparatus
WO2019115195
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.06.2019
Regeneration of a debris flux measurement system in a vacuum vessel
WO2019115144
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
20.06.2019
Voltage Contrast Metrology Mark
WO2019115391
Optik & Fototechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente
20.06.2019
Prediction of out of specification physical items
WO2019115426
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
20.06.2019
Method for controlling a manufacturing apparatus and associated apparatuses
WO2019115431
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
20.06.2019
Beam Splitting Prism Systems
WO2019115278
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
19.06.2019
Laserproduzierte Plasma-Euv-Lichtquelle
EP2115406
Optik & Fototechnik Elektronik & Schaltungstechnik
19.06.2019
Verfahren zur Steuerung einer Fertigungsvorrichtung und Zugehörige Vorrichtungen
EP3499311
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik
19.06.2019
Metrologievorrichtung und Verfahren zur Bestimmung eines Interessierenden Merkmals
EP3499312
Optik & Fototechnik
13.06.2019
Method for controlling a manufacturing apparatus and associated apparatuses
WO2019110238
Optik & Fototechnik
13.06.2019
Method of determining information about a patterning process, method of reducing error in measurement data, method of calibrating a metrology process, method of selecting metrology targets
WO2019110254
Optik & Fototechnik
13.06.2019
Measurement method, patterning device and device manufacturing method
WO2019110211
Optik & Fototechnik
13.06.2019
Method for controlling a lithographic apparatus and associated apparatuses
WO2019110261
Optik & Fototechnik
13.06.2019
Systems and methods for predicting layer deformation
WO2019110403
Optik & Fototechnik

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60
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35

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